介紹
CCD 已變得越來越專業(yè)化,以滿足商業(yè)和科學市場不斷變化的需求。在科學市場中,CCD 已通過多種方式進行改進和優(yōu)化,以在從光譜學和半導體測試到生物成像和基因研究的廣泛應(yīng)用中提供高性能。
對科學級 CCD 的設(shè)計修改最初是由對 X 射線天文學應(yīng)用的興趣推動的,極大地擴展了同步加速器設(shè)施的 X 射線成像和 X 射線光譜學領(lǐng)域。設(shè)備經(jīng)過精心設(shè)計,可檢測能量范圍從遠低于 100 eV 一直到 100 keV 及更高(整整三個數(shù)量級)的 X 射線,這使得它們對于將高靈敏度與兩個相結(jié)合的研究具有無價的價值。三維探測器。這些設(shè)備用于許多 X 射線技術(shù),包括 X 射線顯微鏡、X 射線光刻、X 射線光譜、X 射線晶體學和 X 射線無損檢測。
在直接檢測相機中,CCD直接暴露于傳入的 X 射線光子,從而能夠直接吸收(即檢測)光子。根據(jù) X 射線能量范圍,可以使用不帶增透膜 (AR) 的背照式 CCD,也可以使用前照式或背照式深耗盡 CCD。
基本原則
當暴露于可見光 (380-750 nm) 時,前照式和背照式 CCD 會在外延層中為每個吸收的光子生成單個電子空穴對。在這些器件中實現(xiàn)比較高量子效率 (QE)所需的比較好層厚度隨波長而變化。前照式和背照式 CCD 制造商已分別確定約 20 μm 和 15 μm的厚度。盡管這些標準厚度可以吸收大約 30 eV 到 20 keV 范圍內(nèi)的 X 射線(圖 1),但 CCD 內(nèi)的其他組件有助于確定檢測低能和中能 X 射線所需的設(shè)備類型。
圖 1:不同能級下的 X 射線衰減長度。
例如,由于前照式 CCD 的電極結(jié)構(gòu)和絕緣層都會吸收能量低于 700 eV 的 X 射線光子,因此需要背照式 CCD 架構(gòu)來檢測低能量 X 射線(約 30 eV)至 3 keV)。背照式 CCD 的橫截面如圖 2 所示。
當涉及低能量 X 射線(大約 30 eV 至 500 eV)時,即使AR 涂層本身也可以吸收 X 射線光子。考慮到這一點,Teledyne Princeton Instruments 設(shè)計了不帶 AR 涂層的直接檢測相機。對于中等能量 X 射線(約 3 keV 至 20 keV),可以使用帶或不帶 AR 涂層的背照式 CCD。
圖 2: A) 前照式深耗盡 CCD 的橫截面。 B) 背照式 CCD 的橫截面。C) 背照式深耗盡 CCD 的橫截面。
為了滿足中等能量 X 射線范圍內(nèi)更高 QE的需求,CCD 制造商 Teledyne e2v幾年前開發(fā)了前照式深耗盡技術(shù),作為提高靈敏度的一種方法。為了在 QE、空間分辨率和缺陷之間實現(xiàn)良好的平衡,Teledyne e2v 采用50 μm 厚的外延層。為了優(yōu)化探測器 QE,Teledyne Princeton Instruments PIXIS-XB將這些傳感器與鈹窗結(jié)合使用,這種設(shè)計使研究人員可以自由使用相機,而無需將探測器連接到真空室。
對于要求 X 射線靈敏度跨越中低能量范圍(約 30 eV 至 20 keV)的極其苛刻的應(yīng)用,Teledyne Princeton Instruments 還設(shè)計了SOPHIA-XO和PIXIS-XO相機,它們使用背照式、無增透膜的深耗盡型 CCD。這些型號具有可旋轉(zhuǎn)的 ConFlat 法蘭,但也可以配備帶鈹窗的可拆卸 ConFlat 法蘭。最后,為了在真空室內(nèi)實現(xiàn)最終的操作靈活性,Teledyne Princeton Instruments 提供了PI-MTE3相機,它可以與任何上述 CCD 傳感器一起提供。
電荷產(chǎn)生機制
穿過 CCD 各層的 X 射線光子可能會因康普頓散射、熒光或光電效應(yīng)而損失能量。對于低于 150 keV 的能量,光電效應(yīng)占主導地位。因此,當硅吸收 30 eV 至 20 keV 能量范圍內(nèi)的 X 射線光子時,其能量通過光電效應(yīng)進行轉(zhuǎn)換,并根據(jù)初級 X 射線光子能量在 CCD 中生成電子空穴對。為了在硅中產(chǎn)生一對電子空穴,每對 X 射線光子平均需要 3.65 eV。因此,當吸收 8.0 keV 的 X 射線光子時,它會產(chǎn)生約 2192 e- (8000/3.65)。請注意,產(chǎn)生電子空穴對所需的平均能量的波動受以下因素控制:硅內(nèi) X 射線光子的相互作用。這些波動由稱為 Fano 因子(硅為 0.1)的數(shù)值因子來概括。
收費機制
對于高度重視定量測量的科學應(yīng)用來說,重要的是,X 射線光子產(chǎn)生的電荷被收集在一個像素內(nèi),然后傳輸?shù)捷敵?a href="http://www.www27dydycom.cn/tags/放大器/" target="_blank">放大器,而不會因電荷轉(zhuǎn)移效率 (CTE) 不完美而造成損失。根據(jù)其生成地點,光電子電荷云有可能在兩個或多個像素之間分裂。為了確保最準確的數(shù)據(jù),必須考慮這種程度的不確定性。
如果電荷在無場層中產(chǎn)生,則它通過擴散移動并重新組合或到達耗盡層場的邊緣。到達耗盡層(或在耗盡層內(nèi)產(chǎn)生)的任何電荷都會以最小的徑向擴散迅速漂移到表面收集位點??拷袼剡吘壔蚧迳钐幃a(chǎn)生的電荷可以在像素之間分裂。來自深度生成事件的一些電荷也可能重新組合,使得電荷不守恒。
信號電荷的測量并不總是表明真實的沉積能量,特別是對于 CCD 深處產(chǎn)生的事件(前照式設(shè)備中的高能 X 射線)。一些部分事件在單色 X 射線源生成的脈沖高度分布中也可能是明顯的。
在無場層被蝕刻掉的背照式器件中,電子直接在外延層中產(chǎn)生。因此,在這種情況下,產(chǎn)生的電子的遷移也可能發(fā)生在較低能量的 X 射線中,因為它們是在表面附近產(chǎn)生的。
當探測器用于光子計數(shù)模式時,應(yīng)采取措施確保 (1) 與曝光時間相關(guān)的入射通量足夠弱,以防止多重射線光子到達同一像素,并且 (2)系統(tǒng)中實現(xiàn)了區(qū)分單像素事件和多像素事件的方法(圖 3)。通常,強度閾值方法用于區(qū)分單像素和多像素事件。要利用此方法,必須為單像素事件和多像素事件選擇精確的閾值水平,如下例所示。
圖 3:單像素和多像素事件的示例。
深色像素表示高于單像素閾值的計數(shù),陰影像素表示單像素閾值和多像素閾值之間的計數(shù)。
輻射損傷
專為直接 X 射線檢測而設(shè)計的 CCD 所獲得的良好靈敏度和更高的 QE 伴隨著固有的權(quán)衡,即一旦大量(即劑量/通量)的 X 射線輻射轟擊 CCD,就會發(fā)生長久性損壞。特別是,觀察到性能參數(shù)的以下變化:
暗電流增加:當 X 射線光子撞擊硅時,它們會在硅和二氧化硅柵極氧化物之間產(chǎn)生額外的界面態(tài)。這些新狀態(tài)的能級位于硅帶隙內(nèi),導致暗電流增加。
平帶電壓偏移:當 X 射線被柵極氧化物吸收時,會生成電子空穴對。一些電子被檢測為信號,其中一些電子重新結(jié)合,其余電子從氧化物中逸出。然而,空穴的遷移率遠低于電子的遷移率;因此,一些空穴被困在氧化物中。這些捕獲的空穴導致正空間電荷的積累,從而改變柵極電勢并增加外延硅有源區(qū)的電勢。這種效應(yīng)被稱為平帶電壓偏移。如果電荷積累變得太大,則可能必須調(diào)整 CCD 時鐘和偏置電壓以維持器件性能。
CTE降低: 如果輻射能量足夠高,硅晶格中就會發(fā)生位移損傷。反過來,CTE 也會降低。為了取代硅原子,需要大約 150 keV 的電子動能。在背照式 CCD 中,入射光子在遇到柵極結(jié)構(gòu)之前到達外延層。因此,在低能 X 射線范圍內(nèi)低于設(shè)備特定閾值的能量水平不會發(fā)生輻射損傷。即使在 X 射線到達電極結(jié)構(gòu)的能量水平上,輻射損傷也會被延遲。
這些參數(shù)受到各種類型輻射的不同影響,即質(zhì)子、中子和重離子(高能粒子),以及電子、伽馬射線、β射線和 X 射線(電離輻射)。隨著電離輻射劑量的增加,性能會緩慢下降,但很少達到可能導致突然故障的災(zāi)難性水平。因此,標志著使用壽命結(jié)束的具體輻射劑量可能會根據(jù)應(yīng)用、X 射線能量和輻射通量的不同而有很大差異。其中一些效應(yīng)是所有硅基器件所固有的,但其他效應(yīng)則與 CCD 結(jié)構(gòu)和制造工藝有關(guān)。
退火損傷
據(jù)報道,如果將因X射線照射而產(chǎn)生高暗電流的器件在約350℃的合成氣體(10%H 2 90%N 2 )中處理幾個小時,CCD的性能可以恢復(fù)到其預(yù)輻照水平。
另據(jù)報道,如果暴露在254 nm UV 波長光源(EPROM 擦除光源)下約 10 分鐘,可以減少各種電壓的變化。
請注意,這些處理可能會使 CCD 更容易受到未來 X 射線的損壞。然而,如果在350℃的合成氣體退火完成后,器件在空氣中在100℃下退火約15小時,那么這種效果可能會被抵消。
本節(jié)中列出的實驗均未在 Teledyne Princeton Instruments 實驗室中進行過,因此我們強烈建議在嘗試這些過程時要小心謹慎。根據(jù)特定 CCD 的損壞程度,可能需要調(diào)整溫度或曝光時間。
審核編輯 黃宇
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