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理論性能遠超SiC?GaN功率二極管的發(fā)展歷程

Hobby觀察 ? 來源:電子發(fā)燒友網(wǎng) ? 作者:梁浩斌 ? 2024-01-24 01:27 ? 次閱讀

電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)氮化鎵功率器件的大規(guī)模應用,是從2018年開始的。自手機快充功能在市場上迅速普及,經(jīng)過數(shù)年的發(fā)展,氮化鎵HEMT器件早已被廣泛應用到快速充電器等應用中。

當然在此之前,氮化鎵在半導體領(lǐng)域還是主要被用于光電領(lǐng)域以及射頻領(lǐng)域。比如藍、綠、白光LED、藍紫光激光器等,射頻領(lǐng)域的大功率功放管、PA、MMIC等,氮化鎵都是重要材料之一。

不過如果聚焦功率領(lǐng)域,可以發(fā)現(xiàn)氮化鎵與碳化硅不同之處在于,碳化硅市場上有晶體管二極管兩種類型的器件,而氮化鎵目前的功率產(chǎn)品主要是HEMT,幾乎沒有氮化鎵二極管的產(chǎn)品出現(xiàn)。而一些大功率的電源適配器中,往往會采用氮化鎵 HMET配合碳化硅SBD的組合。

GaN SBD發(fā)展歷程

但實際上,關(guān)于GaN SBD,甚至是GaN MOSFET等器件的開發(fā)業(yè)界也一直有研究,GaN SBD更是早已有廠商推出相關(guān)產(chǎn)品。

早在1999年,加州理工學院的Bandic等人首次發(fā)表了關(guān)于GaN SBD的研究論文,在這篇論文中,他們研究了器件的基本結(jié)構(gòu),并做出了擊穿電壓為450V,正向?qū)▔航禐?.2V的GaN SBD。

到了2001年,弗羅里達州立大學便通過設(shè)置P型保護環(huán)和場版結(jié)構(gòu)將反向擊穿電壓做到了1000V。

2007年,Velox公司和意法半導體合作,首次將耐壓600V的電源用GaN SBD產(chǎn)品推出市場,成為了第一款商業(yè)化的GaN SBD產(chǎn)品。隨后在2010年,Velox被PI收購,而這個時候也有更多廠商加入到GaN SBD的開發(fā)中。

在早期,氮化鎵器件因為襯底片制造上的限制,大多都在藍寶石襯底上外延出GaN外延層,再在外延層上制造器件。但藍寶石是絕緣體,難以實現(xiàn)垂直型的導電結(jié)構(gòu)??紤]到大電流通過的需求,GaN SBD也大多為平面型結(jié)構(gòu)。

不過隨著材料技術(shù)的發(fā)展以及理論研究的進一步完善,GaN SBD器件也有了新的進展。2010年,日本的Powdec KK公司推出垂直型GaN SBD,它采用了特殊的藍寶石襯底剝離技術(shù),實現(xiàn)了高于600V的反向擊穿電壓、低于現(xiàn)有硅基電力電子器件100倍的通態(tài)電阻以及50%的功率損耗。

即使如此其實也距離GaN SBD的理論性能相差甚遠,GaN SBD理論上的性能,比如導通電阻、擊穿電壓等都要大幅領(lǐng)先于SiC SBD。在相同的耐壓值下,GaN SBD的導通電阻可以是SiC SBD的十分之一。

在2015年,松下宣布開發(fā)出GaN 二極管,能夠支持四倍于傳統(tǒng)碳化硅二極管的工作電流,同時其低開啟電壓的特性也支持二極管在低電壓下工作。松下提出了一種具有p型層(具有成型加工的槽)的混合型氮化鎵二極管,并研發(fā)了一種加工技術(shù),可有選擇性地移除n型層上的p型層,從而實現(xiàn)大工作電流和低開啟電壓,同時實現(xiàn)1.6kV的擊穿電壓。

2021年,蘇州晶湛半導體宣布其研發(fā)的GaN SBD擊穿電壓超過10kV,是全球范圍有史以來報道中實現(xiàn)的最高值。晶湛與美國弗吉尼亞理工大學電力電子技術(shù)中心(CPES)合作,采用了晶湛的新型多溝道AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延片,以及pGaN降低表面場技術(shù)(RESURF)。

通過MOCVD方法在4英寸的藍寶石襯底上單次連續(xù)外延實現(xiàn),無需二次外延,由于采用廉價的藍寶石襯底和水平器件結(jié)構(gòu),其器件的制備成本遠低于碳化硅同類產(chǎn)品的同時,導通電阻率遠低于10kV耐壓的SiC SBD。

蘇州納米所在2022年也成功基于硅基氮化鎵材料,成功研制了1200 V的pn結(jié)功率二極管,并且采用了垂直型結(jié)構(gòu)。

在商業(yè)化應用上,國內(nèi)氮化鎵IDM廠商譽鴻錦在2023年也發(fā)布了電壓為50V/100V的三款GaN SBD產(chǎn)品,采用了垂直結(jié)構(gòu),具有開啟電壓低、損耗小、導通電阻率小、成本低、溫漂小、高溫穩(wěn)定性好等優(yōu)勢。

小結(jié):

目前在功率二極管方面,GaN仍有巨大的應用潛力,不過目前商業(yè)應用的進展仍較慢,未有大規(guī)模的應用落地。在這其中還有很多問題需要解決,尤其是大功率的器件散熱以及隨之帶來的可靠性問題等。

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