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標(biāo)簽 > 硅片
硅片,是制作集成電路的重要材料,通過(guò)對(duì)硅片進(jìn)行光刻、離子注入等手段,可以制成各種半導(dǎo)體器件。在米粒大的硅片上,已能集成16萬(wàn)個(gè)晶體管,這是科學(xué)技術(shù)進(jìn)步的又一個(gè)里程碑。
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全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)發(fā)展情況分析
2021年全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)規(guī)模為113億美元。預(yù)計(jì)到2030 年將達(dá)到 150 億美元,復(fù)合年增長(zhǎng)率為 3.6%在預(yù)測(cè)期間(2022-2030 年)。...
近日,有媒體報(bào)道稱(chēng),某企業(yè)在互動(dòng)平臺(tái)回復(fù)投資者提問(wèn)時(shí)表示,用于28納米以下制程的12英寸硅片已納入《瓦森納協(xié)議》。隨后有媒體稱(chēng),其董秘在朋友圈做了相關(guān)解...
就在不久前,美國(guó)商務(wù)部工業(yè)和安全局(BIS)宣布,將超寬帶隙基板半導(dǎo)體材料氧化鎵(Ga2O3),設(shè)計(jì)GAAFET架構(gòu)的先進(jìn)芯片EDA軟件工具等列入商業(yè)管...
硅片價(jià)格年內(nèi)九連漲,中國(guó)光伏龍頭海外被訴違約,光伏產(chǎn)業(yè)如何逆風(fēng)翻盤(pán)?
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)近日,隸屬于華納旗下的《財(cái)富》雜志公布了2022年中國(guó)500強(qiáng),其中有82家能源企業(yè),13家光伏企業(yè)榜上有名。據(jù)國(guó)家能源局...
2022-07-29 標(biāo)簽:光伏產(chǎn)業(yè)硅片 2796 0
晶片清洗和表面處理的重要性 RCA清洗過(guò)程的詳細(xì)步驟
硅集成電路(IC)的制造需要500-600個(gè)工藝步驟,這取決于器件的具體類(lèi)型。在將完整的晶片切割成單個(gè)芯片之前,大多數(shù)步驟都是作為單元工藝來(lái)執(zhí)行的。大約...
芯片的主要成分是硅。首先芯片的原料是晶圓,而晶圓的成分是硅,硅是由石英沙所提煉出來(lái)的,晶圓便是硅元素加以純化,然后將這些純化的硅制成硅晶棒,就成了制造集...
中環(huán)半導(dǎo)體榮獲“2022全球光伏20強(qiáng)”等四項(xiàng)大獎(jiǎng)
6月10日,中環(huán)半導(dǎo)體總經(jīng)理沈浩平受邀出席由365光伏主辦的全球新能源領(lǐng)袖企業(yè)高層論壇,與光伏領(lǐng)袖共話光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與技術(shù)發(fā)展路徑。
寧夏回族自治區(qū)黨委書(shū)記一行到中欣晶圓調(diào)研
2022年4月16 日,寧夏回族自治區(qū)黨委書(shū)記梁言順一行調(diào)研疫情防控和經(jīng)濟(jì)發(fā)展工作時(shí)來(lái)到寧夏中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司(下簡(jiǎn)稱(chēng)“寧夏中欣晶圓”)。
薄晶片已成為各種新型微電子產(chǎn)品的基本需求。 需要更薄的模具來(lái)適應(yīng)更薄的包裝。 使用最后的濕蝕刻工藝在背面變薄的晶圓與標(biāo)準(zhǔn)的機(jī)械背面磨削相比,應(yīng)力更小。 ...
為了形成膜結(jié)構(gòu),單晶硅片已經(jīng)用氫氧化鉀和氫氧化鉀-異丙醇溶液進(jìn)行了各向異性蝕刻,觀察到蝕刻速率強(qiáng)烈依賴于蝕刻劑溫度和濃度,用于蝕刻實(shí)驗(yàn)的掩模圖案在硅晶片...
200?C下使用紫外增強(qiáng)O2GPC去除聚乙EG的實(shí)驗(yàn)
在襯底溫度、壓力和紫外暴露等不同工藝條件下,在200?C下使用紫外增強(qiáng)O2GPC去除聚乙EG的實(shí)驗(yàn),通過(guò)在200?C的襯底溫度下,在150秒內(nèi)去除約20...
利用氫氧化鉀蝕刻和銀催化蝕刻,在晶體硅片上生成了錐體分層結(jié)構(gòu),經(jīng)氟化后表現(xiàn)出較強(qiáng)的抗反射和超疏水性,利用紫外輔助壓印光刻技術(shù)將分層硅結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到NOA63...
本文研究了用金剛石線鋸切和標(biāo)準(zhǔn)漿料鋸切制成的180微米厚5英寸半寬直拉單晶硅片與蝕刻時(shí)間的關(guān)系,目的是確定FAS晶片損傷蝕刻期間蝕刻速率降低的根本原因,...
刻蝕速率是指在刻蝕過(guò)程中去除硅片表面材料的速度通常用?/min表示, 刻蝕窗口的深度稱(chēng)為臺(tái)階高度。 為了高的產(chǎn)量, 希望有高的刻蝕速率。 在采用單片工藝...
在半導(dǎo)體制造的干燥工藝中,水印抑制是重要的課題,對(duì)此,IPA直接置換干燥是有效的。水印的生成可以通過(guò)三相界面共存模型進(jìn)行說(shuō)明。另外就馬蘭戈尼效果進(jìn)行說(shuō)明。
用兆頻超聲波能量從有機(jī)溶劑中的硅片上去除顆粒的實(shí)驗(yàn)
本文介紹了用兆頻超聲波能量從有機(jī)溶劑中的硅片上去除顆粒的實(shí)驗(yàn)。納米粒子首先通過(guò)可控污染工藝沉積在硅晶片上。對(duì)于新沉積和老化的顆粒,研究了作為兆頻超聲波功...
硅板法對(duì)于評(píng)估硅晶片表面上有機(jī)物質(zhì)的時(shí)間依賴性行為
摘要 已開(kāi)發(fā)出一種稱(chēng)為硅板法的方法,該方法使用具有清潔簡(jiǎn)單過(guò)程的小型取樣裝置,以直接評(píng)估來(lái)自潔凈室空氣的硅晶片表面上的有機(jī)污染物。使用這種方法,首次通過(guò)...
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