“明光生二極,解麥克斯韋,窮究浩宇;看像成三維,算霍普金森,不舍毫微?!痹谌A中科技大學教授劉世元創(chuàng)立的宇微光學軟件有限公司(以下簡稱“宇微光學”),墻上有他自創(chuàng)的“藏尾對聯”。
麥克斯韋方程組闡釋了電與磁——這一對宇宙間最深刻的作用力之間的聯系,并將電場和磁場統一了起來;而霍普金森成像公式,是部分相干成像最高效的計算公式,特別適合于掩模優(yōu)化的光刻成像建模計算。
致廣大而盡精微——在劉世元看來,既要抬頭望浩瀚宇宙,也要低頭謀一域精益求精,而光刻領域正是承載人類跨域式科技發(fā)展的關鍵“微粒”。
黨的二十大報告提出,以國家戰(zhàn)略需求為導向,集聚力量進行原創(chuàng)性引領性科技攻關,堅決打贏關鍵核心技術攻堅戰(zhàn)。
近日,劉世元在接受長江日報《在場》欄目記者專訪時說,無論是把論文寫在祖國大地上,還是通過創(chuàng)業(yè)實現核心技術產業(yè)化,個人的發(fā)展要緊跟時代命脈,要始終瞄準解決國家迫切需要解決的關鍵核心技術。
最早一批進入“無人區(qū)”
***是制造芯片的最核心裝備,制造難度極大,被譽為世界上最精密的工具,而在20多年前,在“缺芯少屏”的擔憂下,國內科創(chuàng)產業(yè)有識之士喊出了“砸鍋賣鐵也要研制芯片”的口號。
在政策的鼓勵下,中國半導體產業(yè)出現了海歸創(chuàng)業(yè)和自主發(fā)展的熱潮,當2002年***被列入國家863重大科技攻關計劃時,上海微電子裝備有限公司應運而生并承擔了主要的攻堅克難任務。
彼時,荷蘭阿斯麥爾(ASML)已經成立18年了,距離1997年開啟EUV***研發(fā)也已經過去了5年。
一批精兵強將被集結,要縮短距離奮力趕超。
從英國訪學歸國后不久的劉世元,在學院派遣下,作為最早的幾個技術骨干之一,加盟上海微電子裝備有限公司,成為“100nm***”研制任務總體組成員、控制學科負責人,并帶出80多人團隊,他們中不少人成長為國內首屈一指的***系統專家。
通過3年多的奮斗,他組建了上海微電子第一個控制工程實驗室,解決了掃描投影***中掩模臺、工件臺、曝光劑量等同步控制的技術難題。
這為日后我國600系列***問世、掌握90nm-250nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝等突破,打下了基礎。
2005年回到母校華中科技大學后,劉世元將IC(集成電路)納米制造的計算光刻與計算測量,作為主攻方向。十多年來,他和團隊在該領域的基礎理論與技術創(chuàng)新上做了許多工作,相繼獲得國內外學術界和產業(yè)界同行的重視和認可。
當湖北省組建跨學科領域協同創(chuàng)新的綜合性科研平臺光谷實驗室時,已擔任華中科技大學集成電路測量裝備研究中心主任的劉世元,從國家和湖北經濟社會發(fā)展的重大戰(zhàn)略需求出發(fā),領銜光谷實驗室集成電路測量檢測技術創(chuàng)新中心。
讓***擁有不失真的“犀利眼”
劉世元介紹,繼在“計算測量”領域獲批科技部首批國家重大科學儀器專項并創(chuàng)立企業(yè)解決“卡脖子”難題后,2020年,他二次創(chuàng)業(yè),創(chuàng)立宇微光學,開始邁向“計算光刻”領域。
劉世元介紹,***是IC制造中最為核心的制造裝備,其目的是通過其成像系統將掩模圖形不失真地轉移到硅片上。隨著IC器件關鍵尺寸達到照明光源半波長以下時,硅片上曝光圖形將產生畸變,從而必須引入光學臨近校正(OPC)技術,以實現掩模圖形的優(yōu)化設計。
有人曾開玩笑說,納米級別的微加工工藝,就仿佛一架3馬赫速度飛行的戰(zhàn)斗機準確打擊一個0.0025毫米的目標,“瞄準”難度可見一斑。而劉世元團隊自主研發(fā)的全國產OPC技術及軟件,正是要解決這種“瞄準”能力。
最難的時候,團隊在100多平方米辦公區(qū)初創(chuàng),并急速招兵買馬,集結并培育研發(fā)人員。迄今,該團隊博士占比接近四成。
劉世元介紹,OPC已不再是單純的數據處理,而是綜合考慮物理、化學、光學、數學、高性能計算,以及生產與制造工藝方面的跨學科應用,“僅光學成像設備就涉及電磁波、微納米結構相互作用等物理光學;再如,最終,數據量會以T級計,成像上萬個CPU計算機核非??剂?a target="_blank">算法的效率”。
據介紹,該軟件主要掌握在少數海外巨頭手中。不光硬件買不來,軟件同樣討不來。
作為技術帶頭人,劉世元確定自主技術路線、搭建算法軟件平臺,蹚出一條擁有國產自主知識產權的技術道路。
截至目前,宇微光學已成功研發(fā)全國產、自主可控的計算光刻OPC軟件,填補國內空白。目前正在做集成與測試,并到芯片生產廠商做驗證,今年還將繼續(xù)升級完善,實現訂單突破。
近日,這一成果入選2022年中國光學領域十大社會影響力事件,在中國光學領域高“光”時刻中永恒定格。
審核編輯 :李倩
-
軟件
+關注
關注
69文章
5154瀏覽量
89232 -
核心技術
+關注
關注
4文章
625瀏覽量
20220 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1167瀏覽量
48206
原文標題:宇微光學:突破納米級別核心技術,自主研發(fā)光刻軟件精準成像
文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
Keithley 2450數字源表納米級材料測試的精密利器

共聚焦顯微鏡—賦能光學元件精密質控
云翎智能全國產化執(zhí)法記錄儀核心技術突破:自主可控新標桿

聚焦離子束技術之納米尺度

X射線成像系統:Kirkpatrick-Baez鏡和單光柵干涉儀
一文了解光刻機成像系統及光學鍍膜技術

中國科大在納米級空間分辨紅外成像研究中取得新進展

晶沛自主研發(fā)氣液集成滑環(huán)關鍵核心技術分析

東方晶源深耕電子束量測檢測核心技術 “三箭齊發(fā)”新一代EOS上“機”

評論