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中國(guó)有望獨(dú)立生產(chǎn)EUV光刻機(jī),打破ASML壟斷

我快閉嘴 ? 來(lái)源:商業(yè)經(jīng)濟(jì)觀察 ? 作者:商業(yè)經(jīng)濟(jì)觀察 ? 2021-02-27 09:59 ? 次閱讀
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ASML對(duì)光刻機(jī)的壟斷

一提起ASML這家公司,就少不了對(duì)光刻機(jī)問(wèn)題的討論,因?yàn)榻刂聊壳?,ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說(shuō)了,ASML每年都能賣(mài)出去很多臺(tái),而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面,ASML更是占據(jù)了絕對(duì)壟斷的地位。

EUV與DUV光刻機(jī)最大的區(qū)別就在于前者使用的光源是極紫外光,而后者的光源就比較普通了,為深紫外光??赡芎芏嗳硕疾幻靼讟O紫外光和深紫外光到底有什么不同,如果從實(shí)際應(yīng)用的角度來(lái)看,由極紫外光刻機(jī)生產(chǎn)出來(lái)的芯片要比深紫外光刻機(jī)更高端。

舉個(gè)簡(jiǎn)單的例子,在如今的半導(dǎo)體行業(yè),7nm和5nm 制程的芯片代表著最高工藝水平,而要想成功量產(chǎn)出這兩款芯片,必須得到EUV光刻機(jī)的支持。換而言之,ASML制造出的EUV光刻機(jī)是生產(chǎn)7nm和5nm,甚至是3nm芯片的核心設(shè)備,無(wú)法被代替。

正因于此,對(duì)于全球的芯片制造產(chǎn)業(yè)來(lái)說(shuō),ASML扮演著一個(gè)非常重要的角色。如果未來(lái)某天ASML無(wú)法再保證DUV或者是EUV光刻機(jī)的正常供應(yīng),那么像臺(tái)積電、三星等世界頂尖的芯片代工廠都會(huì)受到不利的影響,半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展也會(huì)陷入瓶頸。

作為人類能生產(chǎn)出的最頂尖的機(jī)器設(shè)備,光刻機(jī)的重要性已經(jīng)不需要再多說(shuō)了,ASML僅憑這一項(xiàng)業(yè)務(wù)就能在半導(dǎo)體市場(chǎng)站穩(wěn)腳跟,并且還享有很大的話語(yǔ)權(quán)。尤其是在我們國(guó)內(nèi)市場(chǎng),國(guó)產(chǎn)芯片之所以遲遲無(wú)法崛起,就是因?yàn)槿鄙俟饪虣C(jī)的支持。

雖然國(guó)內(nèi)也有一家光刻機(jī)廠商,名為上海微電子,但是目前它能生產(chǎn)出的最先進(jìn)的光刻機(jī)精度只有22nm,與ASML相比還有一定的差距。所以就如今的情況來(lái)看,如何突破到更高精度的光刻機(jī),是國(guó)內(nèi)芯片事業(yè)實(shí)現(xiàn)自主化目標(biāo)的首要問(wèn)題。

清華大學(xué)正式宣布好消息

光刻機(jī)的精度主要取決于光源的波長(zhǎng)和功率,這意味著只要國(guó)內(nèi)攻克了極紫外光技術(shù),就很有可能獨(dú)立生產(chǎn)出EUV光刻機(jī),打破ASML的壟斷。那么現(xiàn)在國(guó)內(nèi)有沒(méi)有可能掌握極紫外光技術(shù)呢?答案是肯定的!

2月25日,據(jù)國(guó)內(nèi)最新消息顯示,ASML也沒(méi)料到,關(guān)于光刻機(jī)問(wèn)題,清華大學(xué)正式宣布好消息!據(jù)了解,在經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的刻苦鉆研后,清華大學(xué)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在新型加速器光源“穩(wěn)態(tài)微聚束”領(lǐng)域取得了重大突破,或許能幫助國(guó)產(chǎn)公司攻克極紫外光的難題!

所謂的加速器光源指的就是,光子通過(guò)加速可以實(shí)現(xiàn)從太赫茲到極紫外光之間不同的波長(zhǎng),可以為光刻機(jī)的研究提供最基本的技術(shù)支持。只要光源問(wèn)題徹底解決了,那么國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)研究就會(huì)邁向下一個(gè)階段,國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)的誕生也不只是說(shuō)說(shuō)而已。

毫無(wú)疑問(wèn),對(duì)于國(guó)產(chǎn)芯片事業(yè)而言,清華大學(xué)宣布的這項(xiàng)技術(shù)成果是一個(gè)非常好的消息,如果運(yùn)用得當(dāng),將成為國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)全面崛起的“催化劑”。而ASML對(duì)此肯定高興不起來(lái),它也沒(méi)料到,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)和光源技術(shù)能取得這么大的進(jìn)步。

從清華大學(xué)的突破中不難看出,如今國(guó)內(nèi)對(duì)芯片和半導(dǎo)體行業(yè)的重視程度非常高,無(wú)論是眾多國(guó)產(chǎn)企業(yè)還是各大研究機(jī)構(gòu),都投身到了這項(xiàng)偉大的事業(yè)中。相信將來(lái)不僅僅是清華大學(xué),會(huì)有越來(lái)越多的好消息傳來(lái),國(guó)產(chǎn)芯片的崛起不只是一個(gè)夢(mèng)想!

寫(xiě)在最后

雖然EUV光刻機(jī)的難度超出了普通人的想象,而且常年被ASML壟斷,別的公司或國(guó)家根本不了解其核心技術(shù),但是在國(guó)內(nèi)不斷地努力下, 再難的技術(shù)都會(huì)被攻克,EUV光刻機(jī)也不例外。等到那個(gè)時(shí)候,ASML將徹底失去優(yōu)勢(shì)地位,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)會(huì)讓全世界刮目相看!
責(zé)任編輯:tzh

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