等離子

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如果溫度不斷升高，氣體將會(huì)發(fā)生怎樣的變化呢？科學(xué)家告訴我們，這時(shí)構(gòu)成分子的原子發(fā)生分離，形成為獨(dú)立的原子，如氮分子會(huì)分裂成兩個(gè)氮原子，我們稱這種過程為氣體中分子的離解。

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等離子技術(shù)

用于測量大范圍的等離子體密度的標(biāo)量微波反射計(jì)的設(shè)計(jì)

微波測量方法是將電磁波作為探測束入射到等離子體中，對(duì)等離子體特性進(jìn)行探測，不會(huì)對(duì)等離子體造成污染。常規(guī)微波反射計(jì)也是通過測量電磁波在等離子體截止頻率時(shí)的...

2018-11-29 標(biāo)簽：等離子電磁波測量 3997 0

等離子體技術(shù)廢水處理工藝工藝流程

等離子體技術(shù)廢水處理工藝工藝流程脈沖電源液中放電污水處理系統(tǒng)由等離子

2010-02-22 標(biāo)簽：等離子 3622 0

基于等離子態(tài)的四種物質(zhì)狀態(tài)

物質(zhì)狀態(tài)亦可用相的轉(zhuǎn)變來表達(dá)。相的轉(zhuǎn)變可以是結(jié)構(gòu)上的轉(zhuǎn)變又或者是出現(xiàn)一些獨(dú)特的性質(zhì)。

2022-10-09 標(biāo)簽：等離子容器二氧化碳 3585 0

如何分離對(duì)反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)有損害的余熱

據(jù)懷特介紹，本質(zhì)上講聚變堆內(nèi)部排熱可以與汽車排氣系統(tǒng)進(jìn)行類比。在新設(shè)計(jì)中，聚變堆的“排氣管”比現(xiàn)今任何聚變設(shè)計(jì)都更長、更寬，使得它能更有效地排出余熱。但...

2018-10-18 標(biāo)簽：等離子 MIT 3576 0

半導(dǎo)體工藝之介電蝕刻工藝中等離子體的蝕刻處理

摘要本文主要研究了從接觸刻蝕、溝槽刻蝕到一體刻蝕的介質(zhì)刻蝕工藝中的刻蝕后處理。優(yōu)化正電子發(fā)射斷層掃描步驟，不僅可以有效地去除蝕刻過程中在接觸通孔的側(cè)壁...

2021-12-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體等離子蝕刻 3562 0

半導(dǎo)體制造之等離子工藝詳解

與濕式刻蝕比較，等離子體刻蝕較少使用化學(xué)試劑，因此也減少了化學(xué)藥品的成本和處理費(fèi)用。

2022-12-29 標(biāo)簽：晶圓工藝等離子 2931 0

平板電極的大氣壓納秒脈沖等離子發(fā)射光譜是什么

在大氣壓條件下獲得較大尺度非平衡等離子體的方法分為兩類：其一是增加放電的表面與體積比值，使放電產(chǎn)生的熱量得到及時(shí)釋放，從而讓放電遠(yuǎn)離熱平衡狀態(tài)。

2020-04-01 標(biāo)簽：等離子納秒脈沖 2804 0

遠(yuǎn)程等離子體選擇性蝕刻的新途徑

為了提供更優(yōu)良的靜電完整性，三維(3D)設(shè)計(jì)（如全圍柵(GAA)場電子晶體管(FET )）預(yù)計(jì)將在互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體技術(shù)中被采用。3D MOS架構(gòu)為蝕...

2023-06-14 標(biāo)簽：半導(dǎo)體等離子 FET 2628 0

淺析多次等離子清洗對(duì)引線鍵合質(zhì)量可靠性的影響

等離子清洗的反應(yīng)機(jī)理如圖 1 所示，通常包括以下過程：反應(yīng)氣體被離解為等離子體；等離子體作用于固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子與殘余物脫離固...

2023-02-10 標(biāo)簽：等離子框架電荷 2246 0

等離子去膠新工藝簡介

目前,在國內(nèi)外半導(dǎo)體器件制造工藝中,用等離子去膠工藝代替常規(guī)化學(xué)溶劑去膠及高溫氧氣去膠已獲得顯著效果,越來越引起半導(dǎo)體器件制造者的重視。由于該工藝操作簡...

2022-08-15 標(biāo)簽：半導(dǎo)體等離子制造工藝 2189 0

半導(dǎo)體制造之等離子工藝

由下圖可以看出當(dāng)氣體密度較高時(shí)MFP較短(a);而當(dāng)氣體密度較低時(shí)，MFP就較長(b)。大粒子的截面積較大，掃過的空間也較大。與一般或較小的離子相比，大...

2022-12-05 標(biāo)簽：工藝等離子刻蝕 1998 0

玻璃通孔技術(shù)研究進(jìn)展

聚焦放電主要包括兩個(gè)步驟：1) 將玻璃放在兩個(gè)電極之間，通過控制放電對(duì)玻璃局部區(qū)域進(jìn)行放電熔融；2)通過焦耳熱使玻璃內(nèi)部產(chǎn)生高應(yīng)力，引起內(nèi)部高壓和介電擊穿。

2024-04-26 標(biāo)簽：等離子光刻顯微鏡 1781 0

等離子清洗在引線框架封裝工藝中有哪些應(yīng)用

本文以 SOP008L 為例，通過對(duì)等離子清洗前后引線框架水滴角對(duì)比試驗(yàn)，工藝實(shí)驗(yàn)達(dá)到預(yù)期的效果，符合封裝工藝的實(shí)際情況。研究結(jié)論對(duì)提高封裝產(chǎn)品的可靠性...

2023-02-19 標(biāo)簽：等離子封裝工藝 1579 0

等離子清洗技術(shù)原理??、分類???、特點(diǎn)、應(yīng)用及發(fā)展趨勢

??? 等離子清洗技術(shù)是一種新型的表面處理技術(shù)，它通過利用等離子體中的活性粒子與材料表面的化學(xué)反應(yīng)，去除材料表面的污染物和雜質(zhì)，從而改善材料的表面性能。...

2024-11-26 標(biāo)簽：等離子清洗技術(shù) 1409 0

西安光機(jī)所在激光等離子體光譜研究方面獲進(jìn)展

首次提出并利用激光誘導(dǎo)等離子體沖擊波與外加電場空間零弧度耦合方式，實(shí)現(xiàn)有效放電區(qū)域全方位覆蓋激光等離子體中粒子的擴(kuò)散方向，離子的動(dòng)力學(xué)特征從原始的向外擴(kuò)...

2023-02-08 標(biāo)簽：電容器等離子電弧 1400 0

金屬蝕刻殘留物對(duì)對(duì)等離子體成分和均勻性的影響

本文研究了金屬蝕刻殘留物，尤其是鈦和鉭殘留物對(duì)等離子體成分和均勻性的影響。通過所謂的漂浮樣品的x射線光電子能譜分析來分析室壁，并且通過光發(fā)射光譜來監(jiān)測C...

2022-05-05 標(biāo)簽：等離子蝕刻晶片 1223 0

等離子顯示器降功耗技術(shù)

等離子顯示器降功耗技術(shù) 2009年初國內(nèi)外多家媒體上曾出現(xiàn)關(guān)于歐盟要禁售等離子電視的報(bào)道。歐盟電視產(chǎn)業(yè)研究協(xié)會(huì)的負(fù)責(zé)人Paul Gray否認(rèn)了這一說

2009-08-27 標(biāo)簽：等離子 1138 0

μPD16305在等離子體顯示器中的應(yīng)用

μPD16305在等離子體顯示器中的應(yīng)用介紹了NEC公司生產(chǎn)的專用于等離子體顯示器的行驅(qū)動(dòng)芯片μPD16305的性能特點(diǎn)及其在PDP顯示系統(tǒng)中的應(yīng)用...

2009-05-14 標(biāo)簽：等離子 1088 0

制造等離子納米金剛石

近日，Nano Letters（《納米快報(bào)》）在線發(fā)表武漢大學(xué)高等研究院梁樂課題組和約翰霍普金斯大學(xué)Ishan Barman課題組關(guān)于高效構(gòu)建等離子增強(qiáng)...

2023-06-26 標(biāo)簽：等離子納米金剛石 1063 0

西安光機(jī)所等在激光等離子體光譜研究中獲進(jìn)展

針對(duì)上述問題，該團(tuán)隊(duì)提出離子動(dòng)力學(xué)調(diào)制方法，對(duì)克服傳統(tǒng)D-LIBS放電能耗大、安全風(fēng)險(xiǎn)高、環(huán)境危害大等不利因素，同時(shí)提高分析靈敏度具有顯著改善效果。該工...

2023-02-10 標(biāo)簽：激光等離子光譜 912 0

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Verilog HDL是一種硬件描述語言（HDL:Hardware Description Language），以文本形式來描述數(shù)字系統(tǒng)硬件的結(jié)構(gòu)和行為的語言，用它可以表示邏輯電路圖、邏輯表達(dá)式，還可以表示數(shù)字邏輯系統(tǒng)所完成的邏輯功能。
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在 Maxim Integrated，我們正在解決工程問題并支持設(shè)計(jì)創(chuàng)新，使我們的客戶能夠創(chuàng)造出塑造我們世界的產(chǎn)品。我們創(chuàng)新的高性能模擬和混合信號(hào)產(chǎn)品和技術(shù)使系統(tǒng)更小、更智能，同時(shí)增強(qiáng)了安全性并提高了能源效率。
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