據(jù)澎湃新聞今日報道，在第三屆中國國際進口博覽會上，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示，該公司對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度，對全球客戶均一視同仁，在法律法規(guī)框架下，都將全力支持。

IT之家昨日報道，ASML 在第三屆中國國際進口博覽會上展示了先進的 DUV 光刻機。據(jù)了解，該產(chǎn)品可生產(chǎn) 7nm 及以上制程芯片。

DUV ：深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV ：極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。

從制程范圍來看，DUV 基本上只能做到 25nm，Intel 憑借自對準二/四重曝光的模式做到了 10nm，但是卻無法達到 10nm 以下。只有 EUV 能滿足 10nm 以下的晶圓制造，并且還可以向 5nm、3nm 繼續(xù)延伸。

此外，ASML 在本次展會上也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。

沈波表示，ASML 最早一臺機器是在 1988 年進入中國的。目前中國的 700 多臺裝機涵蓋了 ASML 公司絕大部分類型產(chǎn)品。且光刻機并非存在 “新舊更迭”現(xiàn)象，不同的集成電路的需求受應用場景影響而導致制程量級并不相同。目前 80、90 年代的產(chǎn)品現(xiàn)在市場上仍然會有很多需求，且 7 納米、5 納米、3 納米芯片的數(shù)量在整個芯片供應鏈中大概只占 10% 多一點。但對于現(xiàn)在的物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、軌道交通、超高壓輸電等 “新基建”來說，仍是需要大量 “成熟制程”的芯片。

沈波還表示，ASML 在中國也建立了自己的培訓中心，培養(yǎng)光刻行業(yè)人才 , 在深圳和北京成了兩家技術(shù)開發(fā)中心，做計算光刻、量測等開發(fā)。

對于網(wǎng)友最關(guān)心的 EUV 光刻機出口許可方面，他表示：ASML 必須要在遵守法律法規(guī)的前提下進行光刻機出口。但我們對向中國出口光刻機是保持很開放態(tài)度的，我們對全球客戶都一視同仁，只要是我們能夠提供的技術(shù)和設(shè)備，我們都會全力支持。實際上，2020 年第二、第三季度，公司發(fā)往中國大陸地區(qū)的光刻機臺數(shù)超過了全球總數(shù)的 20%。
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