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半導(dǎo)體技術(shù)與 EIRP 需求的適應(yīng)性比較

lhl545545 ? 來(lái)源:Qorvo半導(dǎo)體 ? 作者:Qorvo半導(dǎo)體 ? 2020-06-09 16:19 ? 次閱讀
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5G 愿景的真正實(shí)現(xiàn),還需要更多創(chuàng)新。網(wǎng)絡(luò)基站和用戶(hù)設(shè)備(例如:手機(jī))變得越來(lái)越纖薄和小巧,能耗也變得越來(lái)越低。為了適合小尺寸設(shè)備,許多射頻應(yīng)用所使用的印刷電路板(PCB)也在不斷減小尺寸。因此,射頻應(yīng)用供應(yīng)商必須開(kāi)發(fā)新的封裝技術(shù),盡量減小射頻組件的占位面積。再進(jìn)一步,部分供應(yīng)商開(kāi)始開(kāi)發(fā)系統(tǒng)級(jí)封裝辦法(SiP),以減少射頻組件的數(shù)量——盡管這種辦法將會(huì)增加封裝成本。

系統(tǒng)級(jí)封裝辦法正在被用于射頻前端,而射頻前端包含基站與天線(xiàn)中間的所有組件。

一個(gè)典型的射頻前端由開(kāi)關(guān)、濾波器、放大器及調(diào)諧組件組成。這些技術(shù)設(shè)備的尺寸不斷減小,并且相互集成度不斷加大。結(jié)果,在手機(jī)、小蜂窩、天線(xiàn)陣列系統(tǒng)、Wi-Fi 等 5G 應(yīng)用中,射頻前端正在變成一個(gè)復(fù)雜的、高度集成的系統(tǒng)封包。

不管怎樣,5G愿景的實(shí)現(xiàn)都需要射頻技術(shù)和封裝技術(shù)的顛覆性創(chuàng)新。

氮化鎵技術(shù)

氮化鎵(GaN)是一種二進(jìn)制 III/V 族帶隙半導(dǎo)體,非常適合用于高功率、耐高溫晶體管。氮化鎵功率放大器技術(shù)的 5G 通信潛力才剛剛顯現(xiàn)。氮化鎵具有高射頻功率、低直流功耗、小尺寸及高可靠性等優(yōu)勢(shì),讓設(shè)備制造商能夠減小基站體積。反過(guò)來(lái),這又有助于減少 5G 基站信號(hào)塔上安裝的天線(xiàn)陣列系統(tǒng)的重量,因此可以降低安裝成本。另外,氮化鎵還能在各種毫米波頻率上,輕松支持高吞吐量和寬帶寬。

氮化鎵技術(shù)最適合實(shí)現(xiàn)高有效等向輻射基站功率(EIRP),如圖 4-5 所示。美國(guó)聯(lián)邦通信委員會(huì)定義了非常高的 EIRP 限值,規(guī)定對(duì)于 28GHz 和 39GHz 頻帶,每 100MHz 帶寬需要達(dá)到 75 dBm 功率。因此帶來(lái)了哪些挑戰(zhàn)?相關(guān)設(shè)備的搭建既要滿(mǎn)足這些目標(biāo),又要將成本、尺寸、重量和功率等保持在移動(dòng)網(wǎng)絡(luò)運(yùn)營(yíng)商的預(yù)算范圍內(nèi)。氮化鎵技術(shù)是關(guān)鍵;相比于其他技術(shù),氮化鎵技術(shù)在達(dá)到以上高 EIRP 值時(shí),使用的元件更少,并且輸出功率更高。

半導(dǎo)體技術(shù)與 EIRP 需求的適應(yīng)性比較

圖 4-5:半導(dǎo)體技術(shù)與 EIRP 需求的適應(yīng)性比較。

對(duì)于高功率基站應(yīng)用,相比于鍺硅(SiGe)或硅(Si)等其他功率放大器技術(shù),在相同 EIRP 目標(biāo)值下,氮化鎵技術(shù)的總功率耗散更低,如圖 4-6 所示。氮化鎵減少了整體系統(tǒng)的重量和復(fù)雜性,同時(shí)還仍保持較低功耗,因此更適合塔上安裝系統(tǒng)的設(shè)計(jì)。

氮化鎵技術(shù)的部分重要屬性:

可靠性與結(jié)實(shí)性:氮化鎵的功率效率更高,因此降低了熱量輸出。氮化鎵的帶隙寬,能夠耐受更高的工作溫度,因此可以減少緊湊區(qū)域的冷卻需求。由于氮化鎵能夠在塔上應(yīng)用(例如:天線(xiàn)陣列系統(tǒng))的高溫條件下工作,因此可以不需要冷卻風(fēng)扇,以及/或者可以減少散熱器的體積。歷史上,冷卻風(fēng)扇由于其機(jī)械性質(zhì),一直是造成外場(chǎng)故障的首要原因。大型散熱器不僅硬件本身構(gòu)成重大成本,并且由于重量原因,還可能帶來(lái)額外的人力成本。使用氮化鎵可以讓人們不再使用這些高成本的散熱辦法。

半導(dǎo)體技術(shù)與 EIRP 需求的適應(yīng)性比較

圖 4-6:氮化鎵減少了基站設(shè)計(jì)的復(fù)雜性,降低了成本。

電流消耗:氮化鎵降低了工作成本,產(chǎn)生的熱量也更少。另外,低電流還有助于減少系統(tǒng)功耗和降低電源需求。再者,由于功耗降低,服務(wù)提供商也減少了運(yùn)營(yíng)支出。

功率能力:相比于其他半導(dǎo)體技術(shù),氮化鎵設(shè)備提供更高的輸出功率。市場(chǎng)的發(fā)展趨勢(shì)以及對(duì)于基站高功率輸出的需求,更加有利于氮化鎵技術(shù)的發(fā)展。

頻率帶寬:氮化鎵擁有高阻抗和低柵極電容,能夠?qū)崿F(xiàn)更大的工作帶寬和更高的數(shù)據(jù)傳輸速度。另外,氮化鎵技術(shù)還在 3 GHz 以上擁有良好的射頻性能,其他技術(shù)(例如:硅)在這個(gè)頻率范圍的性能卻不佳。今天氮化鎵模塊和功率放大器提供的寬帶性能,能夠支持 5G 前所未有的帶寬需求。

集成:5G 需要體積更小的解決方案,這促使供應(yīng)商將大規(guī)模、包含多個(gè)技術(shù)的離散式射頻前端,替換成單體式全面集成解決方案。氮化鎵制造商開(kāi)始抓住這個(gè)潮流,開(kāi)發(fā)那些能夠?qū)⑹瞻l(fā)鏈條整合到單一封裝的全面集成解決方案。這進(jìn)一步減少了系統(tǒng)的體積、重量和上市時(shí)間。
責(zé)任編輯:pj

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