氣體是電子工業(yè)的“血液"，尤其在半導體制造過程中需要使用多種氣體，如氮氣、氫氣、氬氣等。在集成電路制造中氣體的占比僅次于硅片，占晶圓制造成本的13%，主要應用于薄膜、刻蝕、摻雜、氣相沉積、擴散等工藝。氣體質(zhì)量流量控制器在半導體行業(yè)中主要應用于氣體供應和控制、清洗和干燥、氣體混合和純化以及氣體泄漏檢測和防護等方面，為半導體制造過程提供了精確的氣體流量測量、控制和監(jiān)測。

一、清洗干燥

在半導體制造工藝中，需要對晶圓和設備進行清洗和干燥，以去除雜質(zhì)和水分。氣體質(zhì)量流量控制器可以用于控制清洗和干燥過程中的氣體流量，確保清潔和干燥的效果。

二、氣體混合和純化

在一些特定的半導體工藝中，需要將多種氣體按照一定比例混合使用。氣體質(zhì)量流量控制器可以根據(jù)設定的比例要求，實時監(jiān)測和調(diào)節(jié)不同氣體的流量，確?；旌蠚怏w的比例精確控制，也可以檢測氣體中的雜質(zhì)和污染物含量，進行氣體純化。

三、化學氣相沉積工藝

在半導體化學氣相沉積CVD工藝中，通常會使用一種或多種前體氣體，這些氣體在反應室中通過化學反應產(chǎn)生固態(tài)薄膜材料，然后沉積在半導體晶片表面。對于不同的前體氣體，需要能夠精確地控制其流量，以確保反應的準確性和穩(wěn)定性。

四、監(jiān)測和控制

在半導體制造過程中，任何氣體泄漏都可能導致制造過程中的污染和故障。氣體質(zhì)量流量控制器可以用于實時監(jiān)測氣體流量的變化，當氣體流量超過設定閾值或突然變化時，可以發(fā)出警報并采取相應措施進行泄漏檢測和修復，保證半導體制造過程的穩(wěn)定性和質(zhì)量。

國產(chǎn)替代崛起

在半導體行業(yè)中，對于氣體的流量及壓力控制的精確度和穩(wěn)定性等性能要求很高，以往大部分廠商使用進口品牌的設備以及氣體質(zhì)量流量控制器MFC，尤其是半導體行業(yè)。

近幾年，由于受到限制因素影響，國產(chǎn)的設備商或生產(chǎn)商已經(jīng)在逐步考慮國產(chǎn)品牌質(zhì)量流量控制器的替代，尤其是對于大宗氣體供應系統(tǒng)。

奧松電子的氣體質(zhì)量流量控制器MFC已經(jīng)逐步參與到擴散/退火、離子注入、刻蝕、氣相沉積等大部分工藝中。有部分產(chǎn)品已出口到國外的相關(guān)企業(yè)，其中AS200系列氣體質(zhì)量流量控制器深受好評，重復精度高達±0.2%F.S.；1×10 -10 Pa·m3 /sec He的低泄露率，氣密性好，保障生產(chǎn)安全；可支持多種信號輸出，包括數(shù)字信號、1～5V 模擬信號以及4～20mA模擬信號；標準開放的通訊協(xié)議為客戶自行開發(fā)控制、采集軟件提供便利；同時，產(chǎn)品還提供功能強大的免費客戶端上位機軟件，方便用戶調(diào)試操作。

審核編輯 黃宇