SK海力士引入創(chuàng)新MOR技術(shù)于DRAM生產(chǎn)
SK海力士在半導(dǎo)體領(lǐng)域再次邁出創(chuàng)新步伐，計劃在其第6代（1c工藝，約10nm）DRAM的生產(chǎn)中，首次采用Inpria的下一代金屬氧化物光刻膠（MOR）。這一突破性的應(yīng)用標(biāo)志著MOR技術(shù)正式進(jìn)入DRAM量產(chǎn)工藝。
據(jù)悉，SK海力士即將量產(chǎn)的1c DRAM將包含五個極紫外（EUV）層，其中一層將使用MOR進(jìn)行繪制。這不僅展現(xiàn)了SK海力士在先進(jìn)制造技術(shù)上的領(lǐng)先實力，也預(yù)示了半導(dǎo)體制造行業(yè)的新趨勢。
值得注意的是，不僅SK海力士，三星電子也對該類無機(jī)PR材料表現(xiàn)出濃厚興趣，預(yù)計將加入MOR技術(shù)的探索與應(yīng)用行列。這一技術(shù)的廣泛應(yīng)用，有望為半導(dǎo)體行業(yè)帶來更多的創(chuàng)新與突破。
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