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標(biāo)簽 > euv光刻機(jī)
極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具,是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機(jī),于2019年初交貨。
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只有阿斯麥能夠供應(yīng)的EUV光刻機(jī)到底有多難造?
在制造芯片的過程中,光刻工藝無疑最關(guān)鍵、最復(fù)雜和占用時間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸,是芯片生產(chǎn)中最核心的工藝,占晶圓制造耗時的40%到50%。...
2020-10-09 標(biāo)簽:晶圓光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 2558 0
IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)
摩爾定律還沒有結(jié)束。日媒報道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網(wǎng)上發(fā)布會。 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Va...
海思工程師成香餑餑!華為圍獵半導(dǎo)體人才?IC人才跳槽呈現(xiàn)哪些風(fēng)向標(biāo)
面臨美國制裁,華為海思一些項(xiàng)目無法開展,華為如何通過內(nèi)聘渠道發(fā)揮他們最大才能?華為挖人給行業(yè)帶來哪些影響?科創(chuàng)板開啟后,芯片企業(yè)崛起,給IC人才的脫穎而...
EUV光刻機(jī)的價值 芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片
作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備,光刻機(jī)一直牽動人心。事實(shí)上,制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。
2020-07-07 標(biāo)簽:ASMLEUV光刻機(jī) 3219 0
ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī):分辨率提升70% 逼近1nm極限
一、2021年的交付量將是2019年的兩倍左右 據(jù)國外媒體報道,在推出兩代極紫外光刻機(jī)之后,阿斯麥公司又已在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī),計劃2022年年初開...
2020-03-18 標(biāo)簽:光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 3073 0
近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也...
2020-02-29 標(biāo)簽:ASMLEUV光刻機(jī) 3.1萬 0
ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%
據(jù)韓媒報道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光...
2019-08-07 標(biāo)簽:半導(dǎo)體EUV光刻機(jī) 6591 0
ASML最新一代EUV設(shè)備2025年量產(chǎn)
當(dāng)前半導(dǎo)體制程微縮到10納米節(jié)點(diǎn)以下,包括開始采用的7納米制程,以及未來5納米、3納米甚至2納米制程,EUV極紫外光光刻技術(shù)已成為不可或缺的設(shè)備。藉由E...
2019-07-05 標(biāo)簽:半導(dǎo)體ASMLEUV光刻機(jī) 3097 0
在光刻機(jī)領(lǐng)域,荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場,在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份,7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域,美國這一年...
盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙,但是其未來應(yīng)用前景依然各方被看好。從長遠(yuǎn)角度來看,發(fā)展EUV技術(shù)是非常必要的。對此,林雨指出:“自上世紀(jì)九十年代起,中國...
2017-11-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)三星電子臺積電 1460 0
臺灣地區(qū)科技部長陳良基9日表示,半導(dǎo)體為產(chǎn)業(yè)競爭力核心,臺積電10納米制程已進(jìn)入量產(chǎn),2年后將進(jìn)入7納米,不到5年將進(jìn)入3納米、2納米,屆時將面臨物理極...
2017-02-13 標(biāo)簽:臺積電inteeuv光刻機(jī) 2992 0
EUV光刻工藝可用到2030年的1.5nm節(jié)點(diǎn)
推動科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎?這也不太可能,7nm工藝節(jié)點(diǎn)將開始應(yīng)用EUV光刻工藝,研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...
2017-01-22 標(biāo)簽:摩爾定律EUVEUV光刻機(jī) 3658 0
芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價為何能超1億歐元?
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)越來越重要,全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī),總價值超過20億歐元,折...
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