先進(jìn)半導(dǎo)體應(yīng)用的原位過(guò)程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston? Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質(zhì)譜儀, 適用于先進(jìn)半導(dǎo)體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析.

分子測(cè)量 快速，靈敏度達(dá)到十億分之一 檢測(cè)殘留氣體 / 冷凝物污染.

提高產(chǎn)量 提供化學(xué)特定的可操作見(jiàn)解, 盡可能地提高產(chǎn)量

提高安全性 監(jiān)測(cè)爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果.

Aston? 質(zhì)譜儀解決了關(guān)鍵的原位計(jì)量問(wèn)題

? 提高吞吐量:端點(diǎn)檢測(cè)而不是基于時(shí)間的流程
? 提高產(chǎn)量: 以十億分之一的靈敏度測(cè)量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產(chǎn)物

Aston? 質(zhì)譜儀先進(jìn)工藝的優(yōu)勢(shì)
ppb 級(jí)靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結(jié)構(gòu)
耐腐蝕性氣體
堅(jiān)固緊湊
易于集成到工具平臺(tái)中
沉積應(yīng)用中: 實(shí)時(shí)過(guò)程氣體監(jiān)控，以驅(qū)動(dòng)自動(dòng)化工具調(diào)整以實(shí)現(xiàn)過(guò)程控制, 沉積步驟之間的終點(diǎn)檢測(cè), 實(shí)現(xiàn)層的化學(xué)計(jì)量工程
蝕刻應(yīng)用中: 以 ppb 為單位測(cè)量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點(diǎn)腔室清潔

Atonarp Aston? 技術(shù)參數(shù)

Aston? 質(zhì)譜儀半導(dǎo)體制造應(yīng)用

審核編輯黃宇