寬帶隙半導(dǎo)體使許多以前使用硅(Si)無法實現(xiàn)的高功率應(yīng)用成為可能。本博客比較了兩種材料的特性,并說明了為什么碳化硅二極管(SiC)在多個指標(biāo)上具有明顯的優(yōu)勢。
1.在相同額定電壓下,SiC二極管比Si占用的空間更小
SiC具有~10倍的介電擊穿場強(qiáng),對于給定的阻斷電壓,比硅更薄、更高的摻雜漂移層,使其電阻率更低,傳導(dǎo)性能更好。這意味著在相同的額定電壓下,SiC芯片可以小于其硅等效物。對于給定的電流和電壓額定值,具有較小芯片尺寸的另一個好處是器件自電容更低,相關(guān)電荷更低。這與SiC更高的電子飽和速度相結(jié)合,可實現(xiàn)比Si更快的開關(guān)速度和更低的損耗。
2.碳化硅二極管表現(xiàn)出更好的熱性能
SiC的導(dǎo)熱性比Si好近3.5倍,使其每單位面積可以耗散更多的功率(熱量)。雖然封裝可能是連續(xù)運(yùn)行期間的限制因素,但SiC提供的顯著額外裕量為易受瞬態(tài)熱事件影響的應(yīng)用帶來了更大的信心。此外,能夠承受更高的溫度意味著SiC二極管提供更堅固的性能和更好的可靠性,而不會有熱失控的風(fēng)險。
3.SiC二極管的反向恢復(fù)損耗幅度較低,可大大提高功率轉(zhuǎn)換器效率
SiC二極管是單極肖特基金屬半導(dǎo)體器件,其中傳導(dǎo)僅通過多數(shù)載流子(電子)。這意味著當(dāng)二極管正向偏置時,結(jié)耗盡層中幾乎不會存儲任何電荷。相比之下,P-N結(jié)硅二極管是雙極性的,并存儲了在向反向偏置過渡期間必須去除的電荷。這會導(dǎo)致反向電流尖峰,這意味著二極管(以及任何相關(guān)的開關(guān)晶體管和緩沖器)中的功率損耗更高,并且隨著開關(guān)頻率的增加,功率損耗會惡化。SiC二極管在反向偏置下會因自身電容放電而表現(xiàn)出反向電流尖峰,但這可能比P-N結(jié)二極管低一個數(shù)量級,這意味著不僅二極管本身而且在相應(yīng)的開關(guān)晶體管中消耗的功率更少。
4.SiC二極管的正向壓降和反向漏電流與Si相匹配
SiC二極管的最大正向壓降可與最好的超快Si類型相媲美,并且正在不斷改進(jìn)(對于更高的阻斷電壓額定值,差異很?。?。盡管是肖特基型,但在反向偏置下,高壓SiC二極管的反向漏電流和由此產(chǎn)生的功耗相對較低,類似于相同電壓和電流等級的超快Si二極管。由于沒有反向電荷恢復(fù)效應(yīng),SiC二極管和超快Si二極管之間的正向壓降和反向漏電流變化引起的任何微小的耗散差異都會被SiC動態(tài)損耗的改善所抵消。
5.SiC二極管恢復(fù)電流在整個溫度范圍內(nèi)保持穩(wěn)定,降低功率損耗
硅二極管的恢復(fù)電流和時間隨溫度變化而變化很大,使得電路優(yōu)化變得困難,但值得注意的是,對于SiC,不存在這種變化。在某些電路中,如“硬開關(guān)”功率因數(shù)校正級,充當(dāng)升壓整流器的硅二極管可以控制損耗,從高電流下的正向偏置到典型單相交流輸入的反向偏置(通常約為400 V DC母線電壓)。SiC二極管的特性可以顯著提高該應(yīng)用的效率,并減輕硬件設(shè)計人員的設(shè)計考慮。
6.碳化硅二極管可以并聯(lián),沒有熱失控的危險
與Si相比,SiC二極管的另一個優(yōu)點(diǎn)是它們可以并聯(lián)連接,因為它們的正向壓降具有正溫度系數(shù)(在I-V曲線的應(yīng)用相關(guān)區(qū)域),這有助于糾正任何電流不平衡。相比之下,當(dāng)器件并聯(lián)時,Si P-N二極管的負(fù)溫度系數(shù)會導(dǎo)致熱失控,需要大量降額或額外的有源電路來迫使器件分流。
7.碳化硅二極管具有比硅更好的電磁兼容性(EMI)性能
SiC二極管軟開關(guān)行為的另一個好處是顯著降低了EMI。當(dāng)硅二極管用作開關(guān)整流器時,反向恢復(fù)電流(具有寬頻譜)中潛在的瞬息尖峰會導(dǎo)致傳導(dǎo)和輻射發(fā)射。這些會產(chǎn)生系統(tǒng)干擾(通過各種耦合路徑),可能導(dǎo)致超過系統(tǒng)EMI限值。在這些頻率下,由于這種雜散耦合,濾波可能很復(fù)雜。此外,設(shè)計用于衰減開關(guān)基波和低諧波頻率(通常低于1 MHz)的EMI濾波器通常具有高自電容,使其在較高頻率下效率較低。緩沖器可用于快速恢復(fù)硅二極管,以限制邊沿速率和阻尼振蕩,從而減少其他組件上的應(yīng)力并降低EMI。然而,緩沖器必須耗散大量能量,從而降低系統(tǒng)效率。
8.碳化硅二極管的正向恢復(fù)功率損耗低于硅
正向恢復(fù)是硅二極管中經(jīng)常被忽視的功率損耗來源。在從關(guān)斷狀態(tài)過渡到導(dǎo)通狀態(tài)期間,二極管壓降會暫時增加,產(chǎn)生過沖、振鈴和與P-N結(jié)初始較低電導(dǎo)率相關(guān)的額外損耗。然而,SiC二極管中沒有這種效應(yīng),這意味著正向恢復(fù)損失不是問題。
無錫國晶微半導(dǎo)體技術(shù)有限公司是寬禁帶第三代半導(dǎo)體碳化硅SiC功率器件、氮化鎵GaN光電器件以及常規(guī)集成電路研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化的高科技創(chuàng)新型企業(yè),從事碳化硅場效應(yīng)管,碳化硅肖特基二極管、GaN光電光耦繼電器、單片機(jī)集成電路等產(chǎn)品芯片設(shè)計、生產(chǎn)與銷售并提供相關(guān)產(chǎn)品整體方案設(shè)計配套服務(wù),總部位于江蘇省無錫市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi),并在杭州、深圳和香港設(shè)有研發(fā)中心和銷售服務(wù)支持中心及辦事處。
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原文標(biāo)題:碳化硅二極管優(yōu)于同行的8個原因
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