2019年，我國(guó)終于突破了芯片用超高純電子級(jí)磷酸和高選擇性蝕刻液的進(jìn)口替代難題，發(fā)明了高純黃磷與電子級(jí)磷酸規(guī)?；a(chǎn)關(guān)鍵技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了高端芯片用超高純電子級(jí)磷酸和高選擇性蝕刻液的國(guó)產(chǎn)化。

高選擇性蝕刻液主要應(yīng)用在：一是半導(dǎo)體（集成電路、分立器件）、平板顯示器、LED以及太陽(yáng)能電池片等制作中被大量使用來(lái)清洗表面自身氧化物和其它污染物的液體化學(xué)品；二是在集成電路的制造過(guò)程中的蝕刻功效。

超高純電子級(jí)磷酸及高選擇性蝕刻液是芯片制造行業(yè)不可替代的微電子半導(dǎo)體芯片制造和關(guān)鍵電子化學(xué)品，例如晶圓減薄液、晶圓制絨液、多晶硅蝕刻液、電子級(jí)蝕刻液等關(guān)鍵技術(shù)目前已突破了美日韓等少數(shù)國(guó)家化工企業(yè)長(zhǎng)期壟斷和技術(shù)封鎖，為我國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展創(chuàng)造了良好條件。在過(guò)濾半導(dǎo)體制造用的刻蝕液、剝離液以及液晶電視用的液晶原料時(shí)，對(duì)濾芯的耐藥品性及溶出物的要求非常嚴(yán)格。聚丙烯等通用樹(shù)脂不可使用，只能使用耐藥性及耐溶出性優(yōu)良的氟樹(shù)脂。通過(guò)使用特殊的洗凈方法開(kāi)發(fā)出的全氟濾芯，對(duì)過(guò)濾介質(zhì)要求嚴(yán)格的電子信息材料用藥液等過(guò)濾特別適用。由于經(jīng)過(guò)特殊洗凈，無(wú)化學(xué)污染。全氟折疊濾芯過(guò)濾原液殘留少，特別適合價(jià)格昂貴的蝕刻液體過(guò)濾。

制作IC時(shí)，可以簡(jiǎn)單分為4個(gè)步驟，金屬濺鍍、涂布光阻、蝕刻技術(shù)、光阻去除，其中過(guò)濾和分離是生產(chǎn)半導(dǎo)體，加工化學(xué)品和藥品的行業(yè)，或控制氣體或液體的系統(tǒng)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

一整片晶圓上完成很多 IC 芯片

其中全氟折疊濾芯是采用聚四氟乙烯拉伸膜、PFA骨架制造，具有高通量、高流速、長(zhǎng)壽命，以及極其優(yōu)良的化學(xué)相容性和耐氧化性能等特點(diǎn)。這種濾芯廣泛應(yīng)用于化學(xué)品過(guò)濾中各種酸、堿、有機(jī)溶劑等化學(xué)品的過(guò)濾，能夠滿足大多數(shù)惡劣環(huán)境下的過(guò)濾需求。例如，半導(dǎo)體制造工藝中的高溫、強(qiáng)腐蝕性的化學(xué)品過(guò)濾，化學(xué)品過(guò)濾中各種酸、堿、有機(jī)溶劑等化學(xué)品的過(guò)濾，蝕刻、清洗、光刻膠、顯影液等以及其他的強(qiáng)氧化性液體的過(guò)濾關(guān)鍵材料。

為了提高過(guò)濾器的精度，過(guò)濾產(chǎn)品供應(yīng)商需要獲得較小的孔徑，多采用增加濾材密度的方式，高密度的過(guò)濾介質(zhì)在工作中，過(guò)濾介質(zhì)就會(huì)有較大的壓差，降低流速，這樣過(guò)濾性能就會(huì)受到影響，所以理想的過(guò)濾介質(zhì)需要承受高密度，高壓、高流速，目前大連義邦Dexmet氟聚合物延展過(guò)濾介質(zhì)已在歐洲全氟折疊濾芯廠家PallX和Paker成熟應(yīng)用多年，延展網(wǎng)由定制的精密模具沿著一個(gè)方向撕裂、拉伸，然后材料經(jīng)過(guò)滾軸被加工到最終的厚度，是全球位數(shù)不多可以穩(wěn)定生產(chǎn)高純度PFA和PTFE網(wǎng)的廠家。

Dexmet延展過(guò)濾介質(zhì)

PFA和PTFE材料耐高溫，耐強(qiáng)酸、強(qiáng)堿腐蝕，另外對(duì)比編織網(wǎng)，延展網(wǎng)結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，在超高純電子級(jí)磷酸及高選擇性蝕刻液環(huán)境中，作為全氟濾芯的支撐層，可以輔助濾膜，起到一個(gè)很好的支撐效果，是全氟折疊濾芯的支撐層理想材料之一。芯片制造的難，就是難在不斷地向物理極限發(fā)起挑戰(zhàn)，在芯片研發(fā)與制造過(guò)程中，新的工藝和材料永遠(yuǎn)在顛覆著我們的認(rèn)知，我們要做的，就是不斷地挑戰(zhàn)微觀控制的極限。