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ASML最新一代EUV光刻生產(chǎn)效率增加18%

21克888 ? 來源:電子發(fā)燒友 ? 作者:Norris ? 2020-10-16 10:24 ? 次閱讀
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本土晶圓代工企業(yè)崛起之際,設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機(jī)龍頭ASML近日表示,從荷蘭向中國出口DUV光刻機(jī)無需許可證。


“根據(jù)當(dāng)前法規(guī),ASML無需獲得美國出口許可證便可以繼續(xù)從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統(tǒng);對于直接從美國發(fā)貨系統(tǒng)或零件到受法規(guī)影響的客戶,ASML需獲得許可證?!惫饪虣C(jī)龍頭ASML總裁兼CEO Peter Wennink 在最新季度財(cái)報(bào)說明會(huì)上對中芯國際等中國客戶的出貨情況做了解釋。

ASML近日公布了光刻機(jī)產(chǎn)品的最新進(jìn)展。其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進(jìn)光刻機(jī)系統(tǒng),終于敲定最終規(guī)格。具體來說,30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出貨交付,客戶還需要一定時(shí)間等待,價(jià)格應(yīng)該不會(huì)低于現(xiàn)款老型號的1.2億美元。

目前,ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C,但主力出貨型號是3400B。參數(shù)方面,3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小時(shí)可曝光125片晶圓。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了軟件升級。全新的DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結(jié)束驗(yàn)證,四季度早期開始正式出貨。

據(jù)悉,在截止9月30日的單季度,ASML共獲得60臺光刻機(jī)收入,出貨了10臺EUV光刻機(jī)。關(guān)于最為先進(jìn)的EUV光刻機(jī)出口中國的政策,ASML并未提及。

本文由電子發(fā)燒友綜合報(bào)道,內(nèi)容參考自ASML,CnBeta,轉(zhuǎn)載請注明以上來源。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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