11月29日，由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所承擔(dān)的國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收，該裝備用365nm波長(zhǎng)的紫外光單次成像實(shí)現(xiàn)了22nm的分辨率，為光學(xué)超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、傳感芯片等納米光學(xué)加工提供了全新的解決途徑。

本項(xiàng)目利用表面等離子體（surface plasma，SP）超分辨成像原理，突破了衍射極限，開辟了“新”光刻技術(shù)和裝備，并擁有完全自主產(chǎn)權(quán)，解決了產(chǎn)業(yè)應(yīng)用難題。項(xiàng)目完成驗(yàn)收的消息一出，立即刷爆了所內(nèi)職工、同學(xué)的朋友圈，卻也引發(fā)了行業(yè)內(nèi)和公眾的爭(zhēng)論和質(zhì)疑。

“中國(guó)芯片白菜價(jià)在即”、“彎道超車”這些詞匯，讓不明真相的群眾振奮不已，也讓光學(xué)、精密機(jī)械、微電子等領(lǐng)域的人士生疑和擔(dān)憂。這些其實(shí)都是部分媒體對(duì)國(guó)產(chǎn)***的過度宣傳所致。***因能生產(chǎn)芯片而被人們熟知，是除了印鈔機(jī)以外，大概最能賺錢的機(jī)器。然而光電所研制的超分辨***與ASML、尼康等公司的***定位不同，并不用于IC（Integrated Circuit，集成電路）芯片的生產(chǎn)，媒體的誤導(dǎo)性宣傳讓超分辨***項(xiàng)目成果和相關(guān)科研人員受到了不應(yīng)有的質(zhì)疑。

光電所自2003年起在超分辨成像光刻技術(shù)方面進(jìn)行了深入系統(tǒng)地探索，取得了多項(xiàng)技術(shù)突破。2012年承擔(dān)了國(guó)家重大科研裝備——超分辨光刻裝備項(xiàng)目，在近7年間，先后實(shí)現(xiàn)了50nm、45nm、32nm超分辨成像光刻，到目前單次曝光最高線寬分辨力達(dá)到22nm的結(jié)果，是經(jīng)過了長(zhǎng)期的技術(shù)攻關(guān)、積累和沉淀的。

超分辨光刻裝備研制項(xiàng)目目前已獲得了授權(quán)國(guó)內(nèi)發(fā)明專利47項(xiàng)，國(guó)外發(fā)明專利4項(xiàng)，擁有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。

***不止于制造芯片，本項(xiàng)目所研制的光刻設(shè)備用于多種納米功能器件的制造，并已為多所高校及研究所制備大口徑薄膜鏡、超導(dǎo)納米線單光子探測(cè)器、切倫科夫輻射器件、生化傳感芯片、超表面成像器件等，達(dá)到實(shí)用化水平。

驗(yàn)收會(huì)上，光電所稱超分辨光刻設(shè)備用于芯片生產(chǎn)還需要攻克一系列技術(shù)難關(guān)，與國(guó)際領(lǐng)先技術(shù)的距離還很遙遠(yuǎn)。然而，光電所經(jīng)過多年的技術(shù)積累和沉淀，開辟“新”光刻技術(shù)和裝備，技術(shù)完全自主可控，達(dá)到實(shí)用化水平，在超分辨成像光刻領(lǐng)域仍是國(guó)際領(lǐng)先水平。

科學(xué)工作者們深知飯要一口一口吃的道理，項(xiàng)目通過驗(yàn)收后，光電所專家們將繼續(xù)擴(kuò)展超分辨光刻裝備的功能。而媒體也應(yīng)在宣傳我國(guó)科研力量崛起的同時(shí)，尊重事實(shí)，讓大眾了解真相，也避免科研人員背鍋。