文章來源：睞芯科技LightSense

原文作者：MX

本文從來源和含義以及計算光刻方面講了衍射的來源。

有趣的來源和含義

“衍射Diffraction”一詞源于拉丁語diffringere，意思是“破碎”，指的是與物體相互作用后的波碎裂。由于傳播輻射的衍射部分和非衍射部分的相干疊加，衍射現(xiàn)象通常表現(xiàn)為傳播場中的強(qiáng)度波紋。

光刻中的衍射

相干光源（點光源）和部分相干光源（光源有一定尺寸）發(fā)射的光線透過聚光透鏡后照射在掩模版上：

下面圖(a) 是掩模版圖形；經(jīng)光照后產(chǎn)生的衍射圖形（這是傅里葉變換）如圖 (b) 所示；衍射圖形經(jīng)過光瞳的調(diào)制，如圖(c) ，經(jīng)投影透鏡在晶圓表面成像（見圖(d)） 。

投影光刻成像的計算過程：掩模版上線寬250nm；光刻機(jī)波長248nm， NA=0.63，σ=0，離焦＝0。

計算光刻軟件包

計算光刻是依靠專用軟件包來實施的，這些軟件包都是由專門的供應(yīng)商提供的。Mentor Graphics的Calibre軟件包；ASML/Brion 的Tachyon 軟件包；KLA-Tencor 的Prolith軟件包等。

隨著硅特征尺寸越來越小，并且必須抵消光學(xué)衍射的影響，因此需要使用光學(xué)鄰近校正 （OPC） 或反向光刻技術(shù) （ILT） 主動操縱掩模圖案，以準(zhǔn)確成像晶圓。這需要先進(jìn)的計算光刻技術(shù)和更高的計算效率。每個行業(yè)都需要加速每個工作負(fù)載，這樣我們才能回收電力，用更少的資源做更多的事情。

審核編輯：湯梓紅