如今在科技圈,超火的話題非AI(人工智能)莫屬。特別是隨著生成式AI的興起,AI能力的進(jìn)化明顯加速,隔不了多久新來(lái)的“后浪”就會(huì)讓原有的技術(shù)消逝在沙灘上。
所謂內(nèi)行看門道,明眼人都知道,這一場(chǎng)AI狂歡背后,是巨大算力的托舉,而算力的背后則是對(duì)“電力”更為迫切的需求。
據(jù)國(guó)際能源署的測(cè)算,在全球范圍內(nèi),作為AI算力核心基礎(chǔ)設(shè)施的數(shù)據(jù)中心的能耗,約占全球總電量的1%至1.5%。而隨著AI技術(shù)的進(jìn)步,有專家預(yù)測(cè)在未來(lái)十到二十年,這個(gè)比例可能會(huì)提高到20-30%,且隨著時(shí)間的推移將繼續(xù)增長(zhǎng)。將AI比喻成“能耗巨獸”并不為過。
這種宏觀層面的能源挑戰(zhàn)自然會(huì)投射到微觀層面。具體到承載AI算力的數(shù)據(jù)中心,有研究顯示,如今AI服務(wù)器消耗的能源是傳統(tǒng)系統(tǒng)的三倍,某些應(yīng)用中AI加速器件的電力需求會(huì)高達(dá)1,000A!考慮到AI在預(yù)訓(xùn)練時(shí)需要使用數(shù)萬(wàn)甚至數(shù)十萬(wàn)級(jí)的加速卡集群,這就使得許多新的數(shù)據(jù)中心已經(jīng)達(dá)到了相當(dāng)于一座小型城市的能耗級(jí)別。
打造如此高密度、高性能的算力基礎(chǔ)設(shè)施,僅通過在原有技術(shù)基礎(chǔ)上打補(bǔ)丁,顯然是行不通的。因此,想要邁入AI時(shí)代,從系統(tǒng)架構(gòu)到元器件層面的全面創(chuàng)新勢(shì)在必行。
AI時(shí)代的無(wú)源元件挑戰(zhàn)
在AI推動(dòng)的技術(shù)創(chuàng)新浪潮中,無(wú)源元件自然不會(huì)缺席,特別是在滿足日益攀升的數(shù)據(jù)中心能耗需求方面,更是發(fā)揮著舉足輕重的作用。
從上文的分析中我們不難看出,AI時(shí)代的無(wú)源元件面臨著來(lái)自三方面的技術(shù)挑戰(zhàn):
大功率
這意味著無(wú)源元件需要在相關(guān)性能上更上層樓,具備支持更大電流、更高電壓的能力。同時(shí),更大的電流無(wú)疑會(huì)帶來(lái)更大的I2R損耗,這就要求在功率鏈路上使用具有等效電阻更低的無(wú)源元件(比如更低ESR的電容器、更低DCR的電感器),以盡可能減少能量耗散。
小尺寸
在單位空間內(nèi)集成更多的AI加速卡,是衡量未來(lái)數(shù)據(jù)中心的一個(gè)重要指標(biāo)。這就要求在PCB電路設(shè)計(jì)中選擇“小身材”的無(wú)源元件。而小尺寸和大功率這兩個(gè)特性往往又是相互制約的,這就催生出新一代的無(wú)源元件,能夠?yàn)榫o湊的空間應(yīng)用打造出高功率密度的解決方案。
高可靠
高功率密度應(yīng)用場(chǎng)景,不可避免地會(huì)帶來(lái)更高的工作溫度和更具挑戰(zhàn)性的工作環(huán)境,因此熱管理是數(shù)據(jù)中心設(shè)計(jì)中至關(guān)重要的一環(huán)。除了花重金打造更高效的數(shù)據(jù)中心散熱系統(tǒng)外,選擇熱性能更出色、能夠在極寬溫度范圍和復(fù)雜環(huán)境中工作,提供穩(wěn)定性能的高可靠性元器件,也是一個(gè)重要考量。
當(dāng)然,大功率、小尺寸、高可靠……這些在AI時(shí)代肉眼可見的需求,對(duì)于成熟的無(wú)源元件行業(yè)來(lái)講,每個(gè)特性上一個(gè)細(xì)微的進(jìn)步,都需要有材料、架構(gòu)以及工藝上的創(chuàng)新作為驅(qū)動(dòng)。
那么,想要大踏步地邁進(jìn)AI時(shí)代,無(wú)源元件需要哪些技術(shù)驅(qū)動(dòng)力?下文將以國(guó)巨集團(tuán)旗下的KEMET公司的幾款代表性的產(chǎn)品為例,帶大家一起做一次深入的探究。
材料創(chuàng)新,賦能大電流功率電感器
在為AI基礎(chǔ)設(shè)施中的加速器設(shè)計(jì)電源時(shí),功率電感是不可或缺的一款磁性元件。如何在支持更高電流的同時(shí),更大限度地減少能量損失并提高整體效率,是擺在大功率電感面前關(guān)鍵的挑戰(zhàn)。
在衡量功率電感性能時(shí),高飽和磁通密度(Bs)和低矯頑力(Hc)是兩個(gè)核心指標(biāo):高Bs的電感器有助于處理更強(qiáng)的磁場(chǎng)而不會(huì)飽和,這意味著其能夠支持更大的電流并存儲(chǔ)更多的能量,使得高功率密度設(shè)計(jì)成為可能;而低Hc則意味著電感需要更少的能量來(lái)磁化和退磁,從而減少能量損失并提高整體效率。然而,在使用傳統(tǒng)磁芯材料制造功率電感時(shí),高Bs和低Hc這兩個(gè)特性往往不可兼得,工程師不得不因?yàn)闄?quán)衡和折中,而影響到電源系統(tǒng)的性能表現(xiàn)。
YAGEO通過材料創(chuàng)新,推出了熱成型FeBPCu納米晶體材料,其可以同時(shí)實(shí)現(xiàn)低至23A/m的矯頑力和1.55T的飽和磁通密度。與傳統(tǒng)的磁芯材料相比,這種納米合金無(wú)疑是制造高效率、高性能功率電感器的更好選擇。
圖1:FeBPCu納米晶體材料與傳統(tǒng)磁芯材料性能比較(圖源:YAGEO/KEMET)
KEMET的TPI大功率電感器就是基于這種創(chuàng)新磁芯材料而打造的一款大電流、低損耗磁性元件,其具有低自發(fā)熱和DCR的特性,一圈貫通結(jié)構(gòu)的線圈設(shè)計(jì)進(jìn)一步優(yōu)化了大電流下的效率表現(xiàn)。
這些SMD大電流功率電感器提供150nH至230nH的額定電感,具有很寬的工作溫度范圍(-40°C至125°C,在50A額定電流條件下),而且僅有±10%的電感容差、±5%的直流電阻容差,可以為高開關(guān)頻率應(yīng)用提供出色的性能和可靠性,非常適合服務(wù)器、存儲(chǔ)、超級(jí)計(jì)算機(jī)、分布式電源、負(fù)載點(diǎn)(POL)DC-DC電源以及其他高開關(guān)頻率應(yīng)用。
圖2:KEMET大電流功率電感器
(圖源:YAGEO/KEMET)
創(chuàng)新架構(gòu),打造低ESR聚合物鉭電容器
在無(wú)源元件中,電容器是應(yīng)用極為廣泛的一個(gè)品類。具體到AI基礎(chǔ)設(shè)施應(yīng)用中,能夠在有限的電路板空間內(nèi),滿足功率效率要求的電容器,無(wú)疑是理想之選。而我們所熟悉的傳統(tǒng)電容產(chǎn)品,似乎與這一“理想”都有差距。好在,KEMET的KO-CAP聚合物鉭電容器來(lái)了!
顧名思義,“聚合物鉭電容器”是在繼承了傳統(tǒng)鉭電容器高體積效率(單位體積內(nèi)的容值)和高穩(wěn)定性特點(diǎn)的基礎(chǔ)上,通過元件結(jié)構(gòu)上的創(chuàng)新,造就出的一種特色鮮明的產(chǎn)品。
具體來(lái)講,KO-CAP聚合物鉭電容器和其它類別的鉭電容器一樣,其Ta2O5介質(zhì)層是生成在由鉭粉顆粒燒結(jié)而成的金屬塊上。它們的不同之處在于,KO-CAP其以一層高導(dǎo)電率的聚合物作為負(fù)極覆蓋在介質(zhì)層表面,這種導(dǎo)電聚合物的顯著優(yōu)點(diǎn)之一就是大大降低了電容器的ESR(可以低至5?20mΩ),遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)鉭電容器的ESR數(shù)值(200~2,000mΩ)。極低的ESR能夠降低紋波電壓,允許通過更大的紋波電流。特別是在高頻下,這種聚合物鉭電容器的阻抗曲線呈現(xiàn)出近似理想電容器的特性,電容量非常穩(wěn)定。
不難看出,KEMET的KO-CAP聚合物鉭電容器融合了固態(tài)電解電容器與導(dǎo)電聚合物陰極的優(yōu)點(diǎn),在一個(gè)表面貼裝封裝中結(jié)合了多層陶瓷電容器(MLCC)的低ESR、鋁電解電容器的高容值、鉭電容器的高體積效率等多重優(yōu)勢(shì),是在高頻率下實(shí)現(xiàn)更低ESR和更好性能穩(wěn)定性的理想解決方案,是AI驅(qū)動(dòng)的服務(wù)器和云基礎(chǔ)設(shè)施應(yīng)用的不二之選。
圖3:KO-CAP聚合物鉭電容器
(圖源:YAGEO/KEMET)
工藝創(chuàng)新,大幅提升PCB空間利用率
在電容器領(lǐng)域,MLCC以其小型化、高容量、高可靠性和低ESR等特性,頗受工程師青睞,應(yīng)用日趨廣泛。在AI驅(qū)動(dòng)的應(yīng)用中,自然也少不了其身影。特別是其緊湊的外形,為空間受限的應(yīng)用提供了極大的設(shè)計(jì)靈活性。
而你是否想象過,利用同樣的PCB面積,大幅提升MLCC容值和性能,更大限度地提升空間利用率?KEMET的KONNEKT高密度密封技術(shù)就能幫你輕松實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。
圖4:基于KONNEKT技術(shù)的MLCC產(chǎn)品
(圖源:YAGEO/KEMET)
KEMET的KONNEKT技術(shù)其實(shí)并不神秘,從上圖大家就能一目了然。沒錯(cuò),就是利用創(chuàng)新的CuSn瞬態(tài)液相燒結(jié)(TLPS)材料,將多個(gè)MLCC單元粘合在一起,連接成一個(gè)整體的表面貼裝元件。其中,TLPS材料將低熔點(diǎn)金屬或合金與高熔點(diǎn)金屬或合金進(jìn)行低溫反應(yīng),能夠形成高導(dǎo)電性鍵合材料。
這種高密度的封裝工藝技術(shù),無(wú)需使用金屬框架即可將各個(gè)組件粘合在一起,有利于降低ESR、ESL和對(duì)電容器的熱阻,而且與標(biāo)準(zhǔn)MLCC回流焊表面貼裝工藝兼容,可謂是一舉多得。
圖5:KONNEKT高密度封裝技術(shù)示意圖
(圖源:YAGEO/KEMET)
正是由于這種創(chuàng)新封裝工藝具有如此鮮明的優(yōu)勢(shì),KEMET已將KONNEKT技術(shù)廣泛應(yīng)用在MLCC中,形成了豐富的產(chǎn)品組合,包括2.4nF至20uF電容范圍、25VDC至3kVDC額定電壓、I類(C0G、U2J)和II類(X7R)電介質(zhì)、多種外形規(guī)格(EIA 1812、2220和3640),還包括AEC-Q200車規(guī)級(jí)產(chǎn)品。這也為不斷拓展的AI應(yīng)用中的元件選型提供了便利。
圖6:基于KONNEKT技術(shù)的產(chǎn)品組合及特性
(圖源:YAGEO/KEMET)
本文小結(jié)
今天,AI正在以超乎想象的速度走進(jìn)我們的生活,這也為無(wú)源元件的發(fā)展開拓了一片潛力巨大的市場(chǎng)空間。而想要在這片全新的市場(chǎng)沃土中生根并茁壯成長(zhǎng),需要無(wú)源元件在材料、架構(gòu)和工藝等多個(gè)維度,進(jìn)行全方位的創(chuàng)新,迭代出適應(yīng)AI時(shí)代的新生代產(chǎn)品。
具體來(lái)講,無(wú)源元件走進(jìn)AI時(shí)代,到底應(yīng)該怎么做?上文介紹的幾款KEMET產(chǎn)品已經(jīng)給出了答案,你get到了嗎?
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原文標(biāo)題:無(wú)源元件如何走進(jìn)AI時(shí)代?
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