來源:硬件驛站
在設(shè)計(jì)驅(qū)動(dòng)電路時(shí),經(jīng)常會(huì)用到MOS管做開關(guān)電路,而在驅(qū)動(dòng)一些大功率負(fù)載時(shí),主控芯片并不會(huì)直接驅(qū)動(dòng)大功率MOS管,而是在MCU和大功率MOS管之間加入柵極驅(qū)動(dòng)器芯片。
柵極驅(qū)動(dòng)器芯片是連接低壓控制器與高功率電路的橋梁,通過放大控制信號(hào)并提供瞬態(tài)拉/灌電流,實(shí)現(xiàn)功率器件(如MOSFET、IGBT、SiC MOSFET等)的快速導(dǎo)通與關(guān)斷,降低開關(guān)損耗并提升系統(tǒng)效率。
本文將探討如下幾個(gè)問題,看看大家是如何理解的。
1、MOS管有哪些分類,各分類有什么差異。
2、為什么大功率的MOS管很少有PMOS。
3、MCU為什么不能驅(qū)動(dòng)大功率MOS,如果硬要直接驅(qū)動(dòng),有什么問題。
4、柵極驅(qū)動(dòng)芯片為什么能夠驅(qū)動(dòng)功率MOS管。
下面分別說明。
1、MOS管有哪些分類,各分類有什么差異。
要了解這些知識(shí),最好的辦法就是上專業(yè)廠家網(wǎng)站。
通過下面的鏈接,可以看到安世公司的MOSFET型號(hào)。
一共分了4個(gè)類別:
Power MOSFETs
Small signal MOSFETs
Application Specific MOSFETs
因?yàn)楸疚氖怯懻揗OS的驅(qū)動(dòng)能力相關(guān)的技術(shù)問題,這里只重點(diǎn)對(duì)比Power MOSFETs和Small signal MOSFETs這兩個(gè)類別的器件。
先看小信號(hào)MOSFETs有些什么特點(diǎn)。
此類別共有211個(gè)N管,116個(gè)P管,12個(gè)N+P管。
這211個(gè)NMOS管,統(tǒng)計(jì)Ciss和RDSon范圍如下:
輸入電容Ciss的范圍:9~2195pF
導(dǎo)通電阻RDSon的范圍:4.9~3800mΩ([typ] @ VGS = 4.5 V)
對(duì)比如下圖:
總體來說,隨著RDSon變小,Ciss逐漸增大。
MOS管的極間電容和手冊(cè)所看到的Ciss,Coss,Crss關(guān)系如下:
我們?cè)倏垂β蔒OS管。
此類別共有311個(gè)N管,14個(gè)P管。
輸入電容Ciss的范圍:350pF~18409pF
導(dǎo)通電阻RDSon的范圍:0.65~60.6 mΩ([typ] @ VGS = 4.5 V)
和小信號(hào)MOS一樣,隨著RDSon變小,Ciss逐漸增大。同時(shí),也可以看出,功率MOS管比信號(hào)MOS管,具有更大的輸入電容以及更小的導(dǎo)通電阻。
另外,我們還注意到一個(gè)現(xiàn)象,就是功率MOS的PMOS數(shù)量很少,只有14個(gè),對(duì)比如下。
回到第二個(gè)話題。
2、為什么大功率的MOS管很少有PMOS。
大功率MOSFET中N溝道(N管)占據(jù)主導(dǎo)地位的原因主要涉及物理特性、性能參數(shù)及成本因素,具體說明如下:
1)?載流子遷移率差異?
N溝道MOSFET依賴電子導(dǎo)電,而P溝道依賴空穴導(dǎo)電。由于硅材料中電子的遷移率顯著高于空穴(約2-3倍),在相同晶元面積下,N管的導(dǎo)通電阻更小,從而降低導(dǎo)通損耗并提升電流承載能力。
2)導(dǎo)通電阻與損耗優(yōu)勢(shì)?
N管的導(dǎo)通電阻通常為毫歐級(jí)別,遠(yuǎn)低于同規(guī)格P管。低導(dǎo)通電阻直接減少了大電流場景下的發(fā)熱量,提高了系統(tǒng)效率,尤其在高壓、大功率應(yīng)用中表現(xiàn)更為突出。
3)?開關(guān)速度與動(dòng)態(tài)性能?
N管的開關(guān)速度更快,開關(guān)損耗更低。這一特性使其適合高頻開關(guān)應(yīng)用(如開關(guān)電源、逆變器),而P管因工藝限制難以達(dá)到同等速度,導(dǎo)致高頻下的效率劣勢(shì)。
4)耐壓與電流能力?
N管在耐壓能力(如600V以上)和通流能力上更具優(yōu)勢(shì)。P管受限于材料和結(jié)構(gòu),耐壓通常較低,難以滿足高功率設(shè)備的需求。
5)?成本與工藝成熟度?
N管制造工藝更成熟,市場需求量大,導(dǎo)致其成本顯著低于P管。而P管因工藝復(fù)雜度和市場規(guī)模限制,價(jià)格相對(duì)較高,進(jìn)一步推動(dòng)N管成為大功率設(shè)計(jì)的首選。
?總結(jié)?:N溝道MOSFET憑借物理特性(載流子遷移率)、性能(低阻、高速、高耐壓)及成本優(yōu)勢(shì),成為大功率應(yīng)用中的主流選擇;而P管僅在一些特定低壓、低功耗或簡化電路設(shè)計(jì)的場景中使用。
3、MCU為什么不能驅(qū)動(dòng)大功率MOS,如果硬要直接驅(qū)動(dòng),有什么問題。
下面來搭建仿真測試環(huán)境。
首先,需要一個(gè)驅(qū)動(dòng)能力和MCU的GPIO驅(qū)動(dòng)能力一致的驅(qū)動(dòng)電路。
參考下面表格的MCU規(guī)格書,搭建P+N推挽電路。
規(guī)格書一般都不會(huì)給芯片工藝,下面就以0.18um COMS工藝進(jìn)行說明。
按輸出拉電流8mA,VOH最低電壓2.4V,得到0.18um工藝PMOS的L=300nm;W=41.8um
備注:MOS管的?L?和W?是描述其物理結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵參數(shù),分別代表溝道的 ?長度?(Length)和 ?寬度?(Width), L越小,溝道電阻越低,驅(qū)動(dòng)電流越大,開關(guān)速度越快;W越大,等效溝道電阻越低,可承載電流越大,驅(qū)動(dòng)負(fù)載能力越強(qiáng)。L的最小值受限于芯片的工藝節(jié)點(diǎn)。
按輸出灌電流8mA,VOL最高電壓0.45V,得到0.18um工藝NMOS的L=350nm;W=26.4um
不同的W和L組合對(duì)應(yīng)的電流數(shù)據(jù)如下(添加了W=900u這一數(shù)據(jù)是為了對(duì)比增大MCU驅(qū)動(dòng)電流,對(duì)后級(jí)MOS管驅(qū)動(dòng)的影響):
在安世官網(wǎng)下載3款NMOS管的spice模型,參數(shù)對(duì)比如下表。
下面分別仿真MCU直接驅(qū)動(dòng)MOS管的仿真波形。
條件1:GPIO驅(qū)動(dòng)電流8毫安,驅(qū)動(dòng)導(dǎo)通電阻為470毫歐的小信號(hào)MOS管PMDXB600UNE。
電路圖和仿真波形如下:
看起來,波形都正常。
條件2:GPIO驅(qū)動(dòng)電流8毫安,驅(qū)動(dòng)導(dǎo)通電阻為6.9毫歐的功率MOS管PXN6R7-30QL。
電路圖和仿真波形如下:
可以看出,功率MOS的Vg控制電壓變緩。
條件3:GPIO驅(qū)動(dòng)電流8毫安,驅(qū)動(dòng)導(dǎo)通電阻為1.1毫歐的功率MOS管PSMN1R0-40ULD。
電路圖和仿真波形如下:
可以看出,功率MOS的Vg控制電壓變得更加緩慢,柵極驅(qū)動(dòng)電壓波形嚴(yán)重失真。
條件4:GPIO驅(qū)動(dòng)電流設(shè)置為仿真模型最大值(W=900u),對(duì)應(yīng)拉電流和灌電流分別是172和273毫安,驅(qū)動(dòng)導(dǎo)通電阻為1.1毫歐的功率MOS管PSMN1R0-40ULD。
電路圖和仿真波形如下:
可以看出,功率MOS的Vg控制電壓對(duì)比條件3,由于MCU的GPIO驅(qū)動(dòng)能力加強(qiáng),柵極驅(qū)動(dòng)電壓恢復(fù)正常。
從上面的仿真可以看出,由于功率MOS的輸入電容更大,MCU提供的8毫安驅(qū)動(dòng)電流并不能良好的驅(qū)動(dòng)功率MOS管,會(huì)導(dǎo)致MOS管柵極電壓上升速度變緩,也意味著MOS管的熱損耗更大,嚴(yán)重時(shí)會(huì)導(dǎo)致燒管子。
而通過提升MCU驅(qū)動(dòng)電流,則能提高柵極電壓上升速度。
條件4的設(shè)置只是理論上的,MCU并不能夠提供百毫安量級(jí)以上的驅(qū)動(dòng)能力,要驅(qū)動(dòng)大功率MOS,在MCU和功率MOS之間串聯(lián)一個(gè)柵極驅(qū)動(dòng)器就能解決問題。
4、柵極驅(qū)動(dòng)芯片為什么能夠驅(qū)動(dòng)功率MOS管。
我們以EG27517這顆芯片舉例,框圖如下:
典型應(yīng)用如下:
芯片規(guī)格書指標(biāo)如下,可以看出,輸入邏輯電平,高電平大于2.5V就可以,因此3.3V供電的MCU就可以使用這款柵極驅(qū)動(dòng)器。輸入電流100uA,也遠(yuǎn)低于MCU的拉電流。
IO的驅(qū)動(dòng)能力為±4A,可以直接驅(qū)動(dòng)功率MOS管。
總結(jié):
1.通用MCU的GPIO驅(qū)動(dòng)能力有限,只能驅(qū)動(dòng)小信號(hào)MOS管。
2.大功率MOS管具有更大的輸入電容,如果用MCU直接驅(qū)動(dòng),會(huì)導(dǎo)致MCU驅(qū)動(dòng)?xùn)艠O電壓充電時(shí)間更長,上升電壓斜率變緩,MOS管熱損耗變大,嚴(yán)重時(shí)會(huì)導(dǎo)致MOS管燒毀。
3.大功率的PMOS管比NMOS成本更高,在大功率MOS驅(qū)動(dòng)電路里,通常只采用NMOS。
4.通過加?xùn)艠O驅(qū)動(dòng)芯片,可以解決MCU不能直接驅(qū)動(dòng)大功率MOS管的問題。
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原文標(biāo)題:MCU為什么不能直接驅(qū)動(dòng)大功率MOS管,如果直接驅(qū)動(dòng),會(huì)有什么問題?
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