荷蘭時(shí)間2019年7月17日，ASML Holding N.V.（ASML）公布了2019年第二季度財(cái)報(bào)

第二季度凈銷售額（net sales）為26億歐元，凈收入（net income）為4.76億歐元，毛利率（gross margin）為43.0％。

ASML預(yù)計(jì)2019年第三季度的凈銷售額（net sales）約為30億歐元，毛利率（gross margin）在43％至44％之間。

值得注意的市ASML二季度收到10臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，其中部分設(shè)備將被用于生產(chǎn)DRAM芯片。

CEO聲明

ASML總裁兼執(zhí)行長Peter Wennink表示 “ASML第二季度銷售額和毛利率高于預(yù)期，這得益于EUV系統(tǒng)制造效率提升和現(xiàn)場升級業(yè)務(wù)營收的增長，與第一季度相比我們已大幅排除之前的負(fù)面影響。

“在2019年下半年，我們看到內(nèi)存芯片客戶需求趨弱，而邏輯芯片（Logic）客戶需求走強(qiáng)。我們預(yù)計(jì)邏輯芯片（Logic）客戶強(qiáng)勁的需求將彌補(bǔ)在內(nèi)存芯片市場方面的需求減緩。邏輯芯片（Logic）市場的需求主要來自于客戶加速7奈米及以下先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)的投資?！?/p>

“我們在第二季度收到了10臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，其中部分設(shè)備將被用于生產(chǎn)DRAM芯片。我們對于2019年的整體銷售目標(biāo)維持不變，今年對于ASML來說仍是成長的一年。”

2019年第二季度產(chǎn)品和業(yè)務(wù)亮點(diǎn)

ASML持續(xù)強(qiáng)化EUV光刻系統(tǒng)NXE：3400C的量產(chǎn)效能，不僅在ASML廠內(nèi)圓滿展示每小時(shí)曝光超過170片晶圓的實(shí)力，在客戶實(shí)際生產(chǎn)內(nèi)存芯片的制造環(huán)境下，也成功達(dá)到每天曝光超過2,000片晶圓的成果。

ASML已同意將EUV光罩護(hù)膜 (pellicle) 組裝技術(shù)授權(quán)給日企三井化學(xué)公司 (Mitsui Chemicals)。未來，三井化學(xué)將能夠?yàn)槲覀兊目蛻籼峁┐笈康墓庹肿o(hù)膜組裝及銷售服務(wù)。同時(shí)，ASML將繼續(xù)與其合作伙伴共同開發(fā)下一代光罩護(hù)膜，持續(xù)提升EUV光罩護(hù)膜效能。

展望

展望2019年第三季度，ASML預(yù)估銷售凈額可達(dá)30億歐元，毛利率約在43~44%。研發(fā)費(fèi)用約4.95億歐元，管理支出費(fèi)用 (SG&A) 約1.25億歐元。ASML預(yù)估2019年的年化有效稅率約為9%。

ASML的客戶包括臺(tái)積電、三星、英特爾、美光等，從預(yù)估來看，下半年包括DRAM、NAND Flash等記憶體市場仍走弱，臺(tái)積電代工的邏輯芯片需求走強(qiáng)。

ASML今日發(fā)布2019年第2季財(cái)報(bào)，根據(jù)艾斯摩爾公布的資料顯示，2019 年第2 季的營收為26 億歐元，較第1 季的22.291 億歐元，上漲13.63%。凈收入4.76 億歐元，也較第1 季的3.55 億歐元，上漲34.08%。毛利率 43%，較第1 季的41.6%，成長1.4 個(gè)百分點(diǎn)。因上一季財(cái)報(bào)會(huì)議，艾司摩爾預(yù)估2019 年第2 季的營收將介于25.0 億至26.0 億歐元，毛利率則是預(yù)估在41% 到42% 之間，因此就公布的業(yè)績來看，整體表現(xiàn)優(yōu)于市場預(yù)期。

ASML 總裁暨執(zhí)行長Peter Wennink 表示，受惠于EUV 系統(tǒng)制造效率提升和現(xiàn)場升級業(yè)務(wù)營收的挹注，艾司摩爾2019 年第2 季的營收和毛利率都優(yōu)于先前財(cái)測。而對于2019 下半年，目前看到記憶體客戶需求趨弱，而邏輯客戶的需求走強(qiáng)。因此，預(yù)期邏輯芯片客戶的強(qiáng)勁需求，預(yù)計(jì)將可補(bǔ)償在記憶體市場方面的需求減緩。

Peter Wennink 強(qiáng)調(diào)，邏輯芯片市場的需求主要來自于客戶加速7 納米及以下先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)的投資。而艾司摩爾在2019 年第2 季總計(jì)接獲10 臺(tái)EUV 極紫外光系統(tǒng)的訂單。當(dāng)中有部分將被用于生產(chǎn)DRAM 芯片。至于，面對當(dāng)前市場諸多不確定因素下，艾司摩爾2019 年的整體營收目標(biāo)將維持不變，2019 年對艾司摩爾來說仍是成長的一年。

ASML在第2季接獲10臺(tái)EUV極紫外光系統(tǒng)的訂單，當(dāng)中有部分將被用于生產(chǎn)DRAM芯片。公司對2019年的整體營收目標(biāo)維持不變，今年對于ASML來說仍是成長的1年。

此外，ASML 已同意將EUV 光罩護(hù)膜(pellicle) 組裝技術(shù)，授權(quán)給日商三井化學(xué)，未來三井化學(xué)將能為ASML 客戶，提供大量的組裝與光罩護(hù)膜銷售。同時(shí)，ASML 將繼續(xù)與其合作伙伴，共同開發(fā)下一代光罩護(hù)膜，持續(xù)改善EUV 光罩護(hù)膜效能。

ASML正在研發(fā)下一代EUV***：性能提升70%

EUV***未來還能怎么發(fā)展？2016年ASML公司宣布斥資20億美元收購德國蔡司公司25%的股份，并投資數(shù)億美元合作研發(fā)新一代透鏡，而ASML這么大手筆投資光學(xué)鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV***。

日前韓媒報(bào)道稱，ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV***，與現(xiàn)有的***相比，二代EUV***最大的變化就是High NA（高數(shù)值孔徑）透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代***的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大***核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。

在這個(gè)問題上，ASML去年10月份就宣布與IMEC比利時(shí)微電子中心合作研發(fā)新一代EUV***，目標(biāo)是將NA從0.33提升到0.5以上，而從***的分辨率公式——***分辨率=k1*λ/NA中可以看出，NA數(shù)字越大，***分辨率越高，所以提高NA數(shù)值孔徑是下一代EUV***的關(guān)鍵，畢竟現(xiàn)在EUV極紫外光已經(jīng)提升過一次了。

之前ASML公布的新一代EUV***的量產(chǎn)時(shí)間是2024年，不過最新報(bào)道稱下一代EUV***是2025年量產(chǎn)，這個(gè)時(shí)間上臺(tái)積電、三星都已經(jīng)量產(chǎn)3nm工藝了，甚至開始進(jìn)軍2nm、1nm節(jié)點(diǎn)了。