euv即極紫外線光刻技術是光刻技術領域的新技術，被視為未來半導體制造領域的重要部分。但是，euv技術的開發(fā)存在很多困難，仍然存在局限性。

asml是euv技術開發(fā)的領先者。asml公司是半導體領域***生產企業(yè)的領頭羊，也是全球市場占有率最大的***生產企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個euv試制品，并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機asmlnxe:3400b。共花費了7年的時間。2019年，asml發(fā)布了euv的第一個量產版本asmlnxe:3400c，宣布euv***技術的正式量產階段。

在asml中，euv***的開發(fā)過程也很長。asml將從2001年開始投入巨額資金和人力，到2019年批量生產，歷時10年完成。這體現(xiàn)了euv***技術在發(fā)展過程中所克服的技術難題和挑戰(zhàn)。

asml公司的euv***技術的突破是***領域的偉大成就，但據(jù)許多報道，***的突破并不完全是事實。也有媒體不正確或報道不完全或夸張描寫，試圖吸引眼球的情況。