紫外(UV)光譜可分為UV-A(315~400?nm)、UV-B(280~315?nm)和UV-C(200~280?nm)頻段。由于敏感光譜帶寬很寬,因此,采用傳統(tǒng)硅基技術(shù)進(jìn)行可靠的紫外光電探測(cè)而不受其他光譜帶影響,仍然具有挑戰(zhàn)性。雖然存在可用于紫外光譜的硅光電探測(cè)器,但也對(duì)可見(jiàn)光敏感。
或者,基于絕緣體上硅(SOI)或超淺結(jié)的實(shí)現(xiàn)方式也可以探測(cè)紫外光,它們利用了傳輸更長(zhǎng)波長(zhǎng)的光的薄膜。此外,紫外選擇性可以通過(guò)使用差分法等讀出方法實(shí)現(xiàn)。通過(guò)使用寬帶隙材料作為襯底,半導(dǎo)體的敏感光譜帶寬可以降至更短的波長(zhǎng)。不僅如此,它們還具有在深紫外或高溫環(huán)境中應(yīng)用的潛力。
下表給出了一系列寬帶隙材料及其特性。需要注意的是,激發(fā)波長(zhǎng)與材料的帶隙成反比,因此應(yīng)采用寬帶隙的材料構(gòu)建對(duì)深紫外選擇性敏感的光電探測(cè)器。將這些襯底中構(gòu)建的探測(cè)器與片上電路相結(jié)合,理想情況下需要互補(bǔ)型器件。
半導(dǎo)體材料參數(shù)及其特性概覽表
憑借低功耗工作優(yōu)勢(shì),片上讀出的常用電路技術(shù)為CMOS。當(dāng)考慮廣泛使用的CMOS技術(shù)時(shí),電子和空穴遷移率之比應(yīng)接近1,并且對(duì)于快速器件,絕對(duì)遷移率值應(yīng)較高。需要注意的是,電子和空穴遷移率之間的比率存在顯著差異,這將對(duì)有源器件的性能和互補(bǔ)型器件的匹配產(chǎn)生負(fù)面影響。從這個(gè)角度來(lái)看,金剛石是目前最好的選擇,其次是碳化硅(SiC)。
過(guò)去幾十年來(lái),碳化硅一直是電力電子領(lǐng)域以及惡劣環(huán)境傳感和紫外探測(cè)器等應(yīng)用的熱門材料。業(yè)界對(duì)基于碳化硅的光電探測(cè)器進(jìn)行了非常廣泛的研究,利用它可以制造性能卓越的可見(jiàn)盲紫外探測(cè)器。
多年來(lái),這項(xiàng)技術(shù)取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步,例如,有報(bào)道紫外線指數(shù)監(jiān)測(cè)演示板和紫外成像儀等。關(guān)于老化效應(yīng)的可靠性研究也展示了可喜的結(jié)果,顯示出器件性能幾乎沒(méi)有變化。下圖展示了最廣泛采用的半導(dǎo)體光電探測(cè)器剖面結(jié)構(gòu),包括光電導(dǎo)體、肖特基、金屬-半導(dǎo)體-金屬、PN結(jié)、PIN結(jié)和雪崩光電二極管。這些不同類型半導(dǎo)體光電探測(cè)器的工作原理非常相似,都依賴于最基本的光電效應(yīng)。
幾種不同類型半導(dǎo)體光電探測(cè)器剖面示意圖
已有報(bào)道的研究給出了針對(duì)特定波長(zhǎng)的響應(yīng)度。所有器件的峰值響應(yīng)度都接近300 nm波長(zhǎng)。另一種很有前途的奇異拓?fù)涫鞘┗蓟栊ぬ鼗怆姸O管,達(dá)到了極高的響應(yīng)度值。此外,還有報(bào)道在光電二極管頂部集成微透鏡等附加元件,以提高外部量子效率,從而提高響應(yīng)度。已給出的光電探測(cè)器之前都沒(méi)有集成片上讀出電路。
近十年來(lái),已證明在碳化硅中實(shí)現(xiàn)集成低壓電路是可行的,盡管這些技術(shù)的可及性仍然有限。目前正在開(kāi)發(fā)的最有前景的技術(shù)是瑞典KTH開(kāi)發(fā)的一種用于高溫和惡劣環(huán)境的BJT技術(shù),被稱為HOTSiC,以及德國(guó)弗勞恩霍夫集成系統(tǒng)和設(shè)備技術(shù)研究所(IISB)開(kāi)發(fā)的一種4H-SiC CMOS。
后者具有使用互補(bǔ)型器件設(shè)計(jì)的完整能力,而B(niǎo)JT技術(shù)是僅具有上拉電阻的NPN。弗勞恩霍夫IISB已經(jīng)展示了可以與CMOS制造技術(shù)兼容的紫外光電探測(cè)器。然而,目前唯一已有報(bào)道的碳化硅光電系統(tǒng)是由Hou等人在瑞典KTH利用BJT技術(shù)實(shí)現(xiàn)的。該系統(tǒng)包含256個(gè)可尋址像素,1959個(gè)晶體管,工作條件為8.25?W和7.7?mHz。
基于弗勞恩霍夫IISB的6?μm 4H-SiC CMOS技術(shù)制造的多項(xiàng)目4英寸碳化硅器件晶圓
據(jù)麥姆斯咨詢介紹,荷蘭代爾夫特理工大學(xué)(Delft University of Technology)微電子學(xué)院的Joost Romijn等研究人員近日?qǐng)?bào)道了碳化硅中的首次片上CMOS光電集成,利用紫外光電探測(cè)器和CMOS讀出電路在弗勞恩霍夫IISB的6?μm 4H-SiC技術(shù)中,構(gòu)建了一款64像素圖像傳感器。并報(bào)道了三種光電探測(cè)器實(shí)施方案,顯示出優(yōu)異的晶圓級(jí)良率和一致性。
光電二極管設(shè)計(jì)
其中一款光電探測(cè)器方案可用于紫外圖像傳感器,基于之前一項(xiàng)類似的硅基CMOS技術(shù)研究,以及先前報(bào)道的碳化硅基本CMOS電路模塊。所報(bào)道的碳化硅光電系統(tǒng)是迄今為止碳化硅中實(shí)現(xiàn)器件數(shù)量最大的之一,具有8 x 8(64)光電探測(cè)像素和1263個(gè)晶體管,并具有串行數(shù)字、模擬或2位ADC輸出選項(xiàng)。
在4H-SiC中集成讀出電路的64像素紫外圖像傳感器顯微照片
紫外光電子器件在火焰探測(cè)、衛(wèi)星、天文學(xué)、紫外攝影和醫(yī)療保健領(lǐng)域都有應(yīng)用。這種光電系統(tǒng)的復(fù)雜性為惡劣環(huán)境的微控制器等新應(yīng)用打開(kāi)了大門。
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原文標(biāo)題:采用碳化硅CMOS技術(shù)實(shí)現(xiàn)片上集成64像素紫外圖像傳感器
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