電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿
發(fā)表于 10-17 00:13
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道,日前,ASML 技術高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學組件獨家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標志著
發(fā)表于 06-29 06:39
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ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導體行業(yè)領先供應商ASML發(fā)起,是一項面向中國半導體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在
發(fā)表于 06-23 17:04
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電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長,尤
發(fā)表于 04-07 09:24
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在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像
發(fā)表于 02-17 14:09
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光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
發(fā)表于 02-06 09:38
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本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
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本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
發(fā)表于 01-07 10:02
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據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝,
發(fā)表于 12-20 13:48
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時,摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術。2002年,浸潤式光刻的構想被提出,即利用水作為介質,通過光在液體
發(fā)表于 11-24 11:04
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? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在
發(fā)表于 11-24 09:16
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在2024年投資者會議上,光刻機巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布,預計2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
發(fā)表于 11-15 19:48
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在當?shù)貢r間周二,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公布了一份不及預期的第三季度業(yè)績報告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績爆雷第一時間反應到ASML公司的股價暴跌。 在美股市場,光刻機巨頭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 10-16 16:49
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