光刻機，是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。

可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位，光刻機，是制造芯片的機器，要是沒有了光刻機，我們就沒有辦法造出芯片，自然也就不會有我們現(xiàn)在的手機、電腦了。

光刻機是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機、用于封裝的光刻機和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。

光刻機的核心原理就是一個透鏡組，在精度上首先咱們有個概念：我們現(xiàn)在芯片的線條精度已發(fā)展到10nm級別，而較大的原子直徑是將近1nm，我們把芯片放在電子顯微鏡下即可清晰地數(shù)出每個線條上有幾個原子，“調(diào)節(jié)屈光度”是典型的幾何光學(xué)（初等光學(xué)）概念，遠遠實現(xiàn)不了這個精度。

幾何光學(xué)中，我們認為光是一條條“光線”，所以可以用透鏡等比例縮放。隨著人們更深入的了解，發(fā)現(xiàn)光其實是連續(xù)的“光波”，并不按直線傳播。再后來，人們發(fā)現(xiàn)光是一個個“粒子”（愛因斯坦因此獲得諾貝爾獎）再后來，人們發(fā)現(xiàn)光粒子具有“波粒二象性”，還具有量子效應(yīng)。整個過程中，光的物理特性沒有改變。而是隨著人們觀察得越來越細致、越來越精密，逐步發(fā)現(xiàn)了光的特性。

文章綜合來源：yxlady

編輯：ymf