ASML今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)
在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。
CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的銷售收入在58億歐元左右。四季度，ASML手里未出貨的訂單價(jià)值42億歐元，其中包括價(jià)值11億歐元的6套EUV設(shè)備，大概每臺(tái)單價(jià)是1.83歐元（約合14億元），比此前1.2億歐貴了。即便如此，對(duì)于三星、臺(tái)積電、Intel來說仍供不應(yīng)求，誰(shuí)讓EUV光刻機(jī)ASML獨(dú)一份呢……
Wennink還表示將推進(jìn)0.33NA的EUV設(shè)備應(yīng)用，以滿足客戶的節(jié)點(diǎn)需求（5nm、7nm等）。
據(jù)悉，ASML四季度凈銷售額為43億歐元，凈利潤(rùn)為14億歐元。2020年全年凈銷售額為140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%，凈利潤(rùn)為36億歐元。
此前資料稱，ASML定于今年中旬交付最新一代EUV光刻機(jī)TWINSCAN NXE:3600D，生產(chǎn)效率提升18%、機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度改進(jìn)為1.1nm。
責(zé)編AJX
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。
舉報(bào)投訴
-
臺(tái)積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5741瀏覽量
169298 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
725瀏覽量
42168 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15453
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
熱點(diǎn)推薦
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷，芯片迎來新一輪“寒流”？
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）作為芯片制造過程中的核心設(shè)備，光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片（7nm及以下）芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵，但目前EUV
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來減小波長(zhǎng)，而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)
如何提高光刻機(jī)的NA值
本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA，又名
光刻機(jī)的分類與原理
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹
納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（
日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位
據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道，Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司，已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝，設(shè)備安裝預(yù)計(jì)在
用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造：光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì)，摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)卡在193nm，芯片制程縮小至6
光刻機(jī)的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)：芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，被譽(yù)為芯片制
一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)
，光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺(tái)技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程
光刻機(jī)巨頭拋出重磅信號(hào) 阿斯麥（ASML）股價(jià)大幅上漲
在2024年投資者會(huì)議上，光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好；緊接著ASML股價(jià)開始大幅拉升；一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會(huì)議上宣布，預(yù)計(jì)2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過特斯拉；三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)
光刻機(jī)售價(jià)約3.5億美元（約合人民幣25億元），遠(yuǎn)高于ASML標(biāo)準(zhǔn)EUV系列的1.8億~2億美元。High NA系統(tǒng)具有8
發(fā)表于 10-31 10:56
?1018次閱讀
光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績(jī)爆雷 ASML股價(jià)暴跌16.26%創(chuàng)最大的單日跌幅
在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績(jī)報(bào)告；訂單量環(huán)比下降53%，?業(yè)績(jī)爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到ASML公司的股價(jià)暴跌。 在美股市場(chǎng)，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML
日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)
近日，日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)（OIST）發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報(bào)告，宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外（EUV）光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體制造業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)界限，其設(shè)計(jì)的光刻設(shè)備能夠采用更小巧的
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論