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標(biāo)簽 > 拋光
拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行的修飾加工。
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半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)替代材料 | CMP化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Planarization)
一、CMP工藝與拋光材料的核心價(jià)值化學(xué)機(jī)械拋光(ChemicalMechanicalPlanarization,CMP)是半導(dǎo)體制造中實(shí)現(xiàn)晶圓表面全局平...
全球CMP拋光液大廠突發(fā)斷供?附CMP拋光材料企業(yè)盤(pán)點(diǎn)與投資邏輯(21361字)
(CMP)DSTlslurry斷供:物管通知受臺(tái)灣出口管制限制,F(xiàn)ab1DSTSlury(料號(hào):M2701505,AGC-TW)暫停供貨,存貨僅剩5個(gè)月...
2025-07-02 標(biāo)簽:CMP半導(dǎo)體制造拋光 888 0
獲悉,近日,北京特思迪半導(dǎo)體設(shè)備有限公司銷(xiāo)售總監(jiān)梁浩先生出席了由DT新材料主辦的“第八屆國(guó)際碳材料大會(huì)暨產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)”,并分享了《精密磨拋技術(shù)在金剛石材料...
半導(dǎo)體制造是典型的“精度至上”領(lǐng)域,尤其在前道晶圓加工和后道封裝環(huán)節(jié)中,研磨(Grinding)與拋光(Polishing)技術(shù)直接決定了器件的性能和良...
SK海力士研發(fā)可重復(fù)使用CMP拋光墊技術(shù)
需要指出的是,CMP 技術(shù)通過(guò)化學(xué)與機(jī)械作用使得待拋光材料表面達(dá)到所需平滑程度。其中,拋光液中化學(xué)物質(zhì)與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成易于拋光的軟化層。拋光...
神工股份:硅零部件業(yè)務(wù)訂單飽滿,是北方華創(chuàng)和中微公司供應(yīng)商
潘連勝表示:“神工股份公司的硅配件產(chǎn)品在生產(chǎn)能力計(jì)劃、研究開(kāi)發(fā)能力、技術(shù)儲(chǔ)備、顧客普及等方面處于國(guó)內(nèi)領(lǐng)先水平。”目前,這項(xiàng)工作仍處于產(chǎn)能提高和業(yè)務(wù)拓展階...
2023-12-11 標(biāo)簽:監(jiān)測(cè)系統(tǒng)拋光半導(dǎo)體行業(yè) 1348 0
芯秦微獲A+輪融資,用于化學(xué)機(jī)械拋光液產(chǎn)線建設(shè)
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)是目前最主流的晶圓拋光技術(shù),拋光過(guò)程中,晶圓廠會(huì)根據(jù)每一步晶圓芯片平坦度的加工要求,選擇符合去除率(MRR)和表面粗糙度(Ra)等...
CMP拋光液市場(chǎng)高速增長(zhǎng),到2023年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到25億美元
得益于半導(dǎo)體業(yè)界的繁榮,世界cmp拋光液市場(chǎng)正在經(jīng)歷明顯的增長(zhǎng)。cmp拋光液是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵成分,在實(shí)現(xiàn)集成電路制造的精度和效率方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用。...
2023-09-14 標(biāo)簽:CMP半導(dǎo)體制造拋光 1638 0
機(jī)器人復(fù)雜曲面打磨拋光主軸 全自動(dòng)高精度打磨很簡(jiǎn)單
速科德Kasite打磨拋光主軸主要對(duì)高精度零件的加工處理,如汽車(chē)零部件、光纖接插件陶瓷加工、義齒加工雕銑等行業(yè)。這些高精度零件如果在拋光打磨過(guò)程中稍有誤...
如何讓自動(dòng)拋光設(shè)備達(dá)到理想的拋光效果
一、自動(dòng)拋光機(jī)的拋光效果因素自動(dòng)拋光機(jī)的拋光效果取決于多個(gè)因素,除了自動(dòng)拋光機(jī)本身的質(zhì)量以外,還包括使用工藝、選用什么樣的拋光輔料,要拋光物件材質(zhì),操作...
很早以前看過(guò)這樣一個(gè)報(bào)道:德國(guó)、日本等國(guó)家的科學(xué)家耗時(shí)5年時(shí)間,花了近千萬(wàn)元打造了一個(gè)高純度的硅-28材料制成的圓球,這個(gè)1kg純硅球要求超精密加工研磨...
超精密兩面拋光加工是化學(xué)機(jī)械拋光的應(yīng)用(CMP)技術(shù)性,借助產(chǎn)品工件、碾磨顆粒物、拋光劑和拋光輪的機(jī)械作用,在工件打磨拋光環(huán)節(jié)中,發(fā)生部分持續(xù)高溫和髙壓...
2022-11-01 標(biāo)簽:拋光 4939 0
拋光工藝---五金壓鑄件拋光工藝打磨部分有三個(gè)工序:粗磨、半精磨、精磨
1.粗磨:要達(dá)到的目標(biāo)是去掉壓鑄件表面及邊緣的毛刺,以及在上步工序出現(xiàn)的碰傷,達(dá)到邊緣圓角初步成型,水平面和垂直面基本無(wú)大劃痕,無(wú)碰傷。;2.半精磨:對(duì)...
2022-06-13 標(biāo)簽:拋光 3954 0
目前常用的不銹鋼拋光方法有以下幾種:1機(jī)械拋光機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等...
2022-05-13 標(biāo)簽:拋光 4839 0
功率放大器在橢圓超聲輔助機(jī)械拋光研究中的應(yīng)用
實(shí)驗(yàn)名稱(chēng): 功率放大器 基于二維橢圓超聲振子的制作和振動(dòng)特性測(cè)試應(yīng)用 實(shí)驗(yàn)?zāi)康模簷z測(cè)并驗(yàn)證所制作的壓電陶瓷振子的實(shí)際諧振頻率是否和設(shè)計(jì)相同 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容: ...
引言 我們研究了四種硅在高頻水溶液中的陽(yáng)極電流-電勢(shì)特性。根據(jù)不同電位陽(yáng)極氧化的樣品的表面條件,電流-電位曲線上通常有三個(gè)區(qū)域:電流隨電位指數(shù)變化區(qū)域的...
眾所周知,掃描電子顯微鏡是石油地質(zhì)行業(yè)必不可少的研究檢測(cè)儀器設(shè)備,可以進(jìn)行沉積巖中有機(jī)質(zhì)母質(zhì)類(lèi)型的判別、對(duì)粘土礦物的研究、對(duì)鈣質(zhì)超微化石的研究、對(duì)儲(chǔ)集巖...
氬離子拋光儀在石油地質(zhì)行業(yè)的應(yīng)用
眾所周知,掃描電子顯微鏡是石油地質(zhì)行業(yè)必不可少的研究檢測(cè)儀器設(shè)備,可以進(jìn)行沉積巖中有機(jī)質(zhì)母質(zhì)類(lèi)型的判別、對(duì)粘土礦物的研究、對(duì)鈣質(zhì)超微化石的研究、對(duì)儲(chǔ)集巖...
中國(guó)南方海相頁(yè)巖孔隙結(jié)構(gòu)特征
摘要 我國(guó)南方古生界頁(yè)巖成熟度高,頁(yè)巖儲(chǔ)層孔隙、裂隙類(lèi)型多樣,微米— 納米級(jí)孔隙發(fā)育。正確認(rèn)識(shí)頁(yè)巖孔隙特征是研究上述地區(qū)頁(yè)巖氣賦存狀態(tài),儲(chǔ)層性質(zhì)與流體間...
氬離子拋光制樣讓你的材料樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)真實(shí)展現(xiàn)
氬離子拋光技術(shù)是對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光,去除損傷層,從而得到高質(zhì)量樣品,用于在 SEM,光鏡或者掃描探針顯微鏡上進(jìn)行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC ...
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