DANVERS，馬薩諸塞州 - 宜必思科技公司今天宣布與三星電子達(dá)成聯(lián)合開發(fā)協(xié)議有限公司和三菱材料硅公司（Mitsubishi Materials Silicon Corp.）優(yōu)化用于高性能CMOS半導(dǎo)體的絕緣體上硅（SOI）技術(shù)。

三家公司計(jì)劃建立三方合作伙伴關(guān)系，以提升宜必思通過氧離子注入（SIMOX）SOI改善器件可靠性，性能和其他制造優(yōu)勢。根據(jù)協(xié)議，三星將使用Ibis的Advantox SIMOX-SOI晶圓制造CMOS器件，以驗(yàn)證改進(jìn)。三菱將對材料參數(shù)進(jìn)行認(rèn)證，提供晶圓基板，并與三星合作以確定結(jié)果。

“通過優(yōu)化Advantox晶圓用于高性能CMOS器件應(yīng)用，合作伙伴關(guān)系使Ibis受益，”總裁兼總裁Martin Reid表示。宜必思首席執(zhí)行官，去年與三菱材料公司簽訂了SOI許可協(xié)議（見1999年11月30日，故事）。 “當(dāng)然，客戶將通過這種合作伙伴關(guān)系獲得改進(jìn)和增強(qiáng)的Advantox產(chǎn)品的好處，”他補(bǔ)充道。“

Ibis表示去年推出了Advantox基板產(chǎn)品組合，以努力擴(kuò)大SIMOX-SOI晶圓的商業(yè)應(yīng)用范圍，并增強(qiáng)Ibis 1000種植體系統(tǒng)的功能。