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EUV光刻機出貨過半 國產半導體設備發(fā)展提速

lPCU_elecfans ? 來源:電子發(fā)燒友網 ? 作者:李彎彎 ? 2021-10-27 09:51 ? 次閱讀

電子發(fā)燒友網報道(文/李彎彎)半導體設備廠商目前的銷售情況如何?今年以來,芯片產能不足之下全球各地加快建廠擴產,這帶動半導體設備廠商銷售持續(xù)高增長。近日ASML公布第三季度財報,顯示銷售業(yè)績仍然增幅很大,國內的半導體設備龍頭北方華創(chuàng)的業(yè)績預告也顯示,凈利潤預計有一到兩倍的增長。

不過從目前國外內半導體設備整體情況來看,半導體設備的銷售和出貨雖然還在增長,不過對比之前,增速開始放緩,有機構表示,半導體設備已經終止連續(xù)環(huán)比增長的態(tài)勢。

ASML EUV光刻機業(yè)務營收創(chuàng)下新紀錄

全球領先的光刻機廠商ASML日前公布最新季度業(yè)績,財報顯示,在GAAP會計準則下,ASML第三季度凈銷售額52.41億歐元(約390億元人民幣),同比增長32.4%,凈利潤為17.40億歐元(約130億元人民幣),同比增長63.8%。其中毛利率也有所上漲,為51.7%,上一季度毛利率為50.9%。

ASMLEUV光刻機業(yè)務出貨量和營收創(chuàng)下新紀錄,根據(jù)財報信息,今年第三季度 EUV的銷售占到公司總銷售額的54%,而第二季度這個占比是45%,主要是用在邏輯芯片和存儲芯片的制造商,從地域來看,ASMLEUV光刻機45%出貨到中國臺灣地區(qū),33%出貨到韓國,出貨到美國和中國大陸的占比分別為10%。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink表示,公司第三季度新增訂單金額達到62億歐元(約462億元人民幣),其中29億歐元來自EUV訂單??蛻魧饪滔到y(tǒng)的需求仍在高點,主要原因是數(shù)字化轉型和芯片短缺帶動市場對內存和邏輯芯片的需求。預計今年第四季度將實現(xiàn)營收約為49億到52億歐元。

北方華創(chuàng)Q3凈利潤同比增長100-180%

日前國內的半導體設備龍頭北方華創(chuàng)也發(fā)布業(yè)績預告,根據(jù)公告,北方華創(chuàng)第三季度預計實現(xiàn)營業(yè)收入21.56-65.94億元,同比增長30-80%,歸屬上市公司凈利潤2.85-3.99億元,同比增長100-180%。

北方華創(chuàng)業(yè)績的高增長還是受益于下游市場需求的提升,同時北方華創(chuàng)各種新設備導入市場的節(jié)奏正在加快,包括刻蝕機、PVD、CVD、清洗機等,在客戶端的滲透率逐步提高,公司的半導體設備已經在半導體產業(yè)主流生產線中實現(xiàn)批量銷售。

至純科技獲大基金二期投資 國產清洗設備發(fā)展提速

受益于當前芯片產能不足,全球各地大力建廠擴產,以及國產替代的推動,國內半導體設備逐漸有了更多應用的機會和空間,其中清洗設備方面的表現(xiàn)就很明顯。

清洗設備是半導體產業(yè)鏈制造的重要環(huán)節(jié),根據(jù)臺灣工研院數(shù)據(jù),2020年半導體清洗設備市場空間49億美元,2025年將達67億美元。目前清洗設備的國產化率約為20%,主要廠商有北方華創(chuàng)、盛美半導體、至純科技、芯源微等。

盛美半導體是國內領先的清洗設備廠商,日前宣布濕法設備2000腔順利交付,目前出貨量已累計超過300臺,產品包括單片SAPS兆聲波清洗設備、單片TEBO兆聲波清洗設備、單片背面清洗設備、單片刷洗設備、槽式清洗設備等,公司產品組合覆蓋80%以上清洗設備市場,2020年國內市場份額達到23%。

至純科技日前發(fā)布公告稱,旗下子公司至微科技進行增資擴股,引入包括大基金二期、混改基金等在內的多名重要股東,至微科技主要業(yè)務是半導體濕法清洗設備,公司自成立以來,已累計獲得濕法設備訂單超過160臺。

據(jù)行業(yè)人士分析,國家隊基金增持清洗設備企業(yè),一是有利于至微科技與國內頭部半導體公司加強合作,促進其未來發(fā)展,二是透露出了市場對公司及該領域未來看好,同時有利于清洗設備未來的發(fā)展。

北美、日本半導體設備出貨放緩 國內市場增長機會仍在

半導體設備經歷了過去一段時間的快速成長,近來北美和日本等地區(qū)的出貨快開始放緩。北美半導體設備8月份的出貨量同比增幅明顯,達到37.56%,不過環(huán)比下降了5.38%,終止了出貨額連續(xù)8個月的環(huán)比增長;日本半導體設備出貨額同比增長30.42%,環(huán)比增長幅度較小,為2.07%。

不過當前和未來國內規(guī)劃的擴產規(guī)模較大,而且廠商也在加大對成熟制程的投入,有機構測算,國內晶圓廠未來可釋放的產能,包括8寸線產能約27萬片,12寸線產能約 61.5-62.5萬片,其中12寸線中確定為成熟制程的產品約為33.5萬片,因此未來三年國產半導體設備有明顯的增長空間。

聲明:本文由電子發(fā)燒友原創(chuàng),轉載請注明以上來源。如需入群交流,請?zhí)砑游⑿舉lecfans999,投稿爆料采訪需求,請發(fā)郵箱huangjingjing@elecfans.com。

編輯:jq

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原文標題:ASML一騎絕塵,EUV光刻機出貨過半!國產半導體設備發(fā)展提速!

文章出處:【微信號:elecfans,微信公眾號:電子發(fā)燒友網】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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