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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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一文看懂a(chǎn)sml光刻機(jī)工作原理及基本構(gòu)造
在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中,投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機(jī),光刻機(jī)同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進(jìn)步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光...
國產(chǎn)光刻機(jī)達(dá)到幾納米_中國光刻機(jī)的發(fā)展史
從2009年開始算起,中國研究團(tuán)隊一路攻堅克難,國產(chǎn)首套90納米高端光刻機(jī)已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成驗收。這意味著,中國半導(dǎo)體材料和...
2018-04-10 標(biāo)簽:光刻機(jī) 24.6萬 0
光刻機(jī)價格多少_還有比光刻機(jī)更貴的設(shè)備嗎
光刻機(jī)是芯片制造中光刻環(huán)節(jié)的核心設(shè)備, 技術(shù)含量、價值含量極高。 光刻機(jī)涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項先進(jìn)技術(shù),...
2018-04-10 標(biāo)簽:光刻機(jī) 3.7萬 0
光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、...
2018-04-10 標(biāo)簽:光刻機(jī) 13.4萬 0
光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn)...
2018-04-08 標(biāo)簽:半導(dǎo)體器件光刻機(jī)半導(dǎo)體芯片 16.9萬 0
套刻誤差的含義、產(chǎn)生原因以及和對準(zhǔn)誤差的區(qū)別
光刻機(jī)的工作過程是這樣的:逐一曝光完硅片上所有的場(field),亦即分步,然后更換硅片,直至曝光完所有的硅片;當(dāng)對硅片進(jìn)行工藝處理結(jié)束后,更換掩模,接...
本文以光刻機(jī)為中心,主要介紹了光刻機(jī)的分類、光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 標(biāo)簽:光刻機(jī) 16.5萬 0
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