一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線(xiàn)課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

不同清洗工藝對(duì)納米粒子表面化學(xué)的影響(下)

華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 來(lái)源:華林科納半導(dǎo)體設(shè)備制造 ? 作者:華林科納半導(dǎo)體設(shè) ? 2022-05-10 16:35 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

接上回

離心法

通過(guò)離心和在超純水中再分散的不同循環(huán),從AuNPs樣品中除去過(guò)量的未結(jié)合的檸檬酸鹽。在每次離心循環(huán)后,對(duì)納米顆粒進(jìn)行表征,以研究離心過(guò)程的影響,并將檸檬酸鹽分子的減少與AuNP溶液的穩(wěn)定性相關(guān)聯(lián)。核磁共振氫譜實(shí)驗(yàn),如圖2所示。1以四甲基硅烷(TMS)為內(nèi)標(biāo),對(duì)離心過(guò)程不同階段的檸檬酸鹽進(jìn)行定量分析。H-NMR數(shù)據(jù)顯示,在三次離心循環(huán)后,未結(jié)合的檸檬酸鹽的量(峰在2.7 ppm附近)急劇減少,從1.7×10-3M降至NMR檢測(cè)限以下,表明離心作用有效地去除了大部分檸檬酸鹽分子,而沒(méi)有損害AuNP溶液的尺寸分布(表I).然而,CLS、DLS和SEM分析表明,在第三和第四次離心循環(huán)后,納米顆粒聚集(圖S1和S2),71記錄分布指數(shù)(DI)和多分布指數(shù)(PDI)的變化。

poYBAGJ6I8-AEWg6AABLhOQ4V5Q891.jpg

圖4。不同透析周期后AuNP溶液的CLS粒度分布。

圖示了檸檬酸鹽含量。數(shù)據(jù)表明,需要至少六個(gè)透析周期來(lái)去除與單次離心所能去除的相同量的cit- rate,而需要12個(gè)透析周期來(lái)去除與兩次離心相當(dāng)?shù)牧?。然而,?yīng)該注意的是,即使透析不如離心積極,超過(guò)六個(gè)循環(huán)也會(huì)引起溶液不穩(wěn)定,如圖2中CLS粒度分布所示。3 其中清楚地顯示了在9次和12次透析循環(huán)后兩種納米粒子群的出現(xiàn)。透析納米顆粒的Au4f核心水平光譜的分析揭示了與離心樣品中觀察到的特征和擬合成分相似的特征和擬合成分。然而,由于光譜中的高背景,擬合結(jié)果遠(yuǎn)不如離心樣品可靠(圖S7)。

pYYBAGJ6I8-AQVj5AABiNlmqvCs543.jpg

總結(jié)和結(jié)論

本文介紹了我們?nèi)A林科納研究了兩種不同的清洗方法,即離心和透析對(duì)納米金表面化學(xué)的影響。使用離心和透析程序來(lái)純化AuNP溶液,并在每個(gè)純化步驟后進(jìn)行仔細(xì)的物理化學(xué)表征。結(jié)果表明兩種方法都能夠從溶液中除去檸檬酸鹽。然而,雖然兩次離心足以除去幾乎所有的檸檬酸鹽分子,但是需要多達(dá)12次透析循環(huán)才能獲得相當(dāng)?shù)慕Y(jié)果。此外,發(fā)現(xiàn)透析過(guò)程通過(guò)離子交換影響溶液的pH值,導(dǎo)致更不穩(wěn)定的納米粒子溶液。

清洗過(guò)程對(duì)納米粒子功能化的影響也通過(guò)用PFT硫醇功能化納米粒子來(lái)研究。三次離心后獲得高達(dá)0.9的單層覆蓋率,而直接檸檬酸鹽取代和/或三次透析循環(huán)僅觀察到50%的單層覆蓋率。

審核編輯:符乾江

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 納米
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    712

    瀏覽量

    38918
  • 生物
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    49

    瀏覽量

    15922
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    半導(dǎo)體哪些工序需要清洗

    污染物。 方法:濕法化學(xué)清洗(如SC-1溶液)或超聲波清洗。 硅片拋光后清洗 目的:清除拋光液殘留(如氧化層、納米顆粒),避免影響后續(xù)光刻精
    的頭像 發(fā)表于 07-14 14:10 ?158次閱讀

    蘇州芯矽科技:半導(dǎo)體清洗機(jī)的堅(jiān)實(shí)力量

    不同芯片的“個(gè)性”問(wèn)題,如污染物類(lèi)型和材質(zhì)特性,精準(zhǔn)匹配或組合清洗工藝,確保芯片表面潔凈無(wú)瑕。超聲波清洗以高頻振動(dòng)的空化效應(yīng),高效清除微小顆粒;化學(xué)
    發(fā)表于 06-05 15:31

    晶圓表面清洗靜電力產(chǎn)生原因

    晶圓表面清洗過(guò)程中產(chǎn)生靜電力的原因主要與材料特性、工藝環(huán)境和設(shè)備操作等因素相關(guān),以下是系統(tǒng)性分析: 1. 靜電力產(chǎn)生的核心機(jī)制 摩擦起電(Triboelectric Effect) 接觸分離:晶圓
    的頭像 發(fā)表于 05-28 13:38 ?209次閱讀

    關(guān)于藍(lán)牙模塊的smt貼片焊接完成后清洗規(guī)則

    ,使黏附在被清洗表面的污染物游離下來(lái):超聲波的振動(dòng),使清洗劑液體粒子產(chǎn)生擴(kuò)散作用,加速清洗劑對(duì)污染物的溶解速度。因此可以
    發(fā)表于 05-21 17:05

    半導(dǎo)體清洗SC1工藝

    半導(dǎo)體清洗SC1是一種基于氨水(NH?OH)、過(guò)氧化氫(H?O?)和去離子水(H?O)的化學(xué)清洗工藝,主要用于去除硅片表面的有機(jī)物、顆粒污染
    的頭像 發(fā)表于 04-28 17:22 ?1282次閱讀

    晶圓擴(kuò)散清洗方法

    晶圓擴(kuò)散前的清洗是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,旨在去除表面污染物(如顆粒、有機(jī)物、金屬離子等),確保擴(kuò)散工藝的均勻性和器件性能。以下是晶圓擴(kuò)散清洗的主要方法及
    的頭像 發(fā)表于 04-22 09:01 ?383次閱讀

    晶圓高溫清洗蝕刻工藝介紹

    晶圓高溫清洗蝕刻工藝是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),對(duì)于確保芯片的性能和質(zhì)量至關(guān)重要。為此,在目前市場(chǎng)需求的增長(zhǎng)情況,我們來(lái)給大家介紹一詳情。 一、
    的頭像 發(fā)表于 04-15 10:01 ?379次閱讀

    晶圓浸泡式清洗方法

    晶圓浸泡式清洗方法是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種重要清洗技術(shù),它旨在通過(guò)將晶圓浸泡在特定的化學(xué)溶液中,去除晶圓表面的雜質(zhì)、顆粒和污染物,以確保晶圓的清潔度和后續(xù)加工的質(zhì)量。以下是對(duì)晶圓浸泡式
    的頭像 發(fā)表于 04-14 15:18 ?325次閱讀

    芯片清洗機(jī)工藝介紹

    工藝都有其特定的目的和方法,以確保芯片的清潔度和質(zhì)量: 預(yù)處理工藝 去離子水預(yù)沖洗:芯片首先經(jīng)過(guò)去離子水的預(yù)沖洗,以去除表面的大顆粒雜質(zhì)和灰塵。這一步通常是初步的清潔,為后續(xù)的清洗
    的頭像 發(fā)表于 03-10 15:08 ?453次閱讀

    半導(dǎo)體制造中的濕法清洗工藝解析

    半導(dǎo)體濕法清洗工藝?? 隨著半導(dǎo)體器件尺寸的不斷縮小和精度要求的不斷提高,晶圓清洗工藝的技術(shù)要求也日益嚴(yán)苛。晶圓表面任何微小的顆粒、有機(jī)物、
    的頭像 發(fā)表于 02-20 10:13 ?1583次閱讀
    半導(dǎo)體制造中的濕法<b class='flag-5'>清洗</b><b class='flag-5'>工藝</b>解析

    SiC外延片的化學(xué)機(jī)械清洗方法

    外延片的質(zhì)量和性能。因此,采用高效的化學(xué)機(jī)械清洗方法,以徹底去除SiC外延片表面的污染物,成為保證外延片質(zhì)量的關(guān)鍵步驟。本文將詳細(xì)介紹SiC外延片的化學(xué)機(jī)械
    的頭像 發(fā)表于 02-11 14:39 ?414次閱讀
    SiC外延片的<b class='flag-5'>化學(xué)</b>機(jī)械<b class='flag-5'>清洗</b>方法

    8寸晶圓的清洗工藝有哪些

    可能來(lái)源于前道工序或環(huán)境。通常采用超聲波清洗、機(jī)械刷洗等物理方法,結(jié)合化學(xué)溶液(如酸性過(guò)氧化氫溶液)進(jìn)行清洗。 刻蝕后清洗 目的與方法:在晶圓經(jīng)過(guò)刻蝕
    的頭像 發(fā)表于 01-07 16:12 ?424次閱讀

    等離子體清洗的原理與方法

    等離子體清洗的原理 等離子體是物質(zhì)的第四態(tài),由離子、電子、自由基和中性粒子組成。等離子體清洗的原理主要基于以下幾點(diǎn): 高活性粒子 :等離子體中的離子、電子和自由基具有很高的活性,能夠與
    的頭像 發(fā)表于 11-29 10:03 ?1231次閱讀

    安泰功率放大器在磁性納米粒子血管精細(xì)成像方法中的應(yīng)用

    納米粒子成像技術(shù)(Magneticparticleimaging,MPI)是一種基于示蹤劑的成像技術(shù),該技術(shù)檢測(cè)磁納米粒子(Magneticnanoparticles,MNPs)對(duì)動(dòng)態(tài)磁場(chǎng)的非線(xiàn)性
    的頭像 發(fā)表于 11-11 11:24 ?514次閱讀
    安泰功率放大器在磁性<b class='flag-5'>納米粒子</b>血管精細(xì)成像方法中的應(yīng)用

    Haydale血糖和甘油三酯電化學(xué)監(jiān)測(cè)導(dǎo)電油墨

    Haydale高精度石墨烯導(dǎo)電油墨采用獨(dú)特的HDPlas?專(zhuān)利工藝,顯著提升血糖、甘油三酯等生物指標(biāo)的檢測(cè)準(zhǔn)確性。通過(guò)優(yōu)化納米材料的分散性與表面化學(xué)特性,這種創(chuàng)新油墨在醫(yī)療體外檢測(cè)中展現(xiàn)出穩(wěn)定的性能,助力快速、可靠的臨床診斷,推
    的頭像 發(fā)表于 08-02 09:17 ?563次閱讀
    Haydale血糖和甘油三酯電<b class='flag-5'>化學(xué)</b>監(jiān)測(cè)導(dǎo)電油墨