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二氧化釩輔助的可切換多功能超材料結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)析

MEMS ? 來(lái)源:紅外芯聞 ? 2023-05-17 17:40 ? 次閱讀
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隨著太赫茲技術(shù)的迅速發(fā)展,基于太赫茲的超材料的應(yīng)用擁有了更多可能性,在濾波器、調(diào)制器、偏振轉(zhuǎn)換器、吸收器等許多方面的應(yīng)用都受到了諸多關(guān)注。石墨烯、液晶(LC)、二氧化釩(VO?)等可調(diào)諧材料的出現(xiàn),為功能性超材料器件的開(kāi)發(fā)提供了新的途徑。VO?作為一種典型相變材料,通過(guò)各種激勵(lì)方式(如熱、電等)可使其發(fā)生相變,在溫度變化時(shí),其電導(dǎo)率會(huì)發(fā)生近4個(gè)數(shù)量級(jí)的變化,同時(shí)也會(huì)呈現(xiàn)出不同的狀態(tài),這使得VO?適用于設(shè)計(jì)多功能超材料器件。

據(jù)麥姆斯咨詢(xún)報(bào)道,近期,中國(guó)計(jì)量大學(xué)和天津大學(xué)的聯(lián)合科研團(tuán)隊(duì)在《中國(guó)光學(xué)(中英文)》期刊上發(fā)表了以“二氧化釩輔助的可切換多功能超材料結(jié)構(gòu)”為主題的文章。該文章第一作者為陳欣怡,通訊作者為中國(guó)計(jì)量大學(xué)嚴(yán)德賢副教授,主要從事太赫茲微波技術(shù)及器件的研究工作。

本文提出了一種基于VO?相變特性的開(kāi)口諧振環(huán)結(jié)構(gòu)多功能超材料偏振轉(zhuǎn)換器件。該器件由VO?填充的開(kāi)口諧振環(huán)和中心放置十字的頂層、聚酰亞胺(PI)介質(zhì)層和金屬基底構(gòu)成。VO?在絕緣態(tài)時(shí),可以實(shí)現(xiàn)交叉極化轉(zhuǎn)換功能,在0.48~0.87 THz范圍內(nèi),偏振轉(zhuǎn)換率大于90%。當(dāng)VO?為金屬態(tài)時(shí),該器件能夠?qū)崿F(xiàn)雙頻吸收和高靈敏度傳感功能。在1.64 THz和2.15 THz頻率處的吸收率大于88%。通過(guò)改變樣品材料的折射率,兩個(gè)頻率點(diǎn)處的傳感靈敏度分別約為25.6 GHz/RIU和159 GHz/RIU,品質(zhì)因子Q分別為71.34和23.12。所提出的超材料多功能器件具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可切換功能和高效率極化轉(zhuǎn)換等特性,在未來(lái)太赫茲通信、成像等領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用價(jià)值。

結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與仿真

本文提出的超材料多功能器件的單元結(jié)構(gòu)如圖1所示。該單元結(jié)構(gòu)從上至下依次是由VO?填充的開(kāi)口諧振環(huán)和金屬十字結(jié)構(gòu)構(gòu)成的頂層結(jié)構(gòu)、PI介質(zhì)層及底部金屬層。本文使用CST Microwave Studio軟件對(duì)提出的結(jié)構(gòu)及其特性進(jìn)行仿真研究。太赫茲波沿著z方向垂直入射到超材料結(jié)構(gòu)表面。仿真時(shí),在x和y方向上添加單元周期邊界,在z方向添加開(kāi)放邊界條件。

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圖1 所提出的多功能超材料器件的結(jié)構(gòu)示意圖。(a)三維視圖;(b)俯視圖;(c)側(cè)視圖。

參數(shù)優(yōu)化之后,設(shè)定其結(jié)構(gòu)單元的周期Px=Py=100 μm,圓環(huán)開(kāi)口角度α=30°,開(kāi)口圓環(huán)外半徑R?=45 μm,開(kāi)口圓環(huán)內(nèi)半徑R?=42 μm,中心十字的較長(zhǎng)邊為b=32 μm,中心十字的較短邊為a=10 μm,PI介質(zhì)層的相對(duì)介電常數(shù)為ε=3.5,損耗角正切值為tan δ=0.0027,厚度為Z?=45 μm。底層金屬材料為金,其厚度為Z?=0.1 μm,電導(dǎo)率為σ(gold)=4.09×10? S/m。根據(jù)之前的研究結(jié)果,可以使用Drude模型來(lái)描述VO?在太赫茲波段的特性。通過(guò)外部電場(chǎng)、光場(chǎng)和溫度場(chǎng)的作用,能夠在較短的時(shí)間內(nèi)改變VO?的相變特性,進(jìn)而影響VO?的電導(dǎo)率。在本文中,當(dāng)VO?的電導(dǎo)率從小于100 S/m變化為高于200000 S/m時(shí),VO?可以從絕緣態(tài)變化為金屬態(tài),能夠?qū)崿F(xiàn)不同的功能。

結(jié)果與討論

VO?為絕緣態(tài)時(shí)超表面為偏振轉(zhuǎn)換器

當(dāng)VO?處于絕緣態(tài)時(shí),該結(jié)構(gòu)可以看作是一個(gè)偏振轉(zhuǎn)換器件,能夠?qū)崿F(xiàn)線偏振-線偏振和線偏振-圓偏振轉(zhuǎn)換。工作帶寬和轉(zhuǎn)換效率是超材料偏振轉(zhuǎn)換器的重要性能指標(biāo)。

基于優(yōu)化后的幾何參數(shù),在VO?處于絕緣態(tài)(電導(dǎo)率為20 S/m)時(shí),對(duì)0.2~1.2 THz范圍內(nèi)的超材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行仿真,得到了兩種模式下的共極化反射和交叉極化反射系數(shù)。由于該結(jié)構(gòu)在x和y方向具有對(duì)稱(chēng)性,在正常入射條件下,TE模和TM模是簡(jiǎn)并的,對(duì)偏振極化角不敏感,故本文提出的結(jié)構(gòu)在TE模TM模下共極化反射系數(shù)與交叉極化反射系數(shù)是相同的,如圖2(a)所示。在0.48~0.87 THz頻率范圍內(nèi),共極化反射系數(shù)相對(duì)較低,而交叉極化反射系數(shù)較高,可以實(shí)現(xiàn)交叉偏振轉(zhuǎn)換。

在頻率為0.41 THz和1.0 THz處,交叉極化反射系數(shù)和共極化反射系數(shù)相等,可以實(shí)現(xiàn)線偏振-圓偏振轉(zhuǎn)換。圖2(b)給出了計(jì)算得到的偏振轉(zhuǎn)換率。從圖2(b)可以看出,在0.48~0.87 THz頻率范圍內(nèi),線偏振-交叉線偏振的偏振轉(zhuǎn)換效率高于90%,并且在0.52 THz、0.66 THz和0.85 THz頻率處的轉(zhuǎn)換效率接近100%,能夠?qū)崿F(xiàn)完美線偏振-線偏振轉(zhuǎn)換。

由圖2可知,在0.4 THz頻率附近PCR曲線有明顯的峰谷。這是由于在該頻點(diǎn)附近存在線偏振-圓偏振轉(zhuǎn)換,在該頻點(diǎn)處線-線偏振轉(zhuǎn)換效率受到交叉極化反射和共極化反射轉(zhuǎn)換產(chǎn)生的電磁波極化偏移的影響導(dǎo)致偏振轉(zhuǎn)換效率下降。同時(shí),通過(guò)對(duì)0.41 THz和1.0 THz處的轉(zhuǎn)換特性進(jìn)行分析,可以發(fā)現(xiàn)在這兩個(gè)頻率處能夠?qū)崿F(xiàn)線偏振-圓偏振轉(zhuǎn)換,可以將入射的線偏振太赫茲波轉(zhuǎn)換為圓偏振太赫茲波。

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圖2 仿真得到的(a)反射系數(shù)和(b)不同偏振入射的PCR

另外,由于超材料結(jié)構(gòu)的工作性能在一定程度上受幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)的影響,為得到最理想的參數(shù),本文研究了結(jié)構(gòu)幾何參數(shù)對(duì)工作性能的影響。在研究過(guò)程中,除一個(gè)待研究參數(shù)改變外,其他參數(shù)保持初始設(shè)置不變。分別研究了參數(shù)b、Z?和R?對(duì)偏振轉(zhuǎn)換率的影響,如圖3所示。如圖3(a)所示,偏振轉(zhuǎn)器的工作帶寬隨著中心十字較長(zhǎng)邊長(zhǎng)度b的增加而減小,帶寬變窄,且較高頻率處的完美偏振轉(zhuǎn)換頻率呈紅移的趨勢(shì)。

由圖3(b)可知,介質(zhì)層厚度Z?對(duì)該結(jié)構(gòu)偏振轉(zhuǎn)換率的影響較小。由圖3(c)可知,當(dāng)開(kāi)口諧振環(huán)外半徑R?從43 μm增加到48 μm時(shí),偏振轉(zhuǎn)換帶寬的低頻部分受到的影響較大,偏振轉(zhuǎn)換率降低,但高頻部分的偏振轉(zhuǎn)換帶寬受到影響較小。基于上述分析,在現(xiàn)有的器件加工條件下,當(dāng)結(jié)構(gòu)參數(shù)在一定范圍內(nèi)變化時(shí),對(duì)偏振轉(zhuǎn)換性能的影響是可接受的。

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圖3 當(dāng)VO?處于絕緣態(tài)時(shí),結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)偏振轉(zhuǎn)換率的影響。(a)中心十字長(zhǎng)邊長(zhǎng)b;(b)介質(zhì)厚度Z?以及(c)開(kāi)口諧振環(huán)外半徑R?

上述分析結(jié)果表明,本文提出的超材料多功能偏振轉(zhuǎn)換器件能夠在較寬的頻率范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效率的偏振轉(zhuǎn)換。其可應(yīng)用在醫(yī)學(xué)成像、偏振轉(zhuǎn)換器件的研制等方面。由于頻譜資源充足,太赫茲通信具有比現(xiàn)有微波通信更高的數(shù)據(jù)容量,偏振和軌道角動(dòng)量(OAM)復(fù)用可以進(jìn)一步增加信息容量。通過(guò)偏振轉(zhuǎn)換來(lái)操縱超表面的輸出電磁場(chǎng),可實(shí)現(xiàn)諸如平面透鏡、光束偏轉(zhuǎn)器、全息成像和渦旋波發(fā)生器等各種功能器件。

當(dāng)VO?處于金屬態(tài)時(shí)超材料結(jié)構(gòu)性能分析

當(dāng)VO?處于金屬態(tài)時(shí),由VO?填充缺口的開(kāi)口諧振環(huán)可以近似看作是一個(gè)圓環(huán)。此時(shí),所設(shè)計(jì)的超材料結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)雙頻吸收和傳感功能。

金屬態(tài)時(shí)作為雙頻吸收器

當(dāng)VO?處于金屬態(tài)時(shí),所提出的太赫茲超材料能夠?qū)崿F(xiàn)吸收功能,并研究了其光學(xué)特性。當(dāng)VO?處于金屬態(tài)時(shí),計(jì)算了超材料結(jié)構(gòu)作為吸收器時(shí)的相關(guān)工作性能,以及相對(duì)阻抗的實(shí)部和虛部,結(jié)果如圖4(a)所示,其中黑色實(shí)線表示吸收光譜A(ω),藍(lán)色和紅色虛線分別表示吸收器共極化反射和交叉極化反射。從圖4(a)中可以看出,在1.64 THz和2.15 THz頻率處可以觀察到2個(gè)不同的吸收峰,吸收率大于88%。且1.64 THz處的吸收峰的帶寬小于2.15 THz頻率處的吸收峰帶寬。

下面將運(yùn)用阻抗匹配理論闡明吸收器的工作機(jī)理。吸收器的相對(duì)阻抗的實(shí)部和虛部均可由S參數(shù)反演法導(dǎo)出。圖4(b)給出了所提出吸收器的吸收譜和相對(duì)阻抗實(shí)部和虛部。從圖中可以看出,在1.64 THz和2.15 THz頻率處的兩個(gè)吸收峰附近,相對(duì)阻抗的實(shí)部逐漸接近于1,虛部逐漸接近于0,在這兩個(gè)頻率處實(shí)現(xiàn)了吸收器和空氣之間的阻抗匹配。需要說(shuō)明的是,由于所設(shè)計(jì)的超材料器件的單元結(jié)構(gòu)具有對(duì)稱(chēng)性,當(dāng)偏振角為90°時(shí),能夠得到大致相同的吸收特性,相關(guān)結(jié)果在文中沒(méi)有給出。

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圖4 VO?處于金屬態(tài)時(shí),所設(shè)計(jì)的超材料結(jié)構(gòu)的吸收特性。(a)反射系數(shù)和吸收特性;(b)相對(duì)阻抗的實(shí)部和虛部

當(dāng)VO?處于金屬態(tài)時(shí),研究了部分幾何參數(shù)(b、R?、Z?)對(duì)所設(shè)計(jì)超材料結(jié)構(gòu)的太赫茲吸收特性的影響,如圖5所示。由圖5(a)可以看出,超材料結(jié)構(gòu)頂層中心十字長(zhǎng)邊長(zhǎng)b的變化會(huì)引起吸收諧振峰的輕微紅移,且隨著b的增加,高頻處的吸收也有輕微降低。從圖5(b)能夠看出,隨著介質(zhì)層Z?從43 μm增加到47 μm,低頻處的吸收峰具有一定程度的紅移,且吸收率從接近100%下降到70%左右。

相較于低頻處的吸收峰,高頻處的吸收峰表現(xiàn)出較為顯著的紅移現(xiàn)象,吸收率變化不大。從圖5(c)可以看出,當(dāng)頂層圓環(huán)結(jié)構(gòu)外半徑R?從43 μm增加到47 μm時(shí),低頻處的吸收峰呈現(xiàn)輕微的藍(lán)移現(xiàn)象,且吸收率略微升高,高頻處的吸收峰出現(xiàn)輕微紅移趨勢(shì),但吸收率增加明顯。

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圖5 吸收器單元結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)太赫茲吸收率的影響。(a)中心十字長(zhǎng)邊長(zhǎng)b;(b)介質(zhì)層厚度Z?;(c)開(kāi)口諧振環(huán)半徑R?

為進(jìn)一步研究本器件的吸收機(jī)理,研究了當(dāng)入射太赫茲波為T(mén)E偏振波時(shí),該吸收結(jié)構(gòu)在兩個(gè)吸收峰(1.64 THz和2.15 THz)處的頂層微結(jié)構(gòu)的電場(chǎng)分布,如圖6所示。圖6(a)給出了頻率為1.64 THz處微結(jié)構(gòu)上的電場(chǎng)分布,該頻率處的電場(chǎng)主要分布在中心十字結(jié)構(gòu)的末端處,與底部金屬薄膜層存在很強(qiáng)的耦合,引起了此頻率處太赫茲波的吸收。而如圖6(b)所示,在頻率為2.15 THz處,電場(chǎng)主要均勻分布在頂層的圓環(huán)結(jié)構(gòu)上,導(dǎo)致此處太赫茲波的吸收。

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圖6 頂層微結(jié)構(gòu)在諧振頻率。(a)1.64 THz和(b)2.15 THz處的電場(chǎng)分布

最后,本文對(duì)不同偏振(TE偏振和TM偏振)入射太赫茲在不同入射角度時(shí)的吸收特性進(jìn)行了研究。從圖7(a)可以看出,對(duì)于TE偏振入射太赫茲波,當(dāng)入射角增加時(shí),低頻處的吸收峰分裂為兩個(gè);高頻處的吸收峰表現(xiàn)出紅移趨勢(shì),且在入射角大于20°時(shí)此處吸收峰的諧振逐漸轉(zhuǎn)移到另一個(gè)吸收峰上。從圖7(b)可以看出,入射角度對(duì)TM偏振入射太赫茲波的影響較大,當(dāng)入射角度大于20°時(shí),吸收特性受影響較大,且分裂為多個(gè)頻率范圍的吸收區(qū)域。

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圖7 不同入射角的超材料結(jié)構(gòu)吸收特性。(a)TE偏振入射;(b)TM偏振入射

金屬態(tài)時(shí)作為傳感器

根據(jù)太赫茲超材料的傳輸特性,本文提出的超材料結(jié)構(gòu)能夠?qū)Σ煌凵渎实耐獠拷橘|(zhì)表現(xiàn)出良好的傳感特性,可通過(guò)改變背景介質(zhì)的折射率得到吸收的變化特性。由此,對(duì)該結(jié)構(gòu)在1.64 THz和2.15 THz頻率處的傳感特性進(jìn)行研究。將不同折射率的待測(cè)介質(zhì)層設(shè)置在該超材料結(jié)構(gòu)的頂層用來(lái)模擬傳感樣品環(huán)境。如圖8(a)所示,隨著折射率從1.0增加到1.25,兩個(gè)吸收峰呈現(xiàn)紅移的變化趨勢(shì),這表明該結(jié)構(gòu)對(duì)外界環(huán)境的介電常數(shù)比較敏感,所以這種結(jié)構(gòu)在傳感方面具有較大的應(yīng)用潛力。

靈敏度是衡量傳感器靜態(tài)特性的一個(gè)重要指標(biāo),可以通過(guò)靈敏度來(lái)衡量折射率傳感器的性能。對(duì)于低頻諧振頻率1.64 THz處的吸收峰,通過(guò)線性擬合,可求得該諧振頻率處的傳感靈敏度約為25.6 GHz/RIU,如圖8(b)所示。對(duì)于較高諧振頻率2.15 THz處的吸收峰,通過(guò)線性擬合可得該頻率處的傳感靈敏度約為159 GHz/RIU,如圖8(c)所示。相比較而言,較高頻率吸收峰處的傳感靈敏度較高。傳感器的質(zhì)量因子Q可以表示為Q=f?/?f,其中,f?是諧振吸收峰的諧振頻率,?f是諧振頻率處的半高寬度。

通過(guò)計(jì)算,在1.64 THz和2.15 THz處吸收峰的Q因子分別為71.34和23.12。綜上分析,與其他傳統(tǒng)材料的傳感器相比,該結(jié)構(gòu)靈敏度高,傳感性能良好,且響應(yīng)速度優(yōu)于傳統(tǒng)傳感器。該結(jié)構(gòu)在金屬態(tài)時(shí),實(shí)現(xiàn)的吸收和傳感功能均可應(yīng)用在能量采集和光學(xué)傳感中,可拓展到太赫茲成像、檢測(cè)等領(lǐng)域?;诔牧衔掌鞯纳飩鞲锌梢酝ㄟ^(guò)增強(qiáng)局域電磁諧振,實(shí)現(xiàn)亞波長(zhǎng)分辨,大大提高傳感器的分辨率與靈敏度。目前基于超材料的太赫茲傳感器已被廣泛應(yīng)用于蛋白質(zhì)濃度檢測(cè)、病毒檢測(cè)、癌細(xì)胞及其標(biāo)記物檢測(cè)。

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圖8 吸收器用作傳感器時(shí)的性能分析。

(a)吸收特性隨待測(cè)樣品折射率的變化情況;(b)1.64 THz頻率處的傳感特性;(c)2.15 THz頻率處的傳感特性

結(jié)論

本文提出一種基于VO?相變特性的開(kāi)口諧振環(huán)結(jié)構(gòu)多功能超材料器件,該器件在VO?處于不同條件下可實(shí)現(xiàn)功能切換。當(dāng)VO?處于絕緣態(tài)時(shí),此結(jié)構(gòu)作為偏振轉(zhuǎn)換器可實(shí)現(xiàn)高效率的線偏振-線偏振轉(zhuǎn)換,在0.48~0.87 THz頻率范圍內(nèi),偏振轉(zhuǎn)換率大于90%。當(dāng)VO?處于金屬態(tài)時(shí),可以實(shí)現(xiàn)雙頻吸收和高靈敏度傳感功能。

在1.64 THz和2.15 THz頻率處具有2個(gè)不同的吸收峰,吸收率大于88%。接著研究了在這兩個(gè)頻率點(diǎn)處的傳感特性,通過(guò)改變樣品材料的折射率得出,兩個(gè)頻率點(diǎn)處的傳感靈敏度分別約為25.6 GHz/RIU和159 GHz/RIU,而兩個(gè)頻率點(diǎn)處的Q因子分別為71.34和23.12,展現(xiàn)出優(yōu)良的傳感性能。同時(shí)還研究了結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)偏振轉(zhuǎn)換性能和吸收性能的影響,從而為樣品的實(shí)際加工提供參考。本文提出的超材料器件具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、調(diào)諧范圍廣、多功能應(yīng)用等特點(diǎn),大大提升了器件實(shí)用可行性,并為太赫茲波段多功能器件的研究提供了思路。





審核編輯:劉清

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原文標(biāo)題:二氧化釩輔助的可切換多功能超材料結(jié)構(gòu)

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    二氧化碳溫濕度光照度傳感器是一種多功能環(huán)境監(jiān)測(cè)設(shè)備,集成了測(cè)量二氧化碳濃度(CO?)、空氣溫度及光照強(qiáng)度(照度)四種關(guān)鍵環(huán)境參數(shù)的功能于一體。通過(guò)內(nèi)置的多類(lèi)型傳感器元件,實(shí)現(xiàn)對(duì)環(huán)境條件
    的頭像 發(fā)表于 07-15 17:21 ?133次閱讀

    為什么LED芯片正電極要插入二氧化硅電流阻擋層,而負(fù)極沒(méi)有?

    為什么LED正電極需要二氧化硅阻擋層?回答:LED芯片正極如果沒(méi)有二氧化硅阻擋層,芯片會(huì)出現(xiàn)電流分布不均,電流擁擠效應(yīng),電極燒毀等現(xiàn)象。由于藍(lán)寶石的絕緣性,傳統(tǒng)LED的N和P電極都做在芯片出光面
    的頭像 發(fā)表于 07-14 17:37 ?175次閱讀
    為什么LED芯片正電極要插入<b class='flag-5'>二氧化</b>硅電流阻擋層,而負(fù)極沒(méi)有?

    晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕的原因

    在集成電路生產(chǎn)過(guò)程中,晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕現(xiàn)象是一個(gè)常見(jiàn)但復(fù)雜的問(wèn)題。每個(gè)環(huán)節(jié)都有可能成為晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕的誘因,因此需要在生產(chǎn)中嚴(yán)格控制每個(gè)工藝參數(shù),尤其是對(duì)邊緣區(qū)域的處理,以減少這種現(xiàn)象的發(fā)生。
    的頭像 發(fā)表于 07-09 09:43 ?149次閱讀

    呼氣末二氧化碳監(jiān)測(cè)中的傳感器應(yīng)用

    以外的第六個(gè)基本生命體征。ETCO2可以反映患者的代謝、通氣和循環(huán)狀態(tài),臨床上通過(guò)測(cè)定ETCO2以監(jiān)測(cè)患者的通氣功能.02呼氣末二氧化碳監(jiān)測(cè)模塊根據(jù)儀器的采樣方式不
    的頭像 發(fā)表于 05-19 13:20 ?208次閱讀
    呼氣末<b class='flag-5'>二氧化</b>碳監(jiān)測(cè)中的傳感器應(yīng)用

    二氧化碳光聲傳感技術(shù)

    室內(nèi)CO2濃度高通常是人類(lèi)存在的結(jié)果。我們的身體吸入氧氣并排放二氧化碳,如果環(huán)境通風(fēng)不暢,二氧化碳會(huì)在室內(nèi)積聚。而且,現(xiàn)代建筑密集的隔熱層間接導(dǎo)致二氧化碳的增加。例如,減少消耗和加熱或冷卻成本的密集
    的頭像 發(fā)表于 05-19 13:19 ?295次閱讀
    <b class='flag-5'>二氧化</b>碳光聲傳感技術(shù)

    芯片制造中的二氧化硅介紹

    二氧化硅是芯片制造中最基礎(chǔ)且關(guān)鍵的絕緣材料。本文介紹其常見(jiàn)沉積方法與應(yīng)用場(chǎng)景,解析SiO?在柵極氧化、側(cè)墻注入、STI隔離等核心工藝中的重要作用。
    的頭像 發(fā)表于 04-10 14:36 ?1144次閱讀
    芯片制造中的<b class='flag-5'>二氧化</b>硅介紹

    礦井下的“隱形守護(hù)者”:解碼礦用二氧化碳傳感器

    在數(shù)百米深的地層之下,煤炭開(kāi)采的轟鳴與礦工們的汗水交織成獨(dú)特的工業(yè)交響曲。而在這幽暗的巷道中,一種看不見(jiàn)的氣體——二氧化碳,正悄然威脅著礦工們的生命安全。據(jù)統(tǒng)計(jì),我國(guó)煤礦每年因有害氣體導(dǎo)致的安全事故
    的頭像 發(fā)表于 03-24 18:22 ?345次閱讀

    上海光機(jī)所在二氧化連續(xù)激光相變研究方面取得進(jìn)展

    Surface Science。 二氧化(VO?)廣泛應(yīng)用于智能材料、電子設(shè)備和能源技術(shù)等領(lǐng)域,是制造光學(xué)限幅器的適宜材料。其具有獨(dú)特的金屬-絕緣體轉(zhuǎn)變(MIT)性質(zhì),當(dāng)溫度達(dá)到約
    的頭像 發(fā)表于 02-13 08:56 ?306次閱讀
    上海光機(jī)所在<b class='flag-5'>二氧化</b><b class='flag-5'>釩</b>連續(xù)激光相變研究方面取得進(jìn)展

    紅外 CO2(二氧化碳) 氣體傳感器和分析模組

    隨著科技的進(jìn)步,人們對(duì)于生活以及身體健康關(guān)注越來(lái)越高。CO2(二氧化碳)是地球大氣的重要組成部分,與人類(lèi)生活息息相關(guān)。關(guān)注CO2(二氧化碳)氣體,監(jiān)測(cè)CO2(二氧化碳)氣體至關(guān)重要。CO2(
    的頭像 發(fā)表于 01-07 17:01 ?652次閱讀
    紅外 CO2(<b class='flag-5'>二氧化</b>碳) 氣體傳感器和分析模組

    高濃度二氧化硫環(huán)境下金屬及其鍍層腐蝕性能測(cè)試

    的嚴(yán)格性和條件,需要考慮使用的腐蝕性氣體類(lèi)型和暴露持續(xù)時(shí)間。為了復(fù)現(xiàn)自然環(huán)境中的腐蝕作用,金鑒實(shí)驗(yàn)室可以開(kāi)展包括一氧化氮(NO2)、二氧化硫(SO2)、二氧化碳(CO
    的頭像 發(fā)表于 11-01 14:24 ?651次閱讀
    高濃度<b class='flag-5'>二氧化</b>硫環(huán)境下金屬及其鍍層腐蝕性能測(cè)試

    Sensirion STC31-C二氧化碳傳感器產(chǎn)品介紹

    如今,各級(jí)醫(yī)療機(jī)構(gòu)和家庭用戶對(duì)便攜式呼吸設(shè)備的需求日益增長(zhǎng),隨著這類(lèi)產(chǎn)品應(yīng)用場(chǎng)景的不斷擴(kuò)展,創(chuàng)新產(chǎn)品也在不斷涌現(xiàn)。氣體傳感器作為氣體檢測(cè)的核心器件——如二氧化碳(CO2)傳感器——在其中起著重要的作用,為呼吸功能監(jiān)測(cè)和管理、人體生命體征監(jiān)控等
    的頭像 發(fā)表于 10-24 10:13 ?995次閱讀

    基于51單片機(jī)的二氧化碳濃度檢測(cè)報(bào)警系統(tǒng)仿真

    具體實(shí)現(xiàn)功能由51單片機(jī)+二氧化碳傳感器+LCD1602液晶顯示屏+按鍵+蜂鳴器+指示燈+電源構(gòu)成。具體功能:(1)二氧化碳傳感器測(cè)得二氧化
    的頭像 發(fā)表于 10-22 14:13 ?533次閱讀
    基于51單片機(jī)的<b class='flag-5'>二氧化</b>碳濃度檢測(cè)報(bào)警系統(tǒng)仿真

    基于51單片機(jī)的二氧化碳濃度檢測(cè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)仿真

    具體實(shí)現(xiàn)功能由51單片機(jī)+二氧化碳傳感器+LCD1602液晶顯示屏+按鍵+蜂鳴器+指示燈+繼電器+風(fēng)扇+電源構(gòu)成。具體功能:(1)二氧化碳傳感器測(cè)得
    的頭像 發(fā)表于 10-22 14:13 ?562次閱讀
    基于51單片機(jī)的<b class='flag-5'>二氧化</b>碳濃度檢測(cè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)仿真

    二氧化硅薄膜實(shí)現(xiàn)增透的原因

    二氧化硅薄膜實(shí)現(xiàn)增透的原因主要涉及以下幾個(gè)方面: 1. 折射率匹配 折射率特性 :二氧化硅(SiO?)的折射率相對(duì)較低,這使得它能夠作為一層有效的增透膜(或稱(chēng)為減反射膜)。當(dāng)光線從一種介質(zhì)進(jìn)入另一種
    的頭像 發(fā)表于 09-27 10:22 ?1360次閱讀

    鍍膜使用二氧化硅的作用

    1. 引言 鍍膜技術(shù)是一種在基材表面形成薄膜的技術(shù),廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、機(jī)械、建筑等領(lǐng)域。二氧化硅作為一種常見(jiàn)的無(wú)機(jī)材料,因其良好的光學(xué)性能、化學(xué)穩(wěn)定性和機(jī)械強(qiáng)度,在鍍膜技術(shù)中得到了廣泛應(yīng)用
    的頭像 發(fā)表于 09-27 10:10 ?1624次閱讀