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廣立微INF-AI助力格科微產(chǎn)品良率提升

廣立微Semitronix ? 來源:廣立微Semitronix ? 2024-07-27 10:37 ? 次閱讀
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AI技術半導體設計、制造和優(yōu)化等方面的應用日益深入。在設計階段,AI可以通過機器學習算法,提高芯片性能和能效。在制造過程中,AI用于預測和檢測缺陷,優(yōu)化生產(chǎn)流程,快速提升良率。同時AI模型可以分析海量制造數(shù)據(jù),找出潛在問題并進行預防性維護。Fabless、Fab通過AI賦能大大提高了效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

格科微作為領先的CMOS圖像傳感器、DDI顯示芯片設計公司,面對產(chǎn)品對高性能與高質(zhì)量的雙重需求,攜手廣立微(Semitronix),引入廣立微INFINITY-AI系統(tǒng)(簡稱INF-AI),設計制造注入了強大的AI動力,提升產(chǎn)品良率。

INF-AI系統(tǒng)通過深度學習、大數(shù)據(jù)分析等前沿技術,實現(xiàn)了對生產(chǎn)全周期的精準監(jiān)控與智能優(yōu)化,有效識別并解決生產(chǎn)過程中的潛在問題,從而大幅提升產(chǎn)品的良率。

01 簡化操作,低門檻享受AI賦能的高效應用

INF-AI系統(tǒng)配備可視化訓練營,可視化模型發(fā)布,可視化系統(tǒng)配置模塊,讓新手也能迅速上手。

模型訓練從DMS 的數(shù)據(jù)導入,到智能標注,再到訓練結果監(jiān)控以及最后的測試上線,做到了界面友好,可以快速培訓,一鍵部署上線。

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▲ INF-AI 的模型訓練

02 AI模型助力準確高效分類

INF-AI 的模型穩(wěn)定運行,每天上萬的照片分析,對于OQA 模型,準確率基本做到了100%, 而且可以實時監(jiān)控。

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INF-AI智能量測,智能識別功能,對缺陷進行精準量測,解決了ADI/DFI 給出的defect size不準的問題,在OQA的INK應用中顯著提升精準度與效率。

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案例分享1:INF-AI提升分類準確性

假設OQA 需求ink 的defect size 是5um,下圖四張照片,每次人為分類,是否能保證每次的準確定?

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INF-AI 平臺智能識別后,避免了人為分類的不穩(wěn)定性,在size分類的準確性上提升了30%。一方面減少了沒必要的INK,一方面降低了較少人為miss 大顆defect的風險。

案例分享2:INF-AI提升分類效率

CIS 出貨100% by lot scan,100% take image,機臺by lot 存在超過2000張的照片。人為分類一個lot需要0.6h,使用INF-AI 分類后,人為confirm只需要0.02h,效率提升30倍以上。

03 可塑性高,INF-AI滿足客制化需求

INF-AI可以智能聯(lián)動DMS 導入已經(jīng)分類好的defect,配合DMS相關系統(tǒng),智能化管理客戶出貨系統(tǒng),滿足客戶的多重需求。

INFINITY-AI

廣立微的INFINITY-AI系統(tǒng)(簡稱INF-AI)是針對半導體制造業(yè)的開放式機器學習平臺,包括自動缺陷分類 (Automatic Defect Classification,ADC)、晶圓圖缺陷模式分析(Wafer Pattern Analysis,WPA)等應用,支持用戶管理數(shù)據(jù),一鍵訓練、評測、部署模型,為半導體制造業(yè)AI賦能提供一站式解決方案。

關于我們

杭州廣立微電子股份有限公司(股票代碼:301095)是領先的集成電路EDA軟件與晶圓級電性測試設備供應商,公司專注于芯片成品率提升和電性測試快速監(jiān)控技術,是國內(nèi)外多家大型集成電路制造與設計企業(yè)的重要合作伙伴。公司提供EDA軟件、電路IP、WAT電性測試設備以及與芯片成品率提升技術相結合的整套解決方案,在集成電路設計到量產(chǎn)的整個產(chǎn)品周期內(nèi)實現(xiàn)芯片性能、成品率、穩(wěn)定性的提升,成功案例覆蓋多個集成電路工藝節(jié)點。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:AI賦能設計制造 | 廣立微INF-AI助力格科微產(chǎn)品良率提升

文章出處:【微信號:gh_7b79775d4829,微信公眾號:廣立微Semitronix】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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