一区二区三区三上|欧美在线视频五区|国产午夜无码在线观看视频|亚洲国产裸体网站|无码成年人影视|亚洲AV亚洲AV|成人开心激情五月|欧美性爱内射视频|超碰人人干人人上|一区二区无码三区亚洲人区久久精品

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

一文匯總2018年全球光刻機(jī)出貨情況

集成電路園地 ? 來源:陳翠 ? 2019-02-21 17:03 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

根據(jù)芯思想研究院的數(shù)據(jù)表明,2018年全球***出貨逾600臺,較2017年的460臺增幅達(dá)30%。

一文匯總2018年全球***出貨情況

一文匯總2018年全球***出貨情況

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用***出貨374臺,較2017年的294臺增加80臺,增長27.21%。

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭***總營收118.92億歐元,較2017年增長25.21%。

從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來看,全年共出貨134臺。其中ASML出貨120臺,占有9成的市場。

ASML

2018年ASML***出貨224臺,營收達(dá)82.76億歐元,較2017年成長35.74%。其中EUV***營收達(dá)18.86億歐元,較2017年增加7.85億歐元。

2018年ASML共出貨224臺***,較2017年198年增加26臺,增長13.13%。其中EUV***出貨18臺,較2017年增加7臺;ArFi***出貨86臺,較2017年增加10臺;ArF***出貨16臺,較2017年增加2臺;KrF***出貨78臺,增加7臺;i-line***出貨26臺,和2017年持平。

2018年單臺EUV平均售價(jià)1.04億歐元,較2017年單臺平均售價(jià)增長4%。而在2018年一季度和第四季的售價(jià)更是高達(dá)1.16億歐元。

目前全球知名廠商包括英特爾Intel、三星Samsung、臺積電TSMC、SK海力士SK Hynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。

2018年中國已經(jīng)進(jìn)口多臺ArFi***,包括長江存儲、華力微二期。

Nikon

2018年度(非財(cái)年),Nikon***出貨106臺,營收達(dá)20.66億歐元,較2017年成長25.29%。

2018年度,Nikon半導(dǎo)體用***出貨36臺,比2017年度增加9臺,增長33.33%。其中ArFi***出貨5臺,較2017年度減少1臺;ArF***出貨9臺,較2017年度增加1臺;KrF***出貨5臺,較2017年度增加3臺;i-line***出貨17臺,較2017年度增加6臺。

2018年度,Nikon半導(dǎo)體用***出貨36臺中,其中全新機(jī)臺出貨19臺,翻新機(jī)臺出貨17臺。

2018年度,Nikon面板(FPD)用***出貨70臺。

Canon

2018年Canon***出貨183臺,營收達(dá)15.5億歐元,較2017年微增1.6%。

2018年Canon半導(dǎo)體用***出貨達(dá)114臺,較2017年增加44臺,增長62.85%。但是主要是i-line、KrF兩個(gè)低端機(jī)臺出貨。

2018年全年面板(FPD)用***出貨69臺。

其他***公司

上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限***主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD、MEMSLED、功率器件等制造領(lǐng)域,2018年出貨大概在50-60臺之間。

德國SUSS***主要用于半導(dǎo)體集成電路先進(jìn)封裝、MEMS、LED,2018年***收入約1.2億歐元,較2017年增長約7個(gè)百分點(diǎn)。

ASML公司EUV進(jìn)展

2018年,ASML和IMEC建設(shè)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室,目標(biāo)一是加速EUV技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn);二是實(shí)驗(yàn)以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓,從而提高分辨率,并且實(shí)現(xiàn)更小的特征尺寸。

2019年下半年,ASML將推出每小時(shí)吞吐量為170片的EUV新機(jī)型NXE:3400C;2021年將推出0.55 NA的新機(jī)型EXE:5000,可用于2納米生產(chǎn)。

ASML預(yù)估2019年全年將出貨30臺EUV***,據(jù)悉DRAM公司也將于2019年開始采用EUV***制造。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1167

    瀏覽量

    48194

原文標(biāo)題:2018年全球光刻機(jī)出貨情況

文章出處:【微信號:cjssia,微信公眾號:集成電路園地】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3402次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對電子束質(zhì)量的要求。 只有對聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇,以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的,使電子束分布在條直線
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會

    【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?630次閱讀

    不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?1203次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    什么是光刻機(jī)的套刻精度

    在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說,它就像建造摩天大樓
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2257次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的套刻精度

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?495次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1358次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2533次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2235次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    看懂光刻技術(shù)的演進(jìn)

    光刻機(jī)的分辨率受光源波長(λ)、工藝因子(k1)和數(shù)值孔徑(NA)三個(gè)主要參數(shù)的影響。根據(jù)瑞利第公式(CD = k1*λ/NA),這三個(gè)參數(shù)共同決定了光刻機(jī)的分辨率。 ? 芯片制造是
    的頭像 發(fā)表于 11-28 09:58 ?2056次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b>看懂<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)的演進(jìn)

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    時(shí),摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002,浸潤式光刻的構(gòu)想被提
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2461次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機(jī)通過系列復(fù)雜的技術(shù)手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5858次閱讀

    看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 、光刻機(jī)發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4610次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b>看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    高端光刻機(jī)研發(fā)是個(gè)系統(tǒng)工程,涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)和突破,在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā),在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學(xué)集成裝配技術(shù)等,在
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1425次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b>了解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    今日看點(diǎn)丨TCL收購LGD廣州廠;佳能首次出貨納米壓印光刻機(jī)

    其中。 ? 報(bào)道援引知情人士的消息稱,蘋果退出了最近輪的談判,該輪融資預(yù)計(jì)將于下周結(jié)束。另外兩家科技巨頭公司微軟和英偉達(dá)也參與了這輪談判。有消息稱微軟預(yù)計(jì)將在此前已向該公司投資130億美元的基礎(chǔ)上再投資約10億美元。 ? 2. 佳能首次
    發(fā)表于 09-29 11:24 ?1128次閱讀