大家都知道掩膜版主要由基板、遮光層和保護膜組成，其中基板（主要采用玻璃基材，包括石英 和蘇打兩種材質(zhì)）占直接原材料成本比重達90%。
那么什么是掩膜版保護膜大家知道嗎？
掩膜版保護膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義， 主要對掩膜版起物理與化學保護作用。
物理保護：保護掩膜版表面的圖案免受在搬運或使用過程中的物理損傷。防止灰塵和其他污染物 落在掩膜版表面。
化學保護：防止化學試劑或腐蝕性氣體與掩膜版表面發(fā)生化學反應(yīng)。

掩膜保護膜通常分為2類：硬掩膜保護膜和軟掩膜保護膜。硬掩膜保護膜通常由耐腐蝕和硬度較高 的材料構(gòu)成，如Si3N4，SiO2，多晶硅等。軟掩膜保護膜則是由聚合物材料構(gòu)成，硝化纖維樹脂長 期以來在G-線和I-線掩模版的保護中占據(jù)重要地位。當光刻技術(shù)進階至DUV波段，硝化纖維樹脂由 于在這一波段的較高吸收系數(shù)，而影響到掩模版的光學性能，因此含氟樹脂，如聚四氟乙烯和其 他含F(xiàn)的聚合物，由于在DUV波段上的優(yōu)異透明度，成為了DUV掩模版保護膜的熱門候選材料。

硝化纖維樹脂硝化纖維樹脂是一種由纖維素通過硝化反應(yīng)得到的樹脂。通常為白色的固體，可溶 于醇、醚、酮類等有機溶劑中。在掩膜版的保護膜制作中，硝化纖維樹脂通常會被溶解在一個特 定的溶劑中，然后再旋涂到玻璃上，形成一層均勻、透明的薄膜。最后揭下薄膜，切割為合適尺 寸的保護膜即可。
掩膜保護膜落上灰塵影響曝光質(zhì)量嗎？不會。光刻掩膜版上雖然有灰塵，但在投影光刻中，由于 聚焦深度相對較小，那些遠離曝光平面的灰塵通常不會在曝光圖案上產(chǎn)生清晰的影像。也就是說 ，掩膜保護膜上的顆粒由于離圖案生成的晶圓太遠，其影響通常是可以忽略不計的。

掩膜版加工工藝包括圖形轉(zhuǎn)換、圖形光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、尺寸測量、缺陷檢查、缺 陷修補、清洗、貼膜、檢查、出貨等步驟。對應(yīng)的設(shè)備包括光刻機、顯影機、蝕刻機、清洗機、 測量儀、LCVD修補設(shè)備、CD測量機、壁障修補機、面板修補設(shè)備、TFT檢查設(shè)備、貼膜機等。其中，光刻為加工的核心工藝。平板顯示、半導體、觸控等行業(yè)基本都采用掩膜版作為基準圖案 進行曝光復制量產(chǎn)，無掩膜光刻技術(shù)精度低，主要用于電路板行業(yè)。

審核編輯 黃宇