阿斯麥和IMEC聯(lián)合光刻實驗室啟用
近日，比利時微電子研究中心（IMEC）與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥（ASML）共同宣布，在荷蘭費爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實驗室。
這一實驗室的啟用標志著High-NA EUV技術(shù)向大批量生產(chǎn)邁出了重要一步。實驗室的核心設(shè)備為一臺先進的原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀，以及與之相配套的一系列處理和計量工具。這些設(shè)備將用于研究、開發(fā)和驗證High-NA EUV光刻技術(shù)，以滿足未來半導(dǎo)體制造對更高精度和更小尺寸的需求。
IMEC與阿斯麥的此次合作，不僅將推動High-NA EUV技術(shù)的進一步發(fā)展，還將為半導(dǎo)體行業(yè)帶來更加先進的制造技術(shù)和解決方案。通過共同研發(fā)，雙方將致力于解決半導(dǎo)體制造中的技術(shù)難題，推動半導(dǎo)體行業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新和發(fā)展。
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