Energetiq Technology是一家超亮寬帶光源的開發(fā)商和制造商，用于生命和材料科學(xué)，半導(dǎo)體制造和研發(fā)領(lǐng)域的各種先進(jìn)應(yīng)用。Energetiq的激光驅(qū)動(dòng)光源(LDLS)基于革命性的技術(shù)，可在整個(gè)光譜中產(chǎn)生高亮度，具有高可靠性和長(zhǎng)壽命。

目錄

#LDLS的突出優(yōu)勢(shì)

# 高性能分析光譜學(xué)

#納米材料的表征

#光發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)

相關(guān)產(chǎn)品

相關(guān)資料

參考文獻(xiàn)

# LDLS的突出優(yōu)勢(shì)

● 超寬光譜范圍(170 nm-2500 nm)

● 小等離子體光點(diǎn)(~100 μm)

● 超高亮度

● 出色的空間穩(wěn)定性和強(qiáng)度穩(wěn)定性

● 長(zhǎng)使用壽命超過10000小時(shí)

# 高性能分析光譜學(xué)

高性能分析光譜學(xué)在材料科學(xué)中廣泛應(yīng)用于分析復(fù)雜材料的分子組成或表征基于新材料和新工藝的光學(xué)性能。為了實(shí)現(xiàn)最精確的分析，需要覆蓋從最深的紫外線到可見光和近紅外的波長(zhǎng)范圍。傳統(tǒng)上，使用了氘燈和鹵鎢燈的組合。這些燈的工作壽命短，亮度低，光譜范圍有限。Energetiq的EQ-99X和EQ-77激光驅(qū)動(dòng)光源在整個(gè)光譜范圍內(nèi)提供更高的亮度，從170 nm到2500 nm (UV-Vis-NIR)和更長(zhǎng)的壽命數(shù)量級(jí)，使新型儀器能夠以高精度和高效率分析尺寸更小，密度更高的樣品。

法國(guó)馬賽菲涅耳研究所的研究人員使用EQ-99X來表征用于將發(fā)射的衛(wèi)星儀器的復(fù)雜光學(xué)干涉濾光片的性能，他們?cè)O(shè)計(jì)和制造這些濾光片，以滿足在選定光譜帶內(nèi)的高傳輸要求，對(duì)所有剩余部分的極佳抑制，以及濾光片區(qū)域內(nèi)傳輸特性的空間均勻性。LDLS的寬帶輸出，結(jié)合其獨(dú)特的高亮度，空間和時(shí)間通量穩(wěn)定性，可以有效的對(duì)濾光片進(jìn)行表征以及在整個(gè)濾光片孔徑的光譜傳輸?shù)目臻g分辨均勻性測(cè)量。

圖1

左：濾波器的理論傳輸與實(shí)驗(yàn)傳輸?shù)膶?duì)比(綠色實(shí)線為實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù))理論數(shù)據(jù)用紅色虛線表示);

右：光譜透過濾光片孔徑區(qū)域的空間均勻性。

# 納米材料的表征

納米材料正在幾乎所有可以想象到的領(lǐng)域產(chǎn)生新穎而深遠(yuǎn)的影響。由于其卓越的亮度和穩(wěn)定性，Energetiq的LDLS已被證明是表征各種納米材料類型的有價(jià)值和靈活的工具，包括但不限于單層，納米線和納米顆粒。LDLS支持并增強(qiáng)了表征新型光電探測(cè)器、太陽(yáng)能電池、等離子體器件、光催化材料等的物理和光電子特性的各種技術(shù)。

例如，華中科技大學(xué)的研究人員使用EQ-77 LDLS來照亮他們用二維SnSe2/MoS2層狀異質(zhì)結(jié)構(gòu)制造的光電探測(cè)器。即使其寬帶輸出經(jīng)過濾波以提供所需的窄帶500 nm照明，EQ-77也能提供卓越的功率密度、均勻性和穩(wěn)定性，用于表征這些光電探測(cè)器所需的精確測(cè)量。如下圖所示，他們能夠在4.51 mW/cm2的500nm照明下展示出令人印象深刻的9.1 x 103 A/W的光響應(yīng)性，比僅基于MoS2的光電探測(cè)器高出2個(gè)數(shù)量級(jí)。

圖2

(a)光照射下SnSe2 /MoS2異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測(cè)器界面電荷轉(zhuǎn)移示意圖;

(b)暗光和500 nm光照下SnSe2 /MoS2異質(zhì)結(jié)構(gòu)的I-V曲線。插圖:設(shè)備光學(xué)圖像，比例尺 = 5 μm;

(c) 500 nm光照下光電探測(cè)器隨時(shí)間的光響應(yīng);

(d) 500 nm偏置1 v光照射下光電探測(cè)器的光響應(yīng)隨光照強(qiáng)度的變化。

# 光發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)

材料科學(xué)中的表面科學(xué)技術(shù)，如光發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)，可以利用像EQ-77這樣的LDLS光源的高亮度和深紫外輸出。在PEEM應(yīng)用中要求具有高光子能量以及短波長(zhǎng)，光必須聚焦到樣品上的一個(gè)小點(diǎn)，直徑可能為100 μm。通常這要求光源必須通過PEEM儀器中的真空窗，同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)顯著的工作距離。傳統(tǒng)的氙氣(Xe)和汞(Hg)電弧源在200 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)的輸出很低，而且它們的大等離子體尺寸使得在樣品上對(duì)光源成像的效率很低。相比之下，EQ-77中~150 μm直徑的高亮度等離子體即使在較長(zhǎng)的工作距離下也可以直接有效地對(duì)樣品上的區(qū)域進(jìn)行照射。短波長(zhǎng)的高輸出，通常選擇從寬帶LDLS頻譜窄帶通濾波器，已被證明可以產(chǎn)生具有顯著的強(qiáng)度和對(duì)比度的PEEM圖像。

例如，華中科技大學(xué)的研究人員使用EQ-77 LDLS來照亮他們用二維SnSe2/MoS2層狀異質(zhì)結(jié)構(gòu)制造的光電探測(cè)器。即使其寬帶輸出經(jīng)過濾波以提供所需的窄帶500 nm照明，EQ-77也能提供卓越的功率密度、均勻性和穩(wěn)定性，用于表征這些光電探測(cè)器所需的精確測(cè)量。如下圖所示，他們能夠在4.51 mW/cm2的500nm照明下展示出令人印象深刻的9.1 x 103 A/W的光響應(yīng)性，比僅基于MoS2的光電探測(cè)器高出2個(gè)數(shù)量級(jí)。

圖3

圖3顯示的前兩幅圖像分別是hg弧燈和EQ-77在254 nm下的結(jié)果。在這兩張圖片之間，很明顯EQ-77提供了更大的對(duì)比度相比傳統(tǒng)的氫弧燈;第二組圖片是EQ-77在214 nm和193 nm的圖片，而在這些波長(zhǎng)下使用傳統(tǒng)hg弧燈的PEEM產(chǎn)生的圖像對(duì)比度為零，難以區(qū)分。

EQ-77是一種卓越的PEEM光源，與傳統(tǒng)光源相比，由于其極高的亮度輸出和非常小的等離子體尺寸，當(dāng)聚焦到一個(gè)小點(diǎn)上時(shí)，用戶可以獲得更高質(zhì)量的結(jié)果。

審核編輯 黃宇