北京晶亦精微科技股份有限公司（以下簡稱“晶亦精微”）科創(chuàng)板首次公開募股（IPO）申請已成功過會(huì)，標(biāo)志著這家專注于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)即將迎來新的發(fā)展里程碑。

晶亦精微主要從事半導(dǎo)體設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及技術(shù)服務(wù)，其核心產(chǎn)品——化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）設(shè)備及其配件，在集成電路制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。CMP設(shè)備通過獨(dú)特的化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨協(xié)同作用，能夠高效去除晶圓表面的多余材料，并實(shí)現(xiàn)全局納米級(jí)平坦化，對于提升集成電路的性能和可靠性至關(guān)重要。

隨著全球半導(dǎo)體市場的持續(xù)擴(kuò)張和技術(shù)的不斷進(jìn)步，晶亦精微的CMP設(shè)備及其技術(shù)服務(wù)需求日益旺盛。為了滿足市場的不斷增長，公司計(jì)劃通過本次IPO募資近13億元，主要用于高端半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、工藝提升及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，以及研發(fā)與制造中心的建設(shè)。這些項(xiàng)目的實(shí)施將進(jìn)一步提升晶亦精微的技術(shù)實(shí)力和市場競爭力，推動(dòng)公司在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的持續(xù)創(chuàng)新和發(fā)展。

晶亦精微的成功過會(huì)，不僅體現(xiàn)了公司在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的深厚積累和技術(shù)優(yōu)勢，也展現(xiàn)了科創(chuàng)板對于支持科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級(jí)的堅(jiān)定決心。未來，隨著募投項(xiàng)目的順利推進(jìn)，晶亦精微有望在全球半導(dǎo)體市場中占據(jù)更加重要的地位，為集成電路制造領(lǐng)域的發(fā)展貢獻(xiàn)更多力量。