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IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子宣布合作建設(shè) High-NA EUV 研發(fā)中心

傳感器專家網(wǎng) ? 來源:IT之家 ? 作者:IT之家 ? 2023-12-14 08:44 ? 次閱讀
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12 月 12 日消息,今天早些時候,紐約州長凱西?霍楚爾(Kathy Hochul )宣布與 IBM、美光、應(yīng)用材料、東京電子(東京威力科創(chuàng))等半導(dǎo)體巨頭達(dá)成合作,投資 100 億美元,在紐約州 Albany NanoTech Complex 建設(shè)下一代 High-NA EUV 半導(dǎo)體研發(fā)中心。

根據(jù)聲明,負(fù)責(zé)協(xié)調(diào)該設(shè)施建設(shè)的非營利性機構(gòu) NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金向 ASML 采購 TWINSCAN EXE:5200 ***。

紐約州表示,一旦機器安裝完畢,該項目及其合作伙伴將開始研究下一代芯片制造。官方聲明指出,該項目將創(chuàng)造 700 個工作崗位,并帶來至少 90 億美元的私人投資。

此外,官方還強調(diào),這將是北美第一個也是唯一一個擁有 High-NA EUV 光刻系統(tǒng)的公有研發(fā)中心,將為開發(fā)和生產(chǎn) 2nm 節(jié)點甚至更先進(jìn)的芯片鋪平道路。

審核編輯 黃宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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