一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

中芯國際表示深圳工廠進(jìn)口光刻機(jī)不是EUV光刻機(jī)

汽車玩家 ? 來源:IT之家 ? 作者:遠(yuǎn)洋 ? 2020-03-07 10:55 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

IT之家3月6日消息 據(jù)中國證券報報道,3月6日下午從中芯國際獲悉,日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺大型光刻機(jī),但這是設(shè)備正常導(dǎo)入,用于產(chǎn)能擴(kuò)充,并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。

IT之家今天早些時候報道,3月4日早上8點不到,中芯國際集成電路制造(深圳)有限公司從從荷蘭進(jìn)口的一臺大型光刻機(jī)順利通過出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū),這臺機(jī)器主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。

據(jù)IT之家獲悉,EUV光刻機(jī)主要用于7nm及以下制程。中芯國際目前量產(chǎn)的最先進(jìn)制程為第一代FinFET 14nm,已貢獻(xiàn)2019年第四季度1%營收。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 中芯國際
    +關(guān)注

    關(guān)注

    27

    文章

    1436

    瀏覽量

    66171
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1164

    瀏覽量

    48120
  • EUV
    EUV
    +關(guān)注

    關(guān)注

    8

    文章

    609

    瀏覽量

    87067
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3330次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會

    【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長,尤
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?561次閱讀

    不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?1068次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?937次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    什么是光刻機(jī)的套刻精度

    在芯片制造的復(fù)雜流程光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說,它就像
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2019次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的套刻精度

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?438次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1239次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2253次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2058次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機(jī)就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計在
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?843次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    時,摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過光在液體的折射特
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2285次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5485次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    ,光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4307次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    精密機(jī)械方面涉及到納米精度的位移控制技術(shù)等,這些技術(shù)發(fā)展涉及的加工和檢測設(shè)備也都是各時代最尖端的設(shè)備,因此高精度光刻機(jī)也被稱為“人類歷史上最精密”的機(jī)器之一。?? 光刻機(jī)發(fā)展歷程 半導(dǎo)體集成電路制造的工藝流程由美
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1331次閱讀
    一文了解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)