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新品 | 聯(lián)訊儀器 PXIe 精密源表S2013C,高速高精度測(cè)量!

聯(lián)訊儀器 ? 2023-07-18 00:00 ? 次閱讀
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聯(lián)訊儀器PXIe源測(cè)量單元(SMU)集成高精度源和測(cè)量單元,可利用PXIe源測(cè)量單元構(gòu)建高密度并行測(cè)試系統(tǒng),以滿足大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路高通道密度,并增加配置的靈活性,最大化測(cè)試效率,降低測(cè)試成本。


聯(lián)訊儀器PXIe SMU基于先進(jìn)的數(shù)字控制技術(shù),集成的Adaptive PFC(Precision-Fast Control)系統(tǒng)使用戶可根據(jù)負(fù)載特性,調(diào)整相關(guān)參數(shù)來(lái)獲得精確、快速的輸出特性, 即使在高容性負(fù)載情況下,也可最小化過(guò)沖和振蕩。

1

主要特點(diǎn)


01

高電壓高精度測(cè)量

S2013C 支持200V/1A直流/3A脈沖,分辨率100fA/100nV,電壓精度100μV,電流精度200pA

02

AdaptivePFC系統(tǒng)

用戶可利用Adaptive PFC(Precise-Fast Control)系統(tǒng),用戶可根據(jù)負(fù)載特性,調(diào)整相關(guān)參數(shù),獲得更精確,快速的輸出特性

03

高速測(cè)量S2013C最高可支持1M的采樣率,NPLC和采樣率可根據(jù)需要設(shè)定,以滿足高速高精度的測(cè)量場(chǎng)景

2

Adaptive PFC系統(tǒng)

SMU采用閉環(huán)反饋控制,以確保源的輸出精確的加在負(fù)載上。實(shí)際使用中,對(duì)于不同的負(fù)載,要獲得理想的響應(yīng),源表的輸出特性需要可配置,然而傳統(tǒng)的SMU使用模擬硬件來(lái)實(shí)現(xiàn)控制循環(huán),負(fù)載會(huì)直接影響用于調(diào)節(jié)輸出電壓或電流的控制循環(huán)。因此傳統(tǒng)的模擬架構(gòu)很難實(shí)現(xiàn)既快又沒(méi)有過(guò)沖,設(shè)計(jì)剛好能為不同負(fù)載提供理想響應(yīng)的電路幾乎不現(xiàn)實(shí)。

聯(lián)訊PXIe源表采用數(shù)字控制系統(tǒng), 集成的Adaptive PFC(Precise-Fast Control)系統(tǒng),可通過(guò)軟件優(yōu)化控制循環(huán),從而實(shí)現(xiàn)對(duì)不同負(fù)載的響應(yīng)進(jìn)行優(yōu)化。該技術(shù)能夠提供最佳響應(yīng)時(shí)間,縮短測(cè)試時(shí)間,并且消除振蕩,提高測(cè)試的穩(wěn)定性

wKgaomS0rIOAZPIYAABakISzWLM424.png

通過(guò)數(shù)字閉環(huán)控制調(diào)節(jié)輸出特性

wKgaomS0rISAOGocAABE5LJ_REk193.png

調(diào)整前輸出特性 調(diào)整后輸出特性

3

PXIe源測(cè)量單元在晶圓測(cè)試中的應(yīng)用

晶圓(Wafer)制作完成之后,成千上萬(wàn)的裸Die規(guī)則的分布滿整個(gè)Wafer,芯片的管腳全部裸露在外,通過(guò)探針將裸露的芯片與源測(cè)試單元相連,進(jìn)行各項(xiàng)電性能參數(shù)的表征。


聯(lián)訊儀器PXIe源表支持標(biāo)準(zhǔn)PXIe機(jī)箱,用戶可根據(jù)需求配置不同槽位的機(jī)箱,將PXIe源表安裝在機(jī)箱中,從而實(shí)現(xiàn)多路的并行測(cè)試,提高測(cè)試效率!

wKgZomS0rISAZTZPAAF-1LbKSi8667.png

S2012C在CP(Chip Probing)測(cè)試中的應(yīng)用

4

聯(lián)訊源表系列

聯(lián)訊儀器可提供臺(tái)式源表(帶主機(jī)和觸摸屏)以及PXIe 插卡式源表(支持標(biāo)準(zhǔn)PXIe機(jī)箱),用戶可根據(jù)需求靈活選擇。

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