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      標簽　>　光刻機

      光刻機

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      文章：1107個 瀏覽：48121次 帖子：5個

      光刻機技術(shù)

      簡單梳理芯片制造的基本步驟

      從光刻機出來后還要經(jīng)歷曝光后的烘焙，簡稱后烘。這一步的目的是通過加熱讓光刻膠中的光化學反應充分完成，可以彌補曝光強度不足的問題。

      2023-02-16 標簽：芯片芯片制造光刻機 1.0萬 0

      ***的簡易工作原理圖 掩模版都有哪些種類？

      光刻掩模版，別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形，實現(xiàn)對光線的遮擋或透過功能，是微電子光刻工...

      2023-02-13 標簽：集成電路光刻機 2724 0

      國產(chǎn)***能否拯救中國半導體行業(yè)？

      6年以作者的認知我是認為不太可能達成，但就當他可能吧，6年后我們才能擁有28nm全打通的國產(chǎn)蝕刻設備，與網(wǎng)路上鋪天蓋地的蝕刻我們已能做到5nm是不是有如...

      2023-01-17 標簽：光刻機量子計算 3820 0

      淺談ASML EUV光刻機路線圖

      目前主力出貨的TWINSCAN NXE: 3600D套刻精度為1.1nm，曝光速度30 mJ/cm2，每小時曝光160片晶圓，年產(chǎn)量為140萬片。

      2022-12-21 標簽：光刻機EUV 3664 0

      一文解析光刻機的工作原理

      利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

      2022-12-01 標簽：集成電路光刻機 6237 0

      一文詳解光刻機的工作原理

      　　是的！光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相。機。相機的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過相機的...

      2022-11-21 標簽：光刻機 8377 0

      看一下EUV光刻的整個過程

      EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人...

      2022-10-10 標簽：光刻機EUVASML 6250 0

      一文解析UCIe技術(shù)細節(jié)

      UCIe[4]是一種開放的行業(yè)標準互連，為異構(gòu)芯片間提供了高帶寬、低延遲、高電源效率和高性價比的封裝內(nèi)連接，以滿足整個計算系統(tǒng)的需求。

      2022-10-10 標簽：封裝光刻機異構(gòu)芯片 3534 0

      高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)的好處

      隨著光刻膠層變得更薄，整體光刻膠的特性變得不那么重要，并且光刻膠（暴露與否）與顯影劑和底層之間的界面變得更加重要。

      2022-09-21 標簽：光刻機EUV光刻膠 1226 0

      光刻工藝的8個基本步驟 光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理

      摩爾定律 Intel創(chuàng)始人之一摩爾1964年提出，大約每隔12個月： 1）。芯片能力增加一倍、芯片價格降低- -倍; 2）。廣大用戶的福音、行業(yè)人...

      2022-08-29 標簽：光刻光刻機 1.2萬 0

      EUV光刻技術(shù)出現(xiàn)新的挑戰(zhàn)：3nm節(jié)點的金屬間距約為22nm

      22 nm 節(jié)距quasar illumination的較小部分使得最低衍射級避免了遮擋可以安全使用，但填充的pupil不到 20%，這再次意味著額外的...

      2022-08-10 標簽：光刻機光刻技術(shù)EUV 1486 0

      芯片本質(zhì)是什么 芯片制作為什么那么難

      芯片本質(zhì)是什么 芯片制作為什么那么難

      2022-04-19 標簽：芯片晶圓光刻機 2.4萬 0

      SPM光刻工藝的研究報告

      SPM光刻工藝的研究報告

      在這篇文章中，我們?nèi)A林科納演示了在鈦薄膜上形成納米尺度陽極氧化物的設備，以及在接觸或半接觸模式下使用NTMDT公司的求解器PROTM AFM對其進行表征。

      2022-02-08 標簽：電極光刻光刻機 2159 0

      一文詳解光刻機的工作原理

      一文詳解光刻機的工作原理

      光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。

      2020-10-16 標簽：光刻機 31.5萬 1

      ASML光刻機的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析

      ASML光刻機的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)解析

      光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過...

      2020-10-09 標簽：光刻機ASML 1.1萬 0

      光刻機市場簡析 國產(chǎn)光刻機今年能否進入實際生產(chǎn)環(huán)節(jié)

      光刻機市場簡析 國產(chǎn)光刻機今年能否進入實際生產(chǎn)環(huán)節(jié)

      中科院去年宣布進軍光刻機，相信在量子芯片、光子芯片、第三代半導體等領域中國可以實現(xiàn)彎道超車的。

      2021-01-20 標簽：光刻機28nmASML 7173 0

      中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的利器——IP核

      中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的利器——IP核

      2020-09-22 標簽：半導體IP核光刻機 3645 0

      提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機的發(fā)展情況

      提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機的發(fā)展情況

      作為光刻工藝中最重要設備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況...

      2020-08-28 標簽：光刻機 1.4萬 1

      中國半導體設備現(xiàn)在的狀態(tài)到底是怎么樣的

      半導體設備位于整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈的上游，在新建晶圓廠中半導體設備支出的占比普遍達到 80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下：廠房 20%、晶圓制造...

      2020-01-21 標簽：電子元器件半導體光刻機 6437 0

      光刻技術(shù)的原理詳細說明

      光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)...

      2019-12-21 標簽：芯片集成電路光刻機 2.3萬 0

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        Wi-Fi模塊又名串口Wi-Fi模塊，屬于物聯(lián)網(wǎng)傳輸層，功能是將串口或TTL電平轉(zhuǎn)為符合Wi-Fi無線網(wǎng)絡通信標準的嵌入式模塊，內(nèi)置無線網(wǎng)絡協(xié)議IEEE802.11b.g.n協(xié)議棧以及TCP/IP協(xié)議棧。傳統(tǒng)的硬件設備嵌入Wi-Fi模塊可以直接利用Wi-Fi聯(lián)入互聯(lián)網(wǎng)，是實現(xiàn)無線智能家居、M2M等物聯(lián)網(wǎng)應用的重要組成部分。
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        熱塑性聚氨酯彈性體又稱熱塑性聚氨酯橡膠，簡稱TPU，是一種（AB）n型嵌段線性聚合物，A為高分子量（1000~6000）的聚酯或聚醚，B為含2~12直鏈碳原子的二醇，AB鏈段間化學結(jié)構(gòu)是二異氰酸酯。熱塑性聚氨酯橡膠靠分子間氫鍵交聯(lián)或大分子鏈間輕度交聯(lián)，隨著溫度的升高或降低，這兩種交聯(lián)結(jié)構(gòu)具有可逆性。
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