導(dǎo) 讀

日前，南大光電公告稱，由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶使用認(rèn)證，線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。

圖：南大光電公告 公告稱，“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02 專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò)，標(biāo)志著“ArF 光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn) ArF 光刻膠。 此舉意味著國(guó)產(chǎn)193nm ArF 光刻膠產(chǎn)品正式由研發(fā)走向量產(chǎn)階段。

認(rèn)證評(píng)估報(bào)告顯示，“本次認(rèn)證選擇客戶50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電的 ArF 光刻膠產(chǎn)品測(cè)試各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)?！? 本次驗(yàn)證使用的 50nm 閃存技術(shù)平臺(tái)，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm 光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm 光刻需求，該工藝平臺(tái)的光刻膠在業(yè)界有代表性。 公告稱與該客戶的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中，但公告并未透露使用該光刻膠的閃存客戶是哪一家。

圖：半導(dǎo)體光刻膠的分類（來(lái)源：興業(yè)證券） ■ 南大光電“02專項(xiàng)”項(xiàng)目前程提要 在2018年，南大光電曾發(fā)表關(guān)于實(shí)施國(guó)家“02專項(xiàng)”ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā) 與產(chǎn)業(yè)化的可行性研究報(bào)告。報(bào)告指出，江蘇南大光電材料股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“南大光電”、“公司”、 “本公司”）成立于2000年12月，注冊(cè)資本27,346.88萬(wàn)元，為全球MO源主要供應(yīng)商之一。南大光電經(jīng)過(guò)多年的技術(shù)積累及創(chuàng)新，已經(jīng)擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的MO源獨(dú)特生產(chǎn)技術(shù)。作為全球MO源的主要供應(yīng)商，產(chǎn)品在滿足國(guó)內(nèi)需求時(shí)，已遠(yuǎn)銷日本、臺(tái)灣，韓國(guó)、歐洲和美國(guó)。公司獲得了ISO9001質(zhì)量認(rèn)證體系、ISO14001環(huán)境認(rèn)證體系及OHSAS18001職業(yè)健康體系的認(rèn)證。公司2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板成功上市。公司目前擁有MO源、電子特氣、光刻膠三大業(yè)務(wù)板塊，努力成為國(guó)際一流的MO源供應(yīng)商、國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的電子特氣供應(yīng)商和國(guó)內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻膠供應(yīng)商并力爭(zhēng)在五到十年內(nèi)發(fā)展成為國(guó)際上優(yōu)秀的電子材料生產(chǎn)企業(yè)。

而公司擬投資65,557萬(wàn)元實(shí)施“193nm（ArF）光刻膠材料開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目，項(xiàng)目實(shí)施主體寧波南大光電材料有限公司是本公司的全資子公司。按照他們所說(shuō)，193nm（ArF）光刻膠和MO源都屬于高純電子材料，在生產(chǎn)工藝、分析測(cè)試等方面有一定的相似性，公司現(xiàn)有的很多生產(chǎn)技術(shù)和管理經(jīng)驗(yàn)可以直接應(yīng)用到此項(xiàng)目中。南大光電經(jīng)過(guò)多年的技術(shù)積累及創(chuàng)新，已經(jīng)擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的MO源獨(dú)特生產(chǎn)技術(shù)。在產(chǎn)品的合成、純化、分析、封裝、儲(chǔ)運(yùn)及安全操作等方面均已經(jīng)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。同時(shí)，為了此次項(xiàng)目的開發(fā)，南大光電已完成1500平方米研發(fā)中心的建設(shè)工作。 根據(jù)規(guī)劃，公司將通過(guò)3年的建設(shè)、投產(chǎn)及實(shí)現(xiàn)銷售，達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模。產(chǎn)品滿足集成電路行業(yè)需求標(biāo)準(zhǔn)，同時(shí)建成先進(jìn)光刻膠分析測(cè)試中心和高分辨率光刻膠研發(fā)中心，為公司新的高端光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化提供技術(shù)保障。目前本項(xiàng)目的主要建設(shè)內(nèi)容為生產(chǎn)車間、分析測(cè)試中心、研發(fā)中心、倉(cāng)庫(kù)、水電、道路等配套設(shè)施的建設(shè)。

他們?cè)趫?bào)告中指出，作為集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料(如：ArF光刻膠)，幾乎完全依賴于進(jìn)口。這種局面已經(jīng)嚴(yán)重制約了我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的自主發(fā)展。更有甚者，我國(guó)集成電路工業(yè)使用的高檔光刻膠中，80%以上都是從日本一個(gè)國(guó)家進(jìn)口（剩余的部分從美國(guó)進(jìn)口）。這樣壟斷式的依賴格局使得中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)在我國(guó)發(fā)生嚴(yán)重自然災(zāi)害、政治沖突、商業(yè)沖突或軍事沖突時(shí)受到嚴(yán)重的負(fù)面影響。從產(chǎn)品性質(zhì)方面分析，相較于可以長(zhǎng)時(shí)間保存（3年左右，甚至更長(zhǎng)）的大硅片和先進(jìn)制造設(shè)備， 高檔光刻膠的保質(zhì)期很短（6個(gè)月左右，甚至更短）。一旦遇到上述的自然災(zāi)害或沖突，我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)勢(shì)必面臨芯片企業(yè)短期內(nèi)全面停產(chǎn)的嚴(yán)重局面。因此，盡快實(shí)現(xiàn)全面國(guó)產(chǎn)化和產(chǎn)業(yè)化高檔光刻膠材料具有十分重要的戰(zhàn)略意義和經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

但南大光電也強(qiáng)調(diào)，ArF光刻膠產(chǎn)品的配方包括成膜樹脂、光敏劑、添加劑和溶劑等組分材料。是否能夠?qū)⒏鱾€(gè)組分的功能有效地結(jié)合在一起，關(guān)系到光刻膠配方的成敗，這是調(diào)制光刻膠配方的最大挑戰(zhàn)和難點(diǎn)，也是一個(gè)光刻膠公司技術(shù)能力的基本體現(xiàn)。國(guó)際上只有為數(shù)很少的幾家光刻膠公司可以做到產(chǎn)品級(jí) ArF光刻膠配方的調(diào)制。針對(duì)此種情況，一方面，我們可以進(jìn)行外部引“智”，從光刻膠技術(shù)先進(jìn)的美國(guó)和日本等國(guó)家引進(jìn)相關(guān)領(lǐng)域的專家。另一方面，我們應(yīng)該進(jìn)行內(nèi)部尋“智”，聯(lián)合國(guó)內(nèi)光刻膠的研究單位，積極培養(yǎng)國(guó)內(nèi)的光刻膠研發(fā)人才。通過(guò)人才的“內(nèi)外結(jié)合”，我們將自主研發(fā)出國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠產(chǎn)品。同時(shí)，我們又可以此團(tuán)隊(duì)為基礎(chǔ)，建設(shè)屬于我國(guó)自己本土的光刻膠人才隊(duì)伍，為公司先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品的升級(jí)換代和我國(guó)集成電路行業(yè)的后續(xù)發(fā)展奠定基礎(chǔ)。 ■ 日本絕對(duì)領(lǐng)導(dǎo)的光刻膠市場(chǎng) 據(jù)智研咨詢統(tǒng)計(jì)，2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近90億美元，自2010年至今CAGR約5.4%。預(yù)計(jì)該市場(chǎng)未來(lái)3年仍將以年均5%的速度增長(zhǎng)，至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。

根據(jù)下圖，我們可以了解到低端的g/i-line的占總的半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)份額31%，高端的KrF、ArF-i光刻膠的市場(chǎng)份額最大，達(dá)到45%，基本是被日本的企業(yè)壟斷，所以讓日本在半導(dǎo)體領(lǐng)域有極大的控制能力。

以 ArF 光刻膠產(chǎn)品為代表的先進(jìn)光刻膠以及工藝的主要技術(shù)和專利都掌握在國(guó)外的企業(yè)與研究部門，如日本的信越化學(xué)(Shin-Etsu Chemical)、合 成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、住友化學(xué)(Sumitomochem)、富士膠片 (Fujifilm)和美國(guó)陶氏(Dow Chemical Company)，其中尤其是日本企業(yè)，占有率極高。在KrF光刻膠方面，日本也是占了主導(dǎo)地位，在這領(lǐng)域有全球5%市場(chǎng)占有率的韓國(guó)企業(yè)和11%的美國(guó)企業(yè)。

數(shù)據(jù)來(lái)源：網(wǎng)絡(luò)公開資料，富途證券整理

南大光電表示，本項(xiàng)目已作為我國(guó)“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”的核心 部分被列入我國(guó)國(guó)家科技重大專項(xiàng)，受到國(guó)家科技部的高度支持。作為對(duì) 提升國(guó)家綜合國(guó)力有重大推動(dòng)作用的戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)，ArF(干式和浸沒式)光 刻膠是我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵原材料，與國(guó)家經(jīng)濟(jì)及社會(huì)發(fā)展的需求緊 密結(jié)合。本項(xiàng)目不僅能夠極大提高我國(guó)本土企業(yè)的自主創(chuàng)新能力，更重要 的是通過(guò)重大關(guān)鍵技術(shù)的突破，將帶動(dòng)和提升我國(guó)整個(gè)電子工業(yè)體系的技 術(shù)水平和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。項(xiàng)目符合國(guó)家的產(chǎn)業(yè)政策，按國(guó)家基本建設(shè)程序進(jìn)行實(shí)施，項(xiàng)目的建設(shè)是可行的。

來(lái)源：綜合自芯片大師、半導(dǎo)體行業(yè)觀察

原文標(biāo)題：突破！首款國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠通過(guò)認(rèn)證，可用于45nm工藝

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