電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）隨著歐美韓等國(guó)家均已引進(jìn)EUV***，為其晶圓代工廠提供最先進(jìn)的工藝支持，日本雖然半導(dǎo)體制造水平這些年來提升不大，卻也計(jì)劃引進(jìn)EUV***來打破這一困局，重回行業(yè)一流水平。

美光的1γ節(jié)點(diǎn)

在今年五月，美光宣布將在日本引入EUV***，用于開發(fā)下一代DRAM，基于最先進(jìn)的1γ節(jié)點(diǎn)。此消息一出，美光也就成為第一個(gè)為日本引入EUV***的企業(yè)，美光計(jì)劃在未來幾年內(nèi)，為位于廣島的設(shè)施投資5000億日元持續(xù)開發(fā)1γ技術(shù)。

在1γ節(jié)點(diǎn)之前，美光已經(jīng)在廣島工廠實(shí)現(xiàn)了1β節(jié)點(diǎn)的大規(guī)模量產(chǎn)，而隨著EUV***的引進(jìn)，這類為邏輯工藝帶來巨大的進(jìn)步的天價(jià)設(shè)備，也將進(jìn)一步加劇內(nèi)存制造工藝競(jìng)爭(zhēng)，畢竟來自韓國(guó)的兩大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，三星和SK海力士更早就已經(jīng)布局了。

不過哪怕是美光這樣的行業(yè)巨頭，在引進(jìn)EUV***制造時(shí)付出的成本依舊難以忽略，為此日本政府也加入了該項(xiàng)目的投資。根據(jù)美光公開的情報(bào)，為了確保該節(jié)點(diǎn)晶圓廠的如期建成，日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省也在近日將補(bǔ)貼提高至1920億日元，達(dá)到原計(jì)劃的4倍。

除此之外，高NA EUV***的利用與研發(fā)投資已經(jīng)在計(jì)劃中。美光今年已經(jīng)成功量產(chǎn)1β節(jié)點(diǎn)存儲(chǔ)，且推出了HBM3E的樣品，未來面向生成式AI并基于1γ節(jié)點(diǎn)打造的HBM4必將成為大帶寬內(nèi)存的下一個(gè)爆點(diǎn)。

日本半導(dǎo)體聯(lián)合企業(yè)Rapidus劍指2nm

想必大家都還記得2022年8月成立的日本半導(dǎo)體晶圓廠Rapidus，在日本政府和八大日本公司的支持下，包括電裝、鎧俠、軟銀、索尼和豐田等廠商，Rapidus的計(jì)劃是在2027年實(shí)現(xiàn)2nm邏輯工藝的制造。由此可見，即便有了出海建廠的臺(tái)積電，日本仍計(jì)劃在本地打造他們的半導(dǎo)體制造王牌。

不過要想實(shí)現(xiàn)2nm工藝的制造，自然是少不了EUV***的，甚至需要專門的人員支持。為此，ASML宣布將在Rapidus晶圓廠所在地北海道千歲市建立一個(gè)基地，用于支持這家日本晶圓廠未來的生產(chǎn)。根據(jù)日經(jīng)新聞的報(bào)道，約50名ASML工程師將入駐該基地，幫助Rapidus在當(dāng)?shù)匕惭b最先進(jìn)的ASML EUV***。

不過，該晶圓廠的建設(shè)在上個(gè)月初才正式動(dòng)工，離建成還有一段時(shí)間，所以此時(shí)EUV***的交付還不緊要。更重要的是與EUV***有關(guān)的制造技術(shù)的研究，為此Rapidus也與全球領(lǐng)先的EUV研究組織合作，比如IMEC和IBM等。

從報(bào)道上來看，日本政府已經(jīng)為這家本土晶圓廠準(zhǔn)備了不少資金，現(xiàn)在調(diào)用的補(bǔ)貼就達(dá)到了24億美元，再加上8大日本公司的支持，可以說沖擊2nm完全不是問題。不過Rapidus似乎也打算走一條與臺(tái)積電、三星和英特爾不盡相同的賽道，他們并不打算走大批量量產(chǎn)通用芯片的路線，而是專注于專用芯片的制造，比如低功耗AI芯片等等。

這樣的選擇也算情有可原，畢竟即便有八大公司半導(dǎo)體專家的支持，Rapidus也依然缺少足夠的人才做到臺(tái)積電那樣的體量，要知道目前Rapidus只有200多號(hào)員工，而臺(tái)積電則有70000多名員工，而且后者也在日本招募半導(dǎo)體人才。所以Rapidus只要能夠做到供應(yīng)日本本土的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，提升其工藝水平，就已經(jīng)算完成任務(wù)了。

寫在最后

盡管日本的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)鏈非常發(fā)達(dá)，比如材料、設(shè)備等，都有全球領(lǐng)先的企業(yè)，但在本土的晶圓廠上卻始終沒能趕上國(guó)際先進(jìn)水平。所以日本政府為了改善這一現(xiàn)狀，無論是海外入駐的企業(yè)，還是本土成立的新廠商，都為其提供了大量補(bǔ)貼用于廠房建設(shè)和EUV***的購置。

但引入EUV***帶來的不僅是機(jī)遇，還有挑戰(zhàn)，尤其是以上提到的兩家廠商都在探索最新的半導(dǎo)體工藝，如果不能確保良率和效率的話，再先進(jìn)的設(shè)備也難以帶來可觀的利潤(rùn)。