歐洲啟動(dòng)1nm及光芯片試驗(yàn)線
近日，歐洲五大頂尖研究機(jī)構(gòu)——比利時(shí)imec、法國(guó)CEA-Leti、德國(guó)Fraunhofer-Gesellschaft、意大利Consiglio Nazionale delle Ricerche及西班牙ICFO齊聚一堂，共同揭幕了首批五條依據(jù)歐盟《芯片法案》設(shè)立的試驗(yàn)線。此舉旨在縮小研究與制造之間的鴻溝，強(qiáng)化CMOS半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)。
其中，imec牽頭的NanoIC試驗(yàn)線尤為引人注目。該項(xiàng)目耗資高達(dá)14億美元，不僅將超越當(dāng)前正在研發(fā)的2nm工藝技術(shù)，更將覆蓋從1nm至7A(即0.7nm)的尖端工藝領(lǐng)域。NanoIC試驗(yàn)線的啟動(dòng)，標(biāo)志著歐洲在半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)方面邁出了重要一步。
此外，NanoIC試驗(yàn)線還匯聚了眾多合作伙伴，包括芬蘭VTT、羅馬尼亞CSSNT、愛爾蘭廷德爾國(guó)家研究所，以及光刻設(shè)備巨頭ASML。這些合作伙伴的加入，無(wú)疑將為NanoIC試驗(yàn)線提供強(qiáng)大的技術(shù)支持和資源保障。
此次五條試驗(yàn)線的啟動(dòng)，不僅體現(xiàn)了歐洲在半導(dǎo)體領(lǐng)域的雄心和實(shí)力，更將為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入新的活力和動(dòng)力。未來(lái)，隨著這些試驗(yàn)線的深入運(yùn)營(yíng)和發(fā)展，歐洲有望在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域取得更多突破性成果。
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