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晶圓級(jí)高質(zhì)量InAs納米結(jié)構(gòu)維度調(diào)控方面的最新研究成果

電子工程師 ? 來源:cc ? 2019-03-04 11:04 ? 次閱讀
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最近,國(guó)際期刊《納米快報(bào)》(Nano Letters, DOI: 10.1021/acs.nanolett.8b04561) 報(bào)道了中科院半導(dǎo)體所半導(dǎo)體超晶格國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室趙建華研究員團(tuán)隊(duì)與合作者在晶圓級(jí)高質(zhì)量InAs納米結(jié)構(gòu)維度調(diào)控方面的最新研究成果。

InAs是一種重要的III-V族窄禁帶半導(dǎo)體,具有電子遷移率高、有效質(zhì)量小及自旋軌道耦合強(qiáng)等特征,是制備高速低功耗電子器件、紅外光電子器件及自旋電子器件的理想材料,特別是近年來一維InAs納米線在拓?fù)淞孔佑?jì)算研究方面的應(yīng)用也引起了人們極大地重視。而立式InAs納米片是典型的二維體系,通過厚度調(diào)節(jié),可以實(shí)現(xiàn)能帶結(jié)構(gòu)從三維到二維的精確控制。二維InAs納米片優(yōu)異的物理性質(zhì)及獨(dú)特的幾何造型,使其成為研制高性能堆疊的納米片場(chǎng)效應(yīng)晶體管的重要選擇。最近,二維InAs在拓?fù)淞孔佑?jì)算研究中的編織操作及干涉測(cè)量方面也展現(xiàn)出美好的前景。然而要實(shí)現(xiàn)InAs材料這些應(yīng)用,需要在InAs制備過程中對(duì)其形貌、晶體質(zhì)量尤其是維度進(jìn)行高度的控制,因此,尋找一種可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量InAs材料維度調(diào)控技術(shù)是近年來科學(xué)家們追求的目標(biāo)。

趙建華團(tuán)隊(duì)的潘東副研究員等發(fā)明了一種通過控制合金催化劑偏析實(shí)現(xiàn)晶圓級(jí)高質(zhì)量InAs納米結(jié)構(gòu)的維度調(diào)控技術(shù)。在分子束外延方法制備InAs納米線過程中,他們通過精確控制合金催化劑的組分,使Ag-In合金催化劑發(fā)生偏析,從而使一維InAs納米線直接轉(zhuǎn)變?yōu)槎SInAs納米片,透射電鏡分析證實(shí)催化劑偏析是引起InAs維度轉(zhuǎn)變的原因。利用這種維度調(diào)控技術(shù),他們還分別在Si、GaAs、MgO及藍(lán)寶石等多種襯底上實(shí)現(xiàn)了晶圓級(jí)高質(zhì)量二維InAs納米片的制備。北京大學(xué)徐洪起教授課題組將這種高質(zhì)量的InAs納米片制成了場(chǎng)效應(yīng)晶體管,低溫下場(chǎng)效應(yīng)遷移率達(dá)到7000 cm2/V.s。瑞典Lund大學(xué)Arkady Yartsev教授課題組測(cè)試發(fā)現(xiàn)這種高質(zhì)量InAs納米片具有長(zhǎng)光電導(dǎo)壽命。

利用催化劑偏析技術(shù)實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量晶圓級(jí)InAs納米結(jié)構(gòu)的維度調(diào)控,為有效控制III-V族半導(dǎo)體的維度提供了一種全新的方法,也為研制高性能立式納米片電子器件及量子器件提供了基礎(chǔ)。

北京工業(yè)大學(xué)隋曼齡教授課題組在本工作中進(jìn)行了樣品球差電鏡測(cè)試,吉林大學(xué)張立軍教授課題組進(jìn)行了生長(zhǎng)機(jī)制理論計(jì)算。該項(xiàng)工作得到了科技部、國(guó)家自然科學(xué)基金委、中科院和北京市自然科學(xué)基金委的經(jīng)費(fèi)支持。

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原文標(biāo)題:半導(dǎo)體所實(shí)現(xiàn)了晶圓級(jí)高質(zhì)量InAs納米結(jié)構(gòu)的維度調(diào)控

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