6月18日，半導(dǎo)體清洗設(shè)備供應(yīng)商盛美半導(dǎo)體（ACMR）在官網(wǎng)宣布，公司將推動(dòng)其上海運(yùn)營(yíng)子公司ACM（上海）研究有限公司（簡(jiǎn)稱(chēng)“ACM上?！保┰谏虾？苿?chuàng)板上市。

1998年，盛美半導(dǎo)體由國(guó)家千人專(zhuān)家王暉博士為代表的一群清華校友在美國(guó)硅谷成立；2006年，公司在上海張江成立了合資公司 ACM Shanghai；2017年11月，公司正式在美國(guó)納斯達(dá)克上市，美股代碼為“ACMR”。

作為國(guó)產(chǎn)清洗設(shè)備的領(lǐng)頭羊，盛美半導(dǎo)體擁有SAPS、TEBO和Tahoe三類(lèi)單晶圓清洗設(shè)備，且打入了中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、SK海力士等主流生產(chǎn)線(xiàn)。

2009年，盛美半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)出全球首創(chuàng)的可移動(dòng)兆聲波清洗技術(shù)（SAPS），解決了在傳統(tǒng)的單片清洗中容易出現(xiàn)的兆聲波清洗不均勻的難題。而此時(shí)SK海力士正被小顆粒的清洗問(wèn)題所困擾，借此機(jī)遇，盛美首臺(tái)12英寸45nm單片清洗設(shè)備進(jìn)入SK海力士無(wú)錫生產(chǎn)線(xiàn)測(cè)試，由此盛美也開(kāi)始與SK海力士展開(kāi)長(zhǎng)期合作。值得一提的是，這也是國(guó)內(nèi)首臺(tái)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高端12英寸半導(dǎo)體設(shè)備，打破了國(guó)產(chǎn)設(shè)備在海外銷(xiāo)售的零記錄。

2016年，盛美半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)出電氣泡震蕩兆聲波清洗技術(shù)（TEBO），不僅可以用于FinFET圖形硅片的清洗，也可以用于DRAM以及3D Flash等（深寬比15:1、30:1甚至60:1）關(guān)鍵工藝的清洗，實(shí)現(xiàn)覆蓋16nm-19nm的制程。2017年TEPO機(jī)型已經(jīng)在華力微電子得到廣泛的應(yīng)用。

2018年8月，盛美半導(dǎo)體發(fā)布了Ultra-C Tahoe高溫硫酸設(shè)備，再次延伸了公司的單晶圓清洗設(shè)備產(chǎn)品系列。Ultra-C Tahoe通過(guò)精準(zhǔn)控制，降低了酸性清洗物質(zhì)在單晶圓旋轉(zhuǎn)清洗中的大量浪費(fèi)，使得化學(xué)物質(zhì)的消耗維持在實(shí)際與晶圓片表面發(fā)生反應(yīng)的較低比例。以一個(gè)月產(chǎn)十萬(wàn)片晶圓的DRAM工廠(chǎng)為例，推行Tahoe技術(shù)可以為其降低每年1000萬(wàn)美元的成本。2019年1月，第一臺(tái)Tahoe成功交付并按時(shí)完成技術(shù)評(píng)估。

盛美半導(dǎo)體預(yù)計(jì)，SAPS、TEPO、和Tahoe三個(gè)產(chǎn)線(xiàn)的產(chǎn)品將占據(jù)總規(guī)模為25-27億美元的單晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的一半以上。

值得一提的是，盛美半導(dǎo)體主要客戶(hù)SK海力士、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、中芯國(guó)際和華力微電子正在致力籌備新的晶圓廠(chǎng)，盛美半導(dǎo)體預(yù)計(jì)前四大客戶(hù)2019年對(duì)清洗設(shè)備需求量高達(dá)221臺(tái)，同比2018年提升了63%。