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華為公布兩項關于芯片堆疊技術專利

要長高 ? 來源:國際電子商情 ? 作者:國際電子商情 ? 2022-05-10 15:58 ? 次閱讀
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近日獲悉,華為日前又公開了2項芯片相關的發(fā)明專利。“一種多芯片堆疊封裝及制作方法”和“芯片堆疊封裝結構及其封裝方法、電子設備”。。。

華為此前4月5日公開“一種芯片堆疊封裝及終端設備”專利引起了廣泛關注,也透露了其從2019年就對芯片堆疊技術進行布局。近日,華為又公開了2項芯片相關的發(fā)明專利。

國際電子商情9日國家知識產權局網站查詢發(fā)現(xiàn),華為公開了申請的2項芯片相關專利——“一種多芯片堆疊封裝及制作方法”和“芯片堆疊封裝結構及其封裝方法、電子設備”,申請公布號分別為CN114450785A和CN114450786A。

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圖源:國家知識產權局網站(下同)

“一種多芯片堆疊封裝及制作方法”

據(jù)公開的專利摘要顯示,該專利涉及芯片技術領域,不僅能夠解決多芯片的應力集中問題,還能夠以進行更多層芯片的堆疊。

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“芯片堆疊封裝結構及其封裝方法、電子設備”

專利摘要顯示,該專利為一種芯片堆疊封裝結構(100)及其封裝方法、電子設備(1),涉及電子技術領域,用于解決如何將多個副芯片堆疊單元(30)可靠的鍵合在同一主芯片堆疊單元(10)上的問題。

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布局造芯已久

雖然本次公開的兩項專利與4月5日公開專利申請時間均為2019年,但早在2012年,華為便向國家知識產權局申請了一項名為“芯片堆疊封裝結構”的發(fā)明專利。這意味著,華為對芯片堆疊封裝的研究在2012年甚至更早的時間就已開始。而華為官方首次公開確認芯片堆疊技術則是在今年3月28日舉行的華為2021年年報發(fā)布會上。華為輪值董事長郭平當時表示,未來華為可能會采用多核結構的芯片設計方案,以提升芯片性能,同時采用面積換性能,用堆疊換性能,使得不那么先進的工藝也能持續(xù)讓華為在未來的產品里面,能夠具有競爭力。

關于芯片堆疊技術:1+1不一定等于2!

國際電子商情了解到,堆疊技術也可以叫做3D堆疊技術,是利用堆疊技術或通過互連和其他微加工技術在芯片或結構的Z軸方向上形成三維集成,信號連接以及晶圓級,芯片級和硅蓋封裝具有不同的功能,針對包裝和可靠性技術的三維堆疊處理技術。

該技術用于微系統(tǒng)集成,是在片上系統(tǒng)(SOC)和多芯片模塊(MCM)之后開發(fā)的先進的系統(tǒng)級封裝制造技術。 在傳統(tǒng)的SiP封裝系統(tǒng)中,任何芯片堆棧都可以稱為3D,因為在Z軸上功能和信號都有擴展,無論堆棧位于IC內部還是外部。

目前,3D芯片技術的類別包括:基于芯片堆疊的3D技術,基于有源TSV的3D技術,基于無源TSV的3D技術,以及基于芯片制造的3D技術。目前臺積電、英特爾、三星等國際半導體廠商都開發(fā)了自己的3D芯片封裝技術。

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