超透鏡是使用超表面來聚焦光線的平面透鏡。超表面是指一種厚度小于波長(zhǎng)的人工層狀材料。超表面可實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁波偏振、振幅、相位、極化方式、傳播模式等特性的靈活有效調(diào)控。

超透鏡技術(shù)為鏡頭提供了一系列新的輕量化設(shè)計(jì)選項(xiàng)，而且表面的平坦特性還有助于避免傳統(tǒng)曲面鏡頭中常見的圖像變形失真的問題。

超鏡頭的優(yōu)點(diǎn)

大多數(shù)傳統(tǒng)透鏡設(shè)計(jì)使用凸面或凹面形狀來聚焦或擴(kuò)展入射光束。雖然在光軸上可以實(shí)現(xiàn)近乎理想的聚焦，但產(chǎn)生的圖像可能會(huì)因穿過其他鏡頭區(qū)域的光線而失真。圖像角落的桶形和枕形畸變是最常見的。

校正鏡頭像差通常意味著創(chuàng)建定制鏡頭或多個(gè)光學(xué)元件，這會(huì)增加設(shè)備的重量和體積。如果設(shè)備需要改變焦距位置或平移光束，則還需要移動(dòng)任何鏡頭組，這可能會(huì)導(dǎo)致進(jìn)一步的不穩(wěn)定。

與傳統(tǒng)透鏡設(shè)計(jì)相比，衍射透鏡具有一些優(yōu)勢(shì)，因?yàn)樗鼈円彩潜馄降?，并且相?duì)容易以低成本制造。然而，這些鏡頭的顯著缺點(diǎn)之一是存在高階衍射，從而限制了可以實(shí)現(xiàn)的圖像質(zhì)量。相比之下，超透鏡在設(shè)計(jì)上更加靈活，并且在透射圖像中不存在更高衍射階數(shù)的相同問題。

現(xiàn)在正在為超透鏡創(chuàng)造許多新型的表面，這些表面將允許平面透鏡改變其聚焦位置，而無需物理改變光學(xué)系統(tǒng)中任何組件的位置。許多光學(xué)系統(tǒng)由于運(yùn)動(dòng)部件而存在不穩(wěn)定問題;這限制了它們?cè)谑殖衷O(shè)備或車載自動(dòng)駕駛汽車等領(lǐng)域的應(yīng)用。為此，超透鏡可能是一種非常方便的緊湊型解決方案。

表面結(jié)構(gòu)

超透鏡有兩種主要的超表面結(jié)構(gòu)，介電結(jié)構(gòu)或等離子體結(jié)構(gòu)。介電材料用于許多標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)元件，還可以產(chǎn)生形成超表面的亞波長(zhǎng)散射。

如果需要，介電材料用于將相位延遲引入入射光脈沖1現(xiàn)在有一些介電材料可用于創(chuàng)建無像差、衍射受限、偏振無關(guān)的聚焦，并在廣泛的帶寬范圍內(nèi)工作。

在設(shè)計(jì)超透鏡時(shí)，必須考慮表面上散射點(diǎn)的幾何形狀。每個(gè)元單元都會(huì)影響電磁輻射的特性，必須仔細(xì)設(shè)計(jì)以避免傳統(tǒng)的透鏡問題。

等離子體材料有利于電磁輻射的振幅整形，可用于廣泛的波長(zhǎng)區(qū)域。材料中的等離子體模式被明確定義以創(chuàng)建透鏡，但各種修改，例如添加層以過濾掉高階等離子體模式，也有助于提高最終超透鏡的效率。

已經(jīng)有短波長(zhǎng)光刻裝置利用超透鏡可實(shí)現(xiàn)的亞衍射極限聚焦來提高儀器的空間分辨率。然而，制造超透鏡以照亮更大區(qū)域并提高許多超透鏡光學(xué)器件的效率仍然存在一些挑戰(zhàn)。

超透鏡的未來

超透鏡在單個(gè)光學(xué)器件中執(zhí)行復(fù)雜波前工程的潛力對(duì)于一系列應(yīng)用極具吸引力。

與傳統(tǒng)鏡頭相比，超透鏡是設(shè)備小型化、提高光學(xué)穩(wěn)定性和實(shí)現(xiàn)更好質(zhì)量對(duì)焦的理想選擇。

然而，超透鏡的制造并非易事，因?yàn)樾枰?a target="_blank">高精度地設(shè)計(jì)微小結(jié)構(gòu)以在超表面產(chǎn)生所需的行為。

經(jīng)濟(jì)高效地制造超透鏡仍然是一個(gè)重大挑戰(zhàn)。對(duì)于適合用作超表面的新材料，仍需要進(jìn)行大量研究。

盡管制造面臨挑戰(zhàn)，但超透鏡在過去幾年中取得了快速進(jìn)展，并證明它們可用于控制光的所有基本特性。特別是亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)，被譽(yù)為有可能為“工程光學(xué)2.0”帶來一場(chǎng)新的革命。

為寬帶應(yīng)用設(shè)計(jì)多尺度結(jié)構(gòu)是超透鏡需要克服的另一個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)。超透鏡的設(shè)計(jì)和批量制造是有問題的，因?yàn)樗枰喜追N類型的結(jié)構(gòu)。然而，隨著設(shè)計(jì)原則的出現(xiàn)，新的工具正在出現(xiàn)，這意味著任何依賴集成光學(xué)器件的設(shè)備都有一個(gè)充滿希望的未來。

審核編輯 黃宇