英特爾宣布了一項重大合作計劃，擬與日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所在日本共同建立一所先進的半導(dǎo)體研究發(fā)展中心。該中心旨在通過聚焦半導(dǎo)體制造技術(shù)，助力日本晶片制造設(shè)備及物料行業(yè)的復(fù)興與升級。

預(yù)計在未來三至五年內(nèi)，這座研究中心將拔地而起，并由日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所負(fù)責(zé)運營管理。中心將配備頂尖的極紫外光微影設(shè)施，為設(shè)備制造商和物料公司提供了一個高端的技術(shù)實驗平臺。企業(yè)可付費使用這些先進設(shè)施，進行原型制作、性能測試及技術(shù)研發(fā)，從而加速半導(dǎo)體產(chǎn)品的創(chuàng)新與迭代。

此次合作不僅彰顯了英特爾對半導(dǎo)體技術(shù)前沿的持續(xù)投入，也體現(xiàn)了其在全球范圍內(nèi)推動產(chǎn)業(yè)合作、共謀發(fā)展的戰(zhàn)略眼光。隨著新研究中心的落成，預(yù)計將為日本的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈注入新的活力，推動全球半導(dǎo)體行業(yè)的進一步繁榮。