俄勒岡州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布擴(kuò)大合作用于使用亞波長(zhǎng)光掩模改善晶圓廠產(chǎn)量的產(chǎn)品。兩家公司表示，Mentor網(wǎng)站將提供用于KLA-Tencor關(guān)鍵尺寸（CD）掃描電子顯微鏡（SEM）工具的新計(jì)量模板，以減少設(shè)置時(shí)間并幫助在過(guò)程監(jiān)控應(yīng)用中收集數(shù)據(jù)。

Calibre Optical＆amp;過(guò)程校正測(cè)試模式可從Mentor下載，用于KLA-Tencor的每個(gè)8100XP系列CD-SEM測(cè)量系統(tǒng)。模板和CD-SEM系統(tǒng)協(xié)同工作，直接測(cè)量掩模誤差增強(qiáng)功能（MEEF），它表征了從光罩上印刷在硅上的誤差的影響。

“當(dāng)將Mentor模板與能力結(jié)合起來(lái)時(shí)在同一張CD SEM中快速測(cè)量光罩和印刷晶圓，工藝學(xué)習(xí)率呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)，“KLA-Tencor電子束計(jì)量部門營(yíng)銷總監(jiān)Rich Quattrini說(shuō)。 “這為我們的客戶在快速將新的光刻技術(shù)引入批量生產(chǎn)方面提供了強(qiáng)大的優(yōu)勢(shì)?！?/p>

在今天宣布之前，威爾遜維爾的Mentor與KLA-Tencor的光柵和光掩模部門合作調(diào)整OPC算法以增加檢查能力。 Mentor和Finle Technologies最近收購(gòu)了幾篇關(guān)于MEEF和模擬問(wèn)題理論方面的技術(shù)論文，最近被San Jose KLA-Tencor收購(gòu)。

“展望未來(lái)，IC設(shè)計(jì)的驗(yàn)證和可制造性工具必須考慮到大量的掩模和芯片問(wèn)題，當(dāng)事情變小時(shí)會(huì)變得更加困難，“Mentor的Calibre業(yè)務(wù)部門主管Joe Sawicki說(shuō)。 “確保電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具可以使用來(lái)自合作伙伴（如KLA-Tencor）的高質(zhì)量數(shù)據(jù)來(lái)設(shè)計(jì)產(chǎn)量，這是確保亞波長(zhǎng)設(shè)計(jì)產(chǎn)量更高的必要途徑?！?/p>

光刻中的OPC策略KLA-Tencor公司光刻解決方案部副總裁斯科特·阿什肯納茲表示，現(xiàn)在需要保持先進(jìn)的制造產(chǎn)量不會(huì)崩潰。 “成功實(shí)施OPC的一個(gè)關(guān)鍵是對(duì)MEEF的理解，這只會(huì)變得越來(lái)越重要，”他說(shuō)。 “導(dǎo)師一直非常積極地量化這些現(xiàn)象并調(diào)整他們的軟件以正確地考慮它們?！?/p>